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· 由于该设备能准确测量和分析光学元件，在多种先进光学元件中得到广泛应用，包括光栅、菲涅尔透镜和二元光学元件等衍射光学元件，以及微透镜阵列等。粗糙度作为衡量表面加工质量的基本参数，在光学加工领域应用广泛。1961年Bennett and Porteus就观察到当表面粗糙度远小于入射波长时，散射率与Sq直接相关。因此Sq（Rq，RMS）在光学领域得到广泛关注。...
检出限技术参数电源 110-240 VAC，50-60 Hz检材 液体、固体粉末等测量方法高精度X射线荧光光谱法HDXRF测量范围 铁、锰、铜、锌、硅、磷等40余种元素晶体 DCC（双曲面弯晶）晶体实现激发X射线单色化聚焦，优化提高元素检出限和定量精度电子元件 处理器不低于1.2GB四核处理器 64位、1GB RAM；4096道高性能...
检出限技术参数电源 110-240 VAC，50-60 Hz检材 液体、固体粉末等测量方法高精度X射线荧光光谱法HDXRF测量范围 钠、镁、铝、硅、钙、硫、磷、氯、铁、钴、铜、锰等多种元素晶体 DCC（双曲面弯晶）晶体实现激发X射线单色化聚焦，优化提高元素检出限和定量精度电子元件 处理器不低于1.2GB四核处理器 64位、1GB RAM...
JB/T 2989-199916 JB/T 12637-2015白光三维测量系统本标准规定了白光三维测量系统的术语和定义、型式、要求、检验条件、检验方法、标志与包装等。本标准适用于基于区域扫描的白光光学三维测量系统，也适用于蓝光、绿光、红外光、彩色光等光学三维测量系统。...
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