尽管商用4H–SiC单晶圆片的结晶完整性最近几年显着改进,但这些晶圆的缺陷密度依然居高不下。 经研究证实,晶圆衬底的表面处理时间越长,则表面缺陷率也会跟着增加。表面缺陷严重影响SiC元件品质与矽元件相比,碳化硅的能带隙更宽,本征载流子浓度更低,且在更高的温度条件下仍能保持半导体特性,因此,采用碳化硅材料制成的元件,能在比矽元件更高的工作温度运作。...
3、超硬磨料的立方碳化硼,其硬度次于金刚石,由于他们的机械磨损性能比较好,化学磨损相对就比较重要,在高温的条件下,晶粒的表面会形成氧化的现象转变成玻璃状的氧化硼,磨料的温度要比一般的磨料要低很多,能够有效的减少氧化磨损程度。...
研磨剂是指用磨料、分散剂(又称研磨液)和辅助材料制成的混合剂。研磨剂中的磨料起切削作用,常用的磨料有刚玉、碳化硅、碳化硼和人造金刚石等。精研和抛光时还会用到软磨料,如氧化铁、氧化铬和氧化铈等。磨削和研磨等磨料处理是生产半导体晶片必要方式,抛光和平面化对生产微电子原件来说是十分重要的。因此研磨剂的配方以及研磨剂的品质管控,对于半导体产品影响深远。...
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