ASTM F1845-97(2002)
用高质量减少辉光放电质谱仪测量电子级铝铜、铝硅和铝铜硅中微量金属杂质的标准试验方法

Standard Test Method for Trace Metallic Impurities in Electronic Grade Aluminum-Copper, Aluminum-Silicon, and Aluminum-Copper-Silicon Alloys by High-Mass-Reduction Glow Discharge Mass Spectrometer

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标准号

ASTM F1845-97(2002)

发布

1997年

发布单位

美国材料与试验协会

替代标准

ASTM F1845-08

当前最新

ASTM F1845-08(2016)

 

 

适用范围

该测试方法适用于半导体行业，用于评估薄膜金属化工艺中使用的材料（例如溅射靶材、蒸发源）的纯度。根据有关各方商定，该测试方法可能在负责技术委员会未设想的其他应用中有用。该测试方法供各个实验室的 GDMS 分析人员使用，以统一测定铝铜、铝硅和铝铜硅合金中痕量杂质的方案和参数。目的是提高实验室间分析数据的一致性。该测试方法还针对 GDMS 分析的用户，以帮助他们了解测定方法以及报告的 GDMS 数据的重要性和可靠性。对于大多数金属物质，常规分析的检测限约为 0.01 wt。百万分之一。通过特殊的预防措施，检测限可以达到亚 ppb 水平。本试验方法可作为电子级铝铜、铝硅、铝铜硅材料生产者和用户的参考方法。
1.1 本试验方法测定高纯（99.99wt%）中痕量金属杂质的浓度。 % 纯或更纯（相对于金属微量杂质）铝铜、铝硅和铝铜硅合金，主要合金成分如下：铝大于 95.0 % 铜小于或等于 5.0 % 硅小于或等于 5.0 %1.2 该测试方法适用于磁扇区辉光放电质谱仪 (GDMS) 的分析。
1.3 该测试方法不包括完成 GDMS 分析所需的所有信息。需要由经验丰富的操作员熟练使用的先进计算机控制实验室设备才能达到所需的灵敏度。本测试方法确实涵盖了负责技术委员会已知的影响高纯铝分析可靠性的特定因素（例如，样品制备、相对灵敏度系数的设置、检测限的确定等）。
1.4 本标准不包括旨在解决与其使用相关的所有安全问题（如果有）。本标准的使用者有责任在使用前建立适当的安全和健康实践并确定监管限制的适用性。

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