ASTM E995-11
在俄歇电子能谱和X射线光电子能谱中应用背景消除技术的标准指南

Standard Guide for Background Subtraction Techniques in Auger Electron Spectroscopy and X-Ray Photoelectron Spectroscopy

被代替

标准号

ASTM E995-11

发布

2011年

发布单位

美国材料与试验协会

替代标准

ASTM E995-16

当前最新

ASTM E995-16

 

 

引用标准

ASTM E673

适用范围

AES 中的背景扣除技术最初被用作增强相对较弱的俄歇信号的方法，以将其与二次和背散射电子的缓慢变化的背景区分开来。对从俄歇峰线形状获取有用信息的兴趣、对俄歇光谱更高定量准确性的关注以及数据收集技术的改进，导致了各种背景扣除技术的发展。同样，XPS 中背景扣除技术的使用主要源于对化学态测定的兴趣（来自可能经常重叠的组分峰的结合能值）、XPS 光谱更高的定量准确性以及数据的改进获得。采集后背景扣除通常应用于 XPS 数据。第 7 节中概述的程序在 XPS 和 AES 中很流行；第 8 节和第 9 节分别描述了不太流行的程序和很少使用的程序。背景扣除方法和曲线拟合技术的一般评论已发表 (1-5)。背景扣除通常在峰值拟合之前完成。一些商业系统需要背景去除。然而，由于非弹性散射、轫致辐射（对于具有非单色 X 射线源的 XPS）和散射初级电子（对于 AES），由一个或多个峰和背景强度组成的测量光谱区域通常可以通过为每个峰选择函数来令人满意地表示。强度分量，每个分量的参数在单个最小二乘拟合中确定。根据分析人员的经验和上面提到的峰复杂性，建议在峰拟合之前根据需要或期望选择要去除的背景。
1.1 本指南的目的是让分析人员熟悉目前主要的背景扣除技术。结合其数据采集和操作应用的性质一起使用。
1.2 本指南旨在适用于电子、X 射线和离子激发俄歇电子能谱 (AES) 和 X 射线光电子能谱 (XPS) 中的背景扣除。
1.3 以 SI 单位表示的值应被视为标准值。本标准不包含其他计量单位。
1.4 本标准并不旨在解决与其使用相关的所有安全问题（如果有）。本标准的使用者有责任在使用前建立适当的安全和健康实践并确定监管限制的适用性。

推荐

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