DIN ISO 10110-7:2018
光学和光子学.光学元件和系统的制图准备.第7部分:表面缺陷(ISO 10110-7-2017)
Optics and photonics - Preparation of drawings for optical elements and systems - Part 7: Surface imperfections (ISO 10110-7:2017)
- 标准号
- DIN ISO 10110-7:2018
- 发布
- 2018年
- 发布单位
- 德国标准化学会
- 替代标准
- DIN ISO 10110-7:2018-05
- 当前最新
- DIN ISO 10110-7:2018-05
- 引用标准
- DIN 3140:1958 DIN ISO 10110 Beiblatt 1:2013 DIN ISO 10110-10:2004 DIN ISO 10110-11:2016 DIN ISO 10110-12:2016 DIN ISO 10110-14:2008 DIN ISO 10110-17:2004 DIN ISO 10110-19:2016 DIN ISO 10110-1:2007 DIN ISO 10110-2:2000 DIN ISO 10110-3:2000 DIN ISO 10110-4:2000 DIN ISO 10110-5 Beiblatt 1:2003 DIN ISO 10110-5:2016 DIN ISO 10110-6:2016 DIN ISO 10110-8:2012 DIN ISO 10110-9:2016 DIN ISO 14997:2013 DIN ISO 9211-1:2012 ISO 10110-1:2006 ISO 14997:2017 ISO 3:1973 ISO 9211-1:2010 ISO 9802:1996 ISO/TR 21477
- 被代替标准
- DIN ISO 10110-7:2009 DIN ISO 10110-7:2016
- 适用范围
- ISO 10110（所有部分）规定了用于制造和检验的技术图纸中单个光学元件和光学组件的设计和功能要求的表示。本文件规定了单个光学元件和光学组件测试区域内表面缺陷可接受水平的指示。这些包括局部表面缺陷、边缘缺口和长划痕。考虑到功能效应（影响图像形成或光学元件的耐用性）以及装饰（外观）效应，指定了缺陷的可接受水平。本文件适用于成品光学元件（无论是否镀膜）的透射和反射表面以及光学组件。它允许根据部件或光学组件上受缺陷影响的区域或缺陷的可见性来指定允许的缺陷。
DIN ISO 10110-7:2018相似标准
DIN ISO 10110-7 E:2016 光学和光子学 光学元件和系统图纸的准备 第7部分：表面缺陷 (ISO/DIS 10110-7:2016) 草案
DIN ISO 10110-7:2009 光学和光子学.光学元件和系统的制图准备.第7部分:表面缺陷公差(ISO 10110-7:2008),DIN ISO 10110-7:2009-06的英文版本
GB/T 26332.5-2022 光学和光子学 光学薄膜 第5部分：减反射膜基本要求
GB/T 26332.6-2022 光学和光子学 光学薄膜 第6部分：反射膜基本要求
GB/T 26332.8-2022 光学和光子学 光学薄膜 第8部分：激光光学薄膜基本要求
推荐
了解表面质量
适用于表面质量评级的规定包括：ANSI/OEOSC OP1.002-2009，针对光学和电光仪器 – 光学元素和组件 – 外观缺陷*ISO 10110-8:2010光学和光子学 -- 光学元件和系统图的绘制 --第8部分：表面结构；粗糙度和波痕*MIL-PRF-13830B；管理火控仪器光学组件的制造、组装和检测的一般规格*可以按照这些标准制造爱特蒙特光学的自定义光学组件爱特蒙特光学遵循zui常用的表面质量评级方法...
了解并指定激光元件的激光损伤阈值（LIDT）
缺陷包括研磨和抛光过程留下的表面下损伤、光学元件上留下的抛光磨粒的极小颗粒，或镀膜上留下的一团团金属元素。每个缺陷源都表现出不同的吸收特性，因为任何给定缺陷的性质和大小都将决定光学元件在不造成损伤的情况下能够承受的激光强度。如前所述，脉冲持续时间对导致激光损伤的机制有很大的影响（图 5）。...