ISO 14605:2013由国际标准化组织 IX-ISO 发布于 2013-10。
ISO 14605:2013 在中国标准分类中归属于: Q32 特种陶瓷,在国际标准分类中归属于: 81.060.30 高级陶瓷。
本标准规定了实验室室内照明环境下使用的半导体光催化材料性能评价所用的光源和辐射计。 室内照明环境的光源不包括透过窗玻璃的阳光。
(EPMA).词汇 英国标准学会,关于epma 制样的标准 BS ISO 23833-2013 微光束分析.电子探针微量分析(EPMA).词汇 BS ISO 23833-2013 微光束分析.电子探针微量分析(EPMA).词汇 BS EN 1071-4-2006 高级工业陶瓷.陶瓷涂层的试验方法.用电子探针微量分析(EPMA)测定化学成分 法国标准化协会,关于epma 制样的标准 NF...
半导体新材料制备与应用技术石墨烯制备及应用技术;大尺寸硅单晶生长、晶片抛光片、SOI片及SiGe/Si外延片制备加工技术;大型MOCVD关键配套材料、硅衬底外延和OLED照明新材料制备技术;大尺寸砷化镓衬底、抛光及外延片、GaAs/Si材料制备技术;红外锗单晶和宽带隙单晶及外延材料制备技术;第三代宽禁带半导体材料制备技术;高纯金属镓、铟、砷、锗、磷、镉半导体蒸馏、区熔提纯大型连续化工艺技术,高纯及超高纯有色金属材料精炼提纯技术及痕量杂质测试技术...
Topsizer激光粒度分析仪是广受客户欢迎的国产高性能激光粒度分析仪,是一款全自动干、湿二合一激光粒度分析仪,采用红蓝双色光源设计和定制光电控测器,确保仪器具有宽广的测试范围、高灵敏度、良好的重现性和重复性,优异的测试性能能够满足绝大多数固体粉末或乳液中颗粒的粒度分布检测要求。...
半导体新材料制备与应用技术石墨烯制备及应用技术;大尺寸硅单晶生长、晶片抛光片、SOI片及SiGe/Si 外延片制备加工技术;大型 MOCVD 关键配套材料、硅衬底外延和OLED照明新材料制备技术;大尺寸砷化镓衬底、抛光及外延片、GaAs/Si 材料制备技术;红外锗单晶和宽带隙单晶及外延材料制备技术;第三代宽禁带半导体材料制备技术;高纯金属镓、铟、砷、锗、磷、镉半导体蒸馏、区熔提纯大型连续化工艺技术,...
Copyright ©2007-2022 ANTPEDIA, All Rights Reserved
京ICP备07018254号 京公网安备1101085018 电信与信息服务业务经营许可证:京ICP证110310号