非常抱歉,我们暂时无法提供预览,您可以试试: 免费下载 BS EN ISO 11151-1:2000 前三页,或者稍后再访问。
您也可以尝试购买此标准,
点击右侧 “购买” 按钮开始采购(由第三方提供)。
点击下载后,生成下载文件时间比较长,请耐心等待......
磁控溅射和离子束溅射的主要区别在于,在IBS过程中,离子生成、靶材和基板完全分离,而在磁控溅射过程中它们非常靠近。在LAYERTEC的发展中,磁控溅射从实验室技术发展成为一个非常高效的工业过程,可以产生具有卓越光学性质的涂层,特别是在可见光和近红外光谱范围内。最大的磁控溅射机器可以涂覆直径达600毫米的基板。...
该团队证明这种由带隙引入的损耗抑制可使非晶硅纳米颗粒在可见光和近红外范围内具有高达约100的Q因子的高阶磁共振模式(磁性八极子模式,图1b)。损耗抑制所带来的高阶光学共振模式不但拥有较高的Q因子,同时在峰位处有明显强于较低阶模式的散射截面,如图1b所示。这显示着该高阶共振模式能与功能材料实现更强的相互作用,从而被应用于有源器件。...
Copyright ©2007-2022 ANTPEDIA, All Rights Reserved
京ICP备07018254号 京公网安备1101085018 电信与信息服务业务经营许可证:京ICP证110310号