ASTM RR-F01-1013 1996
F1593-用高分辨率辉光放电质谱仪测定电子级铝中痕量金属杂质的测试方法
F1593-Test Method for Trace Metallic Impurities in Electronic Grade Aluminum by High Mass-Resolution Glow-Discharge Mass Spectrometer
- 标准号
- ASTM RR-F01-1013 1996
- 发布
- 1970年
- 发布单位
- /
ASTM RR-F01-1013 1996相似标准
推荐
哪里有辉光放电质谱检测仪器
国家有色金属及电子材料分析测试中心，拥有美国Thermo Fisher公司最新型号的Element GD辉光放电质谱仪(GDMS)，适用于金属中ppb级及其以上含量的杂质分析，可以检测5N、6N高纯铝、铜、锌、镍、钴、多晶硅中的痕量和超痕量杂质元素。...
哪里有辉光放电质谱检测仪器（GDMS）？
国家有色金属及电子材料分析测试中心，拥有美国Thermo Fisher公司最新型号的Element GD辉光放电质谱仪(GDMS)，适用于金属中ppb级及其以上含量的杂质分析，可以检测5N、6N高纯铝、铜、锌、镍、钴、多晶硅中的痕量和超痕量杂质元素。...
赋能创“芯” | 赛默飞助力半导体开启良率提升新征程！
赛默飞为半导体及相关行业的关键环节提供多层次技术支撑，为客户提供全方位的分析方案，电感耦合等离子体光谱仪（ICP-OES）、电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS）、高分辨电感耦合等离子体质谱仪（HR-ICP-MS）、辉光放电质谱仪（GD-MS），全面的产线为半导体痕量金属元素分析保驾护航；全球领先的离子色谱（IC）可提供先进的痕量离子态杂质解决方案，挑战离子检测极限；更有气质联用仪（GCMS）提供的洁净空气...
701项有色金属、化工石化等行业标准将制修订
11YSFFZT3935-2010采用高质量分辨率辉光放电质谱仪测定高纯铋中杂质含量推荐制定 2011原材料工业司全国有色金属标准化技术委员会峨嵋半导体材料研究所 23YSJCZT3947-2010电子薄膜用高纯金属溅射靶材的纯度等级及杂质含量分析推荐制定 2011原材料工业司全国有色金属标准化技术委员会有研亿金新材料股份有限公司 30YSFFZT3955-2010氟化铝-元素分析 波长色散X射线荧光光谱法...