GOST R 71024-2023
用于光掩模的掩模板 术语和定义

Masked plates for photomasks. Terms and definitions


标准号
GOST R 71024-2023
发布
2023年
发布单位
GOST
当前最新
GOST R 71024-2023
 
 
适用范围
Настоящий стандарт распространяется на стеклянные заготовки, маскированные и резистовые пластины для фотошаблонов, применяемые в производстве полупроводниковых приборов и интегральных схем в радиоэлектронной аппаратуре, и устанавливает термины и определения понятий в области маскированных пластин для фотошаблонов. Термины, установленные настоящим стандартом, предназначены для применения во всех видах документации и литературы в области маскированных и резистовых пластин для фотошаблонов и контроля их качества, входящих в сферу работ по стандартизации и (или) использующих результаты этих работ

GOST R 71024-2023相似标准


推荐

科研人员提出一种生成“又宽又薄”新方法

该衍射光学器件通过调制振幅或相位,可以调控厚度、宽度旁瓣,从而突破高斯光束传播规律限制,在仅使用廉价柱透镜掩模板基础上就实现了薄而宽片。    该方法巧妙提出了一个片质量全局评价因子,用以表征片厚度、无衍射范围旁瓣之间制衡关系。理论实验表明,优化后掩模可将静态片无衍射范围扩大50%,同时使其旁瓣低于20%。...

七大芯片材料超全解析来袭,带您进一步了解半导体材料

膜版功能类似于传统照相机底片,用光刻机在原材料上刻蚀出相应图形,把不需要金属层胶层洗去,即得到成品。  膜基板生产完成后,进入掩模版制造商,在玻璃基板基础上进行研磨、抛光、镀铬、涂胶等生产环节,需要较高技术门槛,而后才能成为合格电子元器件。光刻胶  光刻胶可分为半导体光刻胶、平板显示光刻胶PCB光刻胶,其技术壁垒依次降低。  ...

为刀,助攻微纳器件制备 —无掩模UV光刻机重磅出击

特性此款无掩模步进式UV光刻机实力强劲,优势明显,主要表现在如下三个方面:01高分辨率专有设计投影路确保亚微米刻写精度,典型值可以达到几百纳米;图1 样例电极在5x - 100x显微镜下图样02无掩模光刻,所见即所得传统掩模板光刻需要针对特定形状器件制作专门掩模;在器件研发进程中,不停地设计制作掩模板耗费了大量成本时间。...

标量成像软件

这些步骤无缝集成在交互式对话框中,其中包括:几何定义,将计算限制在用户感兴趣区域背景扣减和平场校正例程,以解决相机暗电流、不均匀性、渐晕图像失真影响强度校正以补偿激光能量波动膜滤波器以剔除低强度低 SNR 区域使用空间(高斯)平滑滤波例程过滤噪声LIF信号标定需要记录处理指定校准条件下 LIF 图像,以量化示踪剂发射响应与感兴趣物理量之间关系。...





Copyright ©2007-2022 ANTPEDIA, All Rights Reserved
京ICP备07018254号 京公网安备1101085018 电信与信息服务业务经营许可证:京ICP证110310号