JC/T 2133-2012
半导体抛光液用硅溶胶中杂质元素含量的测定 —电感耦合等离子体原子发射光谱法
Determination of impurities in silica sol for polishing solution in semiconductor industry.Inductively coupled plasma atomic emission spectrometric method
JCT2133-2012, JC2133-2012
- 标准号
- JC/T 2133-2012
- 别名
- JCT2133-2012, JC2133-2012
- 发布
- 2012年
- 发布单位
- 行业标准-建材
- 当前最新
- JC/T 2133-2012
- 引用标准
- GB/T 602 GB/T 6682
- 适用范围
- 本标准规定了采用电感耦合等离子体原子发射光谱(ICP-AES)法测定半导体抛光液用硅溶胶中杂质元素含量的方法。本标准适用于半导体化学机械抛光(CMP)中抛光液用的各种硅溶胶。杂质元素包括：铝、钡、钙、铬、铜、铁、钾、镁、锰、钠、镍、钛、锌、锆等14种元素。
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