- 接触角表征光刻胶的附着力适当的光刻胶附着力对于成功的光刻工艺是至关重要的。显影或刻蚀过程中的附着力丧失将导致图案错误,这对正在制造的设备来说是致命的。在光刻胶和硅片之间需要附着力促进剂,这一点早已被认识到。在应用光阻剂之前,常用的是六甲基二硅氮烷(HMDS)底漆。硅片上的水接触角通常是相当低的,因为表面从环境湿度中吸附了水。...
表5 日本车身涂装VOCs排放量及目标值(g/m2)项目1999年(改造前)2005年2010年CED底漆53.13.1中涂13128.4②BC底色漆272.9①2.5CC罩光清漆111111涂层VOCs总排量5629-目标值≤35≤25③注:①全面采用水性底色漆替代有机溶剂型底漆,部分采用水性中涂。...
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