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磁控溅射和离子束溅射的主要区别在于,在IBS过程中,离子生成、靶材和基板完全分离,而在磁控溅射过程中它们非常靠近。在LAYERTEC的发展中,磁控溅射从实验室技术发展成为一个非常高效的工业过程,可以产生具有卓越光学性质的涂层,特别是在可见光和近红外光谱范围内。最大的磁控溅射机器可以涂覆直径达600毫米的基板。...
分析测试百科网讯 近日,全国光学和光子学标准技术委员会电子光学系统分技术委员会负责归口的《激光器和激光相关设备光腔衰荡高反射率测量方法》、《激光器和激光相关设备-标准光学元件-第1部分:紫外、可见和近红外光谱范围内的元件》、《激光器和激光相关设备-标准光学元件-第2部分:红外光谱范围内的元件》等3项国家标准(征求意见稿)已完成,现公开征求意见。 ...
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