JIS K 0133:2000
高频等离子体质谱法通用规则

General rules for high frequency plasma mass spectrometry

2007-06

JIS K 0133:2000 中，可能用到以下仪器

 

等离子清洗机Harrick PlasmaPDC-002 应用于高分子材料

等离子清洗机Harrick PlasmaPDC-002 应用于高分子材料

武汉月忆神湖科技有限公司

 

美国 KRI 射频离子源 RFICP 380

美国 KRI 射频离子源 RFICP 380

伯东企业（上海）有限公司

 

标准号
JIS K 0133:2000
发布
2000年
发布单位
日本工业标准调查会
替代标准
JIS K 0133:2007
当前最新
JIS K 0133:2022
 
 

JIS K 0133:2000相似标准

JIS K 0133:2007 高频等离子体质谱法用一般原则 GB/T 12690.1-2022 稀土金属及其氧化物中非稀土杂质化学分析方法 第1部分：碳、硫量的测定 高频-红外吸收法 GB/T 43966-2024 高效液相色谱-四极杆电感耦合等离子体质谱联用法通则 GB 10725-1989 化学试剂 电感耦合高频等离子体原子发射光谱法通则 GB/T 12690.8-2021 稀土金属及其氧化物中非稀土杂质化学分析方法 第8部分：钠量的测定

推荐

电感耦合等离子质谱仪和等离子光谱仪的区别

【ICP可用作质谱仪的离子化器】ICP-MS，中文名称是：电感耦合等离子体质谱。可用作质谱仪的离子化器（离子源）。 ICP-MS所用电离源是感应耦合等离子体（ICP），它与原子发射光谱仪所用的ICP是一样的，其主体是一个由三层石英套管组成的炬管，炬管上端绕有负载线圈，三层管从里到外分别通载气，辅助气和冷却气，负载线圈由高频电源耦合供电，产生垂直于线圈平面的磁场。...

JIS K 0133:2000 中可能用到的仪器设备

电子束刻蚀

谁引用了JIS K 0133:2000 更多引用

JIS K 1474:2014 活性碳的试验方法


Copyright ©2007-2022 ANTPEDIA, All Rights Reserved
京ICP备07018254号 京公网安备1101085018 电信与信息服务业务经营许可证：京ICP证110310号