HB 6731.12-2005
铝合金化学成分光谱分析方法 第12部分:电感耦合等离子体原子发射光谱法测定硅含量

Mtehods for spectromertic analysis of aluminium alloys--Part 10:Determination of silicon content by inductivel coupled plasma atomic spectrometric method


HB 6731.12-2005 中,可能用到以下仪器设备

 

ICPMS-2030电感耦合等离子体质谱仪

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岛津企业管理(中国)有限公司/岛津(香港)有限公司

 

普析通用ELEXPLORER电感耦合等离子体质谱

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北京普析通用仪器有限责任公司

 

耶拿PlasmaQuant  MS  电感耦合等离子体质谱仪

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德国耶拿分析仪器股份公司

 

天瑞ICP-MS 2000E电感耦合等离子体质谱仪

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江苏天瑞仪器股份有限公司

 

Optima 8300  ICP-OES 等离子体发射仪

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珀金埃尔默企业管理(上海)有限公司PerkinElmer

 

PlasmaQuant PQ9000高分辨率ICP发射光谱仪

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德国耶拿分析仪器股份公司

 

iCAP RQ ICP-MS电感耦合等离子体质谱仪

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北京携测技术有限公司

 

爱丁堡一体化全自动显微共聚焦拉曼光谱仪RM5

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天美仪拓实验室设备(上海)有限公司

 

ICP-7700型电感耦合等离子发射光谱仪

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北京东西分析仪器有限公司

 

Aqualog 同步吸收和三维荧光扫描光谱仪

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HORIBA科学仪器事业部(Jobin Yvon光谱技术)堀场

 

Thermo Finnpipette F2 单道移液器

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赛默飞世尔科技(中国)有限公司

 

HB 6731.12-2005



标准号
HB 6731.12-2005
发布日期
2005年12月26日
实施日期
2006年05月01日
废止日期
中国标准分类号
V11
发布单位
CN-HB
引用标准
HB 5218.6-2004 HB 5421 HB/Z 207
适用范围
警告--使用本部分的人员应有正规实验室工作的实践经验。本部分并未指出所有可能的安全问题。使用者有责任采取适当的安全和健康措施,并符合国家有关法规规定的条件。 本部分规定了用电感耦合等离子体原子发射光谱法(ICP-AES 法)测定铝合金中硅含量的原理、试剂、仪器、分析步骤、分析结果的计算、允许差和质量控制与要求。 本部分适用于铝合金中硅含量的测定。 测定范围: 0.05%~12.00%.

HB 6731.12-2005 中可能用到的仪器设备





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