XPS使用软X射线作为激发光源,激发出物质表面原子的内层电子(如图10),通过对这些电子进行能量分析而获得材料信息。图10 X射线光电子发射示意图XPS广泛使用的原因主要有以下几点。...
X 射线荧光光谱高压制样方法和技术研究[J].光谱学与光谱分析, 2013,33( 12) : 3402 - 3407.[2]李小莉, 安树清, 于兆水,等. 高压制样X-射线荧光光谱法测定煤样品中17种元素和灰分[J]. 分析化学, 2014, 42(2):283-287.[3]陈岳, 罗武干, 穆青,等. 河北临漳曹村窑址青釉器物工艺特征研究[J]....
常用的无机材料测试深度一般在5-10nm左右。XPS分析的能给我们哪些信息?1)元素的定性分析:可以根据能谱图中出现的特征谱线的位置鉴定除H、He 以外的所有元素。(定性分析的相对灵敏度为0.1%)2)元素的定量分析:根据能谱图中光电子谱线强度(光电子峰的面积)反应原子的含量或相对浓度。3)固体表面分析:包括表面的化学组成或元素组成,原子价态,表面能态分布,测定表面电子的电子云分布和能级结构等。...
XPS基本原理XPS利用X-射线照射样品表面,常用的X-射线源是Al-Kα射线单色源,能量为1486.6eV,激发原子内层能级电子跃迁,逃逸出样品表面,由于光电子携带样品的特征信息(元素信息、化学态信息等),通过测量逃逸电子的动能,就可以得知样品中的元素组成和化学态信息。 ...
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