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(Time Dependent Dielectric Breakdron)击穿模型:I/E(空穴击穿),E(热化学击穿)I/E模型:电子穿越氧化膜®产生电子陷阱和空穴陷阱+电子空穴对®空穴隧穿回氧化层,形成电流®空穴易被陷阱俘获®在氧化层中产生电场®缺陷处局部电流不断增加,形成正反馈®陷阱互相重叠并连成一个导电通道时,氧化层被击穿。...
喷涂相关企业1、富士康2、比亚迪3、赫比…… 三、NCVM不导电真空镀 NCVM:又称不连续镀膜技术或不导电电镀技术,是采用镀出金属及绝缘化合物等薄膜,利用各不连续之特性,得到最终外观既有金属质感且不影响到无线通讯传输之效果。。 工艺流程:技术特点:1、所制产品不导电,可以通过高压电表几万伏特的高压测试,不导通或不被击穿2、所制产品表面具有金属质感的同时可实现半透明化控制。...
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