ASTM B765-93(2001)
电沉积镀层和相关金属镀层孔隙率试验的选择

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适用范围: 1.1 本指南描述了一些用于检测、识别和测量电沉积和相关金属涂层中孔隙率的可用标准方法，并提供了一些实验室类型的评估和验收。测试方法的一些应用列于表 2 中。
1.2 本指南不适用于通过热喷涂、离子轰击、溅射和其他类似技术生产的涂层，在这些技术中，涂层以离散颗粒的形式施加在冲击表面上。基质。
1.3 本指南不适用于有益或受控的孔隙率，例如微不连续铬涂层中存在的孔隙率。
1.4 孔隙率测试结果作为化学反应最终产物出现。有些发生在原位，有些发生在纸上或凝胶涂层中。所进行的观察与测试方法、测试项目以及购买者的要求一致。这些可以是目视检查（肉眼）或通过 10 倍放大倍率（显微镜）进行检查。其他方法可能涉及放大照片或显微照片。
1.5 测试方法仅作概括。有关如何进行测试的说明必须参考各个标准。
1.6 以 SI 单位表示的值应被视为标准值。括号中给出的值仅供参考。
1.7 本标准并不旨在解决与其使用相关的所有安全问题（如果有）。本标准的使用者有责任在使用前建立适当的安全和健康实践并确定监管限制的适用性。

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