ASTM F1711-96(2002)
使用四点探测法测定专业平板显示器用薄膜导线的薄膜电阻的标准规程

Standard Practice for Measuring Sheet Resistance of Thin Film Conductors for Flat Panel Display Manufacturing Using a Four-Point Probe


 

 

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标准号
ASTM F1711-96(2002)
发布
1996年
发布单位
美国材料与试验协会
替代标准
ASTM F1711-96(2008)
当前最新
ASTM F1711-96(2016)
 
 
适用范围
1.1 本实践描述了测量沉积在大型绝缘基板上的溅射导电薄膜的薄层电阻的方法,该薄膜用于制造平板信息显示器。假设导电薄膜的厚度比用于测量薄层电阻的接触探针的间距薄得多。
1.2 本标准旨在与测试方法 F 390.1.3 薄层电阻率在 0.5 至 0.5 范围内一起使用。通过这种做法可以测量每平方 5000 欧姆。假定被探测区域的薄层电阻是均匀的。
1.4 此做法仅适用于平坦表面。
1.5 此做法涵盖 1.5 mm 至 5.0 mm(含 0.059 至 0.197)的探针间距。
1.6 该方法在这种做法中,可能会对进行测量的直接区域中的薄膜造成破坏。因此,测试的区域应具有基板功能部分的特征,但应远离关键活性区域。该方法适用于表征与感兴趣的基材同时处理的虚拟测试基材。
1.7 以SI 单位表示的值应被视为标准。括号中给出的值仅供参考。
1.8 本标准并不旨在解决与其使用相关的所有安全问题(如果有)。本标准的使用者有责任在使用前建立适当的安全和健康实践并确定监管限制的适用性。

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