如果这种多晶硅被制成粉状样品,或利用样品旋转器使它处在旋转的状态,则在记录纸上观察到的只是由靶材发射出来的少数散射线;如果样品取的是多晶硅片,而且不用旋转器,那么对于由钨靶发出的Lβ2线,当样品面每转动12°(手动)后静放时,就可以在不同方位上,观察到强度不同的或宽或窄的Lβ2峰。因此,对于多晶态样品,当它固定在一定方位时,从记录纸上可以看到许多尖峰的出现。...
以化学成分分类,包括应用于制作导电层具有良好导电性能铜、铝、ITO、ZAO;钽、钛等靶材用于制作阻挡层,保护导电层不受侵蚀和氧化。镍铂合金、钨钛合金、钴靶材用于制作接触层,与硅层生成薄膜提供与外部连接的接点。目前芯片制造工艺在180-130nm之间主要用铝及铝合金靶材作为导电层,90-65 nm主要应用铜靶材。45-28nm主要使用纯铜铝和铜锰合金靶材。...
Copyright ©2007-2022 ANTPEDIA, All Rights Reserved
京ICP备07018254号 京公网安备1101085018 电信与信息服务业务经营许可证:京ICP证110310号