AS ISO 17560-2006
表面化学分析．次级离子质谱测量法．硅中注入硼的深度分布分析法

Surface chemical analysis - Secondary-ion mass spectrometry - Method for depth profiling of boron in silicon

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标准号

AS ISO 17560-2006

发布日期

实施日期

废止日期

无

国际标准分类号

71.040.40

发布单位

AU-SA

适用范围

Adopts ISO 17560:2002 to specify a secondary-ion mass spectrometric method using magnetic-sector or quadrupole mass spectrometers for depth profiling of boron in silicon and using stylus profilometry or optical interferometry for depth scale calibration.

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