DIN EN 15991:2016
陶瓷原料和基本材料的试验.电热蒸发(ETV)电感耦合等离子体发射光谱法(ICP-OES)直接测定碳化硅粉末和颗粒中杂质质量分数;德文版本EN 15991-2015
Testing of ceramic and basic materials - Direct determination of mass fractions of impurities in powders and granules of silicon carbide by inductively coupled plasma optical emission spectrometry (ICP OES) with electrothermal vaporisation (ETV); German v
- 标准号
- DIN EN 15991:2016
- 发布
- 2016年
- 发布单位
- 德国标准化学会
- 当前最新
- DIN EN 15991:2016
- 引用标准
- DIN ISO 5725-2:2002 DIN ISO 5725-4:2003 EGV 2037/2000-2000 EN ISO 21068-1:2008 ISO 5022:1979 ISO 5725-2:1994 ISO 5725-4:1994 ISO 8656-1:1988 ISO/IEC Guide 98-3:2008
- 被代替标准
- DIN EN 15991:2011 DIN EN 15991:2014
DIN EN 15991:2016相似标准
DIN EN 15991:2011 陶瓷原料和基本材料的试验.电热蒸发(ETV)电感耦合等离子体发射光谱法(ICP-OES)直接测定碳化硅粉末和颗粒中杂质质量分数;德文版
NF B41-106:2011 陶瓷原料和基本材料的测试.电热蒸发(ETV)电感耦合等离子体发射光谱法(ICP OES)直接测定碳化硅粉末和颗粒中杂质质量分数.
BS EN 15991:2015 陶瓷原料和基本材料的测试.电热蒸发(ETV)电感耦合等离子体发射光谱法(ICP-OES)直接测定碳化硅粉末和颗粒中杂质质量分数
BS EN 15991:2011 陶瓷原料和基本材料的测试.电热蒸发(ETV)电感耦合等离子体发射光谱法(ICP-OES)直接测定碳化硅粉末和颗粒中杂质质量分数
EN 15991:2011 陶瓷原料和基本材料的测试.电热蒸发(ETV)电感耦合等离子体发射光谱法(ICP-OES)直接测定碳化硅粉末和颗粒中杂质质量分数