ASTM F1238-95(2003)
微电子设备用耐熔硅化物溅射电极

Standard Specification for Refractory Silicide Sputtering Targets for Microelectronic Applications

被代替

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标准号

ASTM F1238-95(2003)

发布

1995年

发布单位

美国材料与试验协会

替代标准

ASTM F1238-95(2011)

当前最新

ASTM F1238-95(2011)

 

 

适用范围

1.1 本规范涵盖由金属硅化物（硅化钼、硅化钽、硅化钛和硅化钨）制成的溅射靶材。这些靶材被称为难熔硅化物靶材，旨在用于微电子应用。
1.2 以 SI 单位表示的值被视为标准值。

ASTM F1238-95(2003) 中可能用到的仪器设备