ASTM F2405-04
使用高质量分辨率辉光放电质谱仪测量高纯度铜中痕量金属杂质的标准试验方法

Standard Test Method for Trace Metallic Impurities in High Purity Copper by High-Mass-Resolution Glow Discharge Mass Spectrometer


ASTM F2405-04 中,可能用到以下仪器设备

 

SYNAPT XS高分辨率质谱仪

SYNAPT XS高分辨率质谱仪

沃特世科技(上海)有限公司Waters

 

timsTOF Pro 2高分辨率质谱仪

timsTOF Pro 2高分辨率质谱仪

美国布鲁克道尔顿公司(Bruker Daltonic Inc.)

 

TransMIT AP SMALDI 10高分辨率质谱成像仪

TransMIT AP SMALDI 10高分辨率质谱成像仪

科瑞恩特(北京)科技有限公司

 

标准号
ASTM F2405-04
发布
2004年
发布单位
美国材料与试验协会
替代标准
ASTM F2405-04(2011)
当前最新
ASTM F2405-04(2011)
 
 
1.1 本测试方法涵盖高纯度(99.95 wt.%,或更高纯度)电子级铜中微量金属杂质的浓度。 1.2 本测试方法适用于磁扇形辉光放电质谱仪的分析。 (GDMS).1.3 该测试方法不包括完成 GDMS 分析所需的所有信息。需要由经验丰富的操作员熟练使用的先进计算机控制实验室设备才能达到所需的灵敏度。该测试方法确实涵盖了负责技术委员会已知的影响高纯铜分析可靠...

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