2.术语和定义2.1 臭氧设备:本指南中所指的臭氧设备是整套系统,包括混合装置、反应器和残余臭氧去除装置。2.2 臭氧发生器:指用于生产臭氧的全套部件和零配件。2.3 混合装置:指用于混合水与来自臭氧发生器的气体的设备。2.4 反应器:指用于臭氧和水中物质进行反应的容器。除非进气和产生臭氧是在设备的同一部分中进行,否则混合装置应置于反应器上游。2.5 残余臭氧去除装置:指用于分解残余臭氧的装置。...
材料选择、表面处理和设计执行在超高真空中的影响是什么?应用中实际需要的抽气功率是多少?以及为什么会难以达到良好的极限压力?根据定义,超高真空(UHV)压力要达到10-7mbar,这意味着在这个压力范围内,表面放气对极限压力变得至关重要。超高真空中的流动是气体是分子式的,平均自由路径长度超过1公里。如果压力继续下降到10-12毫巴,自由路径长度就会增长到10000公里。...
半导体器件.机械和气候试验方法.第30部分:可靠性测试前非密封表面安装设备预处理(IEC 60749-30-2005+A1-2011).德文版 EN 60749-30-2005+A1-2011DIN EN 61747-5-3-2010 液晶显示装置.第5-3部分:环境、耐久性和机械试验方法.玻璃强度和可靠性(IEC 61747-5-3-2009,修改件).德文版本EN 61747-5-3-2010DIN...
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