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标志用图形符号表示规则 第2部分:公共信息图形符号的通用符号要素 标志用图形符号表示规则 第2部分:公共信息图形符号的通用符号要素 GB/T 10001.10-2014 2023-12-01 64...
国际上80年代大规模和超大规模集成电路光刻规范线条宽度为0.7一0.8微米,集成度为108。90年代的规范线条宽度为0.3一0.5微米,集成度为109。集成电路有专用电路和通用电路。通用电路中最典型的是存贮器和处理器,使用极为广泛。 ...
有机场效应晶体管(OFET)由于柔性好、低成本、适于大面积制备等优点,在柔性电路与系统、电子纸和有机存储设备等方面具有重要的应用前景,因而受到人们广泛的关注,是有机半导体材料和器件研究领域中重要的前沿方向之一。类似于光刻技术在微电子学的作用和地位,喷墨打印技术有可能成为有机电子学和有机集成电路发展中的关键技术。...
2、与进入中国半导体制造业的项目和支持中国半导体制造业有关的措施:该规则涵盖某些半导体制造设备、某些半导体和用于生产半导体的零部件、在中国制造设备以及美国人的相关活动。关于可用于生产武器或其他军事用途的各种集成电路的半导体制造设备,以及使侵犯人权或滥用人权成为可能的应用,包括讨论过的先进系统和超级计算机,理由已经在规则中列出了。...
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