室温下在俄歇电子能谱(AES)分析仪超高真空室中,通入适量O2,促使基底U表面氧化,生成UO2,然后利用Ar+枪溅射铝箔,使铝沉积在UO2表面形成Al薄膜。沉积过程中实时采集UO2表面的AES谱和低能电子损失谱(EELS),原位分析铝薄膜在UO2表面的生长过程和膜间界面反应。...
即使经过化学分离,含有 Np 和 Pu 的样品通常也含有 U。由于相邻 238U 峰拖尾,因此使用单四极杆 ICP-MS 难以进行 237Np 和 239Pu 的超痕量分析,痕量及超痕量 237Np 的测量受到样品内存在的铀的严重干扰。本文介绍了使用 Agilent 8900 ICP-MS/MS 测定10 mg/L U 基质中超痕量 Np 的方法。...
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