ISO 17331 AMD 1-2010
表面化学分析.硅晶片加工标准物质表面元素收集用化学方法和及其光分析仪(TXRF)光谱学测定.修改件1
Surface chemical analysis - Chemical methods for the collection of elements from the surface of silicon-wafer working reference materials and their determination by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy; Amendment 1
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- 标准号
- ISO 17331 AMD 1-2010
- 发布日期
- 2010年07月
- 实施日期
- 废止日期
- 无
- 中国标准分类号
- G04
- 国际标准分类号
- 71.040.40
- 发布单位
- IX-ISO
- 被代替标准
- ISO 17331 DAM 1-2009