分会场 2:化学检测分析分会场时间:10 月 17 日 9:15-9:30演讲主题:ICP-MS/MS 测定高纯金属中的痕量磷、硫、硅 讲师:郭伟 安捷伦 ICP-MS 应用工程师内容摘要:Agilent 8800/8900 串联四极杆 ICP-MS/MS 通过第一级四级杆 1 个质量数的精准筛选和碰撞反应池中可控的化学反应,有效、可靠地消除了多原子干扰,进而实现对痕量元素 P、S 和 Si 的准确测定...
其中最重要的是盐酸(HCl),其主要用途是与过氧化氢和水配制成混合物用来清洁硅晶片的表面。由于半导体设备尺寸不断缩小,其生产中使用的试剂纯度变得越来越重要。ICP-MS具备精确测定纳克/升(ng/L,ppt)甚至更低浓度元素含量的能力,是最适合测量痕量及超痕量金属的技术。然而,常规的测定条件下,氩、氧、氢离子会与酸基体相结合,对待测元素产生多原子离子干扰。...
由于半导体设备尺寸不断缩小,其生产中使用的试剂纯度变得越来越重要。ICP-MS具备精确测定纳克/升(ng/L,ppt)甚至更低浓度元素含量的能力,是最适合测量痕量及超痕量金属的技术。然而,常规的测定条件下,氩、氧、氢离子会与酸基体相结合,对待测元素产生多原子离子干扰。如,对V+(51) 进行检测时去除 ClO+ 的干扰。...
电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS)可以轻松实现高纯试剂(清洗剂和刻蚀剂)中痕量元素杂质实验室和在线分析、单晶硅锭和晶圆中痕量元素分析、wafer 表面痕量元素分析 及RoHS 指令中铅(Pb)、镉(Cd)、汞(Hg)、六价铬(Cr ( VI ))等重金属元素的测定。而iCAP TQs ICP MS是信誉卓著的iCAP TQ ICP-MS的专用半导体版本。...
Copyright ©2007-2022 ANTPEDIA, All Rights Reserved
京ICP备07018254号 京公网安备1101085018 电信与信息服务业务经营许可证:京ICP证110310号