大炉膛尺寸箱式气氛炉用途还原炉适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料、荧光粉的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理,应用于电子元器件、新型材料及粉体材料的真空气氛处理,材料在还原、惰性气氛环境下进行烧结。 大炉膛尺寸箱式气氛炉特点 1、控制精度:±1℃ 炉温均匀度:±1℃(根据加热室大小而定) 。...
可控气氛炉满足于不同工艺实验而特殊制造,适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理,是科研单位、高等院校、工矿企业理想的实验和生产设备。 ...
从2009年开始,课题组采用熔融—离心铸造法制备微晶玻璃,进行了微晶玻璃纳米晶粒的工艺控制研究,设计配方、开展实验,探索铁、铌、稀土等元素在微晶玻璃制备过程中的综合作用机理,详细研究退火、晶化热处理制度与玻璃软化、晶化制度等系统全面的工艺参数,建立了各种工艺参数与微晶玻璃变形缺陷之间的关系。...
图3 D-ZF10玻璃样品的DSC曲线图 图4是不同批次微晶玻璃样品的DSC曲线图,由图可得:在要开始析晶的拐弯处,很容易为微晶玻璃的晶化提供快速准确的热处理温度。图4 不同批次微晶玻璃样品的DSC曲线图 图5不同批次玻璃样品的DSC曲线图,从图示上可看出,不同配方玻璃在熔制过程中的不同阶段的温度特性,它可以提供快速准确的熔制工艺和热处理温度。并由此选择更好的配方和工艺。...
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