微型制备系统

本专题涉及微型制备系统的标准有156条。

国际标准分类中,微型制备系统涉及到能源和热传导工程综合、煤、涂料和清漆、化工产品、消防、光学设备、粘合剂和胶粘产品、建筑物结构、信息技术用语言、接口和互连设备、表面处理和镀涂、涂料涂覆工艺、燃烧器、锅炉、技术制图、环境保护、水力工程、标准化总则、冶金设备、航空航天用流体系统和零部件、绝缘材料、热力学和温度测量、内部装修、橡胶和塑料制品、词汇、建筑材料、涂料涂覆设备、地质学、气象学、水文学、食品工业厂房和设备、光电子学、激光设备、管道部件和管道、铁合金、质量、建筑物中的设施。

在中国标准分类中,微型制备系统涉及到制冷工程、煤炭分析方法、水泥与水泥制品设备、、基础标准与通用方法、程序语言、涂料基础标准与通用方法、锅炉及其辅助设备、光学仪器综合、环境保护设备、泵、标准化、质量管理、冶炼设备、涂料、消防综合、光学设备、电工绝缘材料及其制品、建材产品综合、建筑构造与装饰工程、材料防护、屋面、铺面防水与防潮材料、海洋学、基础标准与通用方法、胶粘剂基础标准与通用方法、核反应堆与核电厂核岛设备、合成树脂、塑料基础标准与通用方法、技术管理、破碎、粉磨设备。


国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会,关于微型制备系统的标准

  • GB/T 40008.1-2021 热水制备系统绩效评价与计算方法 第1部分:户用及类似用途热水制备系统

中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会,关于微型制备系统的标准

,关于微型制备系统的标准

  • NP EN ISO 12944-4-1999 清漆和涂料.通过保护型涂料系统来对钢结构实施防腐蚀保护.第4部分:表面类型以及表面制备(ISO 12944-2-1998)

河北省市场监督管理局,关于微型制备系统的标准

  • DB13/T 5210-2020 冶金、水泥行业煤粉制备喷吹系统防爆安全规范

国家能源局,关于微型制备系统的标准

美国材料与试验协会,关于微型制备系统的标准

  • ASTM E2573-19 样品制备和现场制造的拉伸系统的安装的标准实践以评估表面燃烧特性
  • ASTM D5295/D5295M-18 粘结(粘结)膜防水系统混凝土表面制备标准指南
  • ASTM E2573-17 样品制备和现场制造的拉伸系统的安装的标准实践以评估表面燃烧特性
  • ASTM D5295/D5295M-14 粘结(粘结)膜防水系统混凝土表面制备标准指南
  • ASTM E2573-12 样品制备和现场制造的拉伸系统的安装的标准实践以评估表面燃烧特性
  • ASTM E2573-2012 评估表面燃烧特征的试样制备和现场制作拉伸系统的安装用实施规程
  • ASTM E2573-07a 样品制备和现场制造的拉伸系统的安装的标准实践以评估表面燃烧特性
  • ASTM E2573-07 样品制备和现场制造的拉伸系统的安装的标准实践以评估表面燃烧特性
  • ASTM E2573-2007a 评定表面燃烧特征的试样制备和制备场所移动系统安装的标准实施规程
  • ASTM E2573-2007 评定表面燃烧特征的试样制备和制备场所移动系统安装的标准实施规程
  • ASTM D7256/D7256M-06a 从流动的溪流中机械收集和系统内制备煤总样品的标准实施规程
  • ASTM D7256/D7256M-06 从流动的溪流中机械收集和系统内制备煤总样品的标准实施规程
  • ASTM D5295-00(2006) 粘结(粘结)膜防水系统混凝土表面制备标准指南
  • ASTM D5295-00 粘结(粘结)膜防水系统混凝土表面制备标准指南

国际标准化组织,关于微型制备系统的标准

  • ISO 10110-12-2019 光学和光子学.光学元件和系统绘图的制备.第12部分:非球面
  • ISO 10110-12:2019 光学和光子学.光学元件和系统绘图的制备.第12部分:非球面
  • ISO 10110-8:2019 光学和光子学.光学元件和系统绘图的制备.第8部分:表面结构
  • ISO 10110-8-2019 光学和光子学.光学元件和系统绘图的制备.第8部分:表面结构
  • ISO 9514-2019 油漆和清漆 - 多组分涂料系统的使用寿命的测定 - 样品的制备和调节以及测试指南
  • ISO 10110-14:2018 光学和光子学.光学元件和系统图纸的制备.第14部分:波前变形公差
  • ISO/TR 21477-2017 光学和光子学.光学元件和系统图纸的制备.表面缺陷规范和测量系统
  • ISO 10110-9:2016 光学和光学仪器 - 光学元件和系统的图形制备 - 9部分:表面处理和涂层
  • ISO 10110-11:2016 光学和光学仪器 - 光学元件和系统的图形制备 - 第11部分:非公差数cb54568f据
  • ISO 10110-11-2016 光学和光子学.光学元件和系统用图纸制备.第11部分:非公差数据
  • ISO 10110-5:2015 光学和光学仪器 - 光学元件和系统的图形制备 - 第5部分:表面形状公差
  • ISO 10110-12-2007/Amd 1-2013 光学和光子学.光学元件和系统图纸的制备.第12部分:非球面.修改件1
  • ISO 10110-12:2007/Amd 1:2013 光学和光子学.光学元件和系统图纸的制备.第12部分:非球面.修改件1
  • ISO 28199-1 Technical Corrigendum 1-2009 涂料和清漆.与应用过程相关的涂层系统的性能评价.第1部分:相关词汇和试验样品的制备.技术勘误表1
  • ISO 28199-1 CORR 1-2009 涂料和清漆.与应用过程相关的涂层系统的性能评价.第1部分:相关词汇和试验样品的制备.技术勘误表1
  • ISO 28199-1-2009 油漆和清漆.有关应用工序过程的涂料系统性能评估.第1部分:相关词汇和试验盘的制备
  • ISO 10110-11 Technical Corrigendum 1-2006 光学和光学仪器.光学元件和系统用图纸制备.第11部分:非公差数据.技术勘误1
  • ISO 9514-2005 色漆和清漆.多组分涂层系统适用期测定.样品的制备和处理以及试验指南
  • ISO 10110-14:2003 光学和光学仪器.光学元件和系统图纸的制备.第14部分:波前变形公差
  • ISO 10110-14-2003 光学及光学仪器.光学元件和系统图形的制备.第14部分:波前变形公差
  • ISO 15166-2-2000 粘合剂 大块样品的制备方法 第2部分:高温熟化一种组分的系统
  • ISO 15166-1-1998 粘合剂 大块样品的制备方法 第1部分:双组分系统
  • ISO 15166-1:1998 粘合剂——批量样品的制备方法第1部分:两部分系统
  • ISO 10110-13:1997 光学和光学仪器.光学元件和系统图纸的制备.第13部分:激光辐照损伤阈值
  • ISO 10110-13-1997 光学和光学仪器.光学元件和系统图形的制备.第13部分:激光辐射损坏阈
  • ISO 10110-8:1997 光学和光学仪器.光学元件和系统图纸的制备.第8部分:表面结构
  • ISO 10110-12:1997 光学和光学仪器.光学元件和系统图纸的制备.第12部分:非球面
  • ISO 10110-10:1996 光学和光学仪器.光学元件和系统图纸的制备.第10部分:表示透镜元件数据的表格
  • ISO 10110-1:1996 光学和光学仪器.光学元件和系统图纸的制备.第1部分:总则
  • ISO 10110-3:1996 光学和光学仪器——光学元件和系统图纸的制备第3部分:材料缺陷——气泡和夹杂物
  • ISO 10110-5:1996 光学和光学仪器.光学元件和系统图纸的制备.第5部分:表面形状公差
  • ISO 10110-7:1996 光学和光学仪器.光学元件和系统图纸的制备.第7部分:表面缺陷公差
  • ISO 9514:1992 色漆和清漆.液体系统适用期的测定.样品的制备和调节及试验指南
  • ISO 1011-1973 光学和光子学.光学元件和系统绘图的制备.第8部分:表面结构
  • ISO 10110-7-2017 光学和光学仪器.光学元件和系统图纸的制备.第7部分:表面缺陷公差

英国标准学会,关于微型制备系统的标准

  • BS PD ISO/IEC TR 14369-2018 信息技术.编程语音、语言环境和系统软件界面.语音独立服务规范制备指南(LISS)
  • BS EN ISO 12944-4-2017 涂料和清漆.防护涂层系统对钢结构的腐蚀防护.表面类型和表面予处理制备
  • BS ISO 10110-11-2016 光学及光学仪器.光学元件和系统图纸的制备.非公差数据
  • BS ISO 10110-9-2016 光学及光子学.光学元件和系统图纸的制备.表面处理和涂层
  • BS ISO 10110-6-2015 光学及光子学.光学元件和系统图纸的制备.定心公差
  • BS PD ISO/IEC TR 14369-2014 信息技术.编程语音、语言环境和系统软件界面.语音独立服务规范制备指南(LISS)
  • BS ISO 10110-8-2010 光学及光学仪器.光学元件和系统图纸的制备.表面纹理
  • BS EN ISO 28199-1-2009 涂料和清漆.与应用过程相关的涂层系统特性评价.相关词汇和试验板制备
  • BS 8481-2006 内部石膏,水泥,水泥及石灰抹灰系统的设计,制备和应用.规范
  • BS PD CEN/TR 15123-2005 内部聚合物灰泥系统的设计、制备和施用
  • BS EN 14879-1-2005 工业设备防腐蚀介质腐蚀用有机涂层系统和内衬.衬底的术语、设计和制备
  • BS EN ISO 9514-2005 色漆和清漆.多组分涂覆系统适用期测定.样品的制备和处理以及试验指南
  • BS ISO 15166-2-2000 粘合剂.散装样品的制备方法.高温处理单成份系统
  • BS ISO/IEC TR 14369-1999 信息技术.编程语音、语言环境和系统软件界面.语音独立服务规范制备指南(LISS)
  • BS EN ISO 12944-4-1998 涂料和清漆.防护涂层系统对钢结构的腐蚀防护.表面类型和表面予处理制备
  • BS ISO 10110-8-1998 光学及光学仪器.光学元件和系统图纸的制备.表面纹理
  • BS ISO 10110-4-1997 光学及光学仪器.光学元件和系统图纸的制备.第4部分:材料缺陷.不均匀性和擦痕
  • BS ISO 10110-9-1996 光学及光学仪器.光学元件和系统图纸的制备.第9部分:表面处理和涂层
  • BS ISO 10110-6-1996 光学及光学仪器.光学元件和系统图纸的制备.第6部分:定心公差
  • BS ISO 10110-3-1996 光学及光学仪器.光学元件和系统图纸的制备.第3部分:材料缺陷.气泡和杂质
  • BS ISO 10110-11-1996 光学及光学仪器.光学元件和系统图纸的制备.非公差数据
  • BS ISO 10110-2-1996 光学及光学仪器.光学元件和系统图纸的制备.第2部分:材料缺陷.应力双折射

德国标准化学会,关于微型制备系统的标准

  • DIN ISO 10110-11-2016 光学和光子学.光学元件和系统用图纸制备.第11部分:非公差数据(ISO 10110-11-2016)
  • DIN ISO 10110-6-2016 光学和光子学.光学元件和系统图形的制备.第6部分:中心公差
  • DIN ISO 10110-5-2016 光学和光子学.光学元件和系统的图形制备.第5部分:表面形状公差(ISO 10110-5-2015)
  • DIN ISO 10110-12-2016 光学和光子学.光学元件和系统制图的制备.第12部分:非球面表面(ISO 10110-12-2007+Amd 1-2013)
  • DIN ISO 10110-8-2012 光学及光学仪器.光学元件和系统图形的制备.第8部分:表面构造.粗糙度和波纹(ISO 10110-8-2010)
  • DIN ISO 10110-12-2009 光学和光子学.光学元件和系统制图的制备.第12部分:非球面表面
  • DIN ISO 10110-14-2008 光学和光子学.光学元件和系统的图形制备.第14部分:波阵面变形公差(ISO 10110-14-2007).英文版本DIN ISO 10110-14-2008
  • DIN ISO 10110-5-2008 光学和光子学.光学元件和系统的图形制备.第5部分:表面形状公差(ISO 10110-5-2007).英文版本DIN ISO 10110-5-2008
  • DIN-Fachbericht CEN/TR 15124-2005 内部石膏抹灰系统的设计、制备和应用
  • DIN-Fachbericht CEN/TR 15125-2005 内部水泥和/或石灰抹灰系统的设计、制备和应用
  • DIN-Fachbericht CEN/TR 15123-2005 内部聚酯抹灰系统的设计、制备和应用
  • DIN EN ISO 9514-2005 色漆和清漆.多组分涂覆系统适用期测定.样品的制备和处理以及试验指南
  • DIN ISO 10110-10-2004 光学和光子学.光学元件和系统图形制备.第10部分:光学元件和粘结组件的数据表
  • DIN EN ISO 128-21-2002 技术制图.图象表示的一般原则.第21部分:采用计算机辅助设计(CAD)系统制备线条 (ISO 128-21:1997); 德文版本 EN 13719:2002
  • DIN ISO 10110-6-2000 光学和光学仪器.光学元件和系统图形的制备.第6部分:中心公差
  • DIN ISO 10110-9-2000 光学和光学仪器.光学元件和系统的图形制备.第9部分:表面处理和覆层
  • DIN ISO 10110-3-2000 光学和光学仪器.光学元件和系统的图形制备.第3部分:材料缺陷.气泡和杂质
  • DIN ISO 10110-11-2000 光学和光学仪器.光学元件和系统的图样制备.第11部分:非公差数据
  • DIN ISO 10110-4-2000 光学和光学仪器.光学元件和系统的图形制备.第4部分:材料缺陷.不均匀性和划痕
  • DIN ISO 10110-2-2000 光学和光学仪器.光学元件和系统的图形制备.第2部分:材料缺陷.应力双折射

工业和信息化部/国家能源局,关于微型制备系统的标准

法国标准化协会,关于微型制备系统的标准

  • NF S10-008-9-2016 光学和光子学.光学元件和系统用图纸制备.第9部分:表面处理和涂层
  • NF S10-008-11-2016 光学和光子学.光学元件和系统用图纸制备.第11部分:非公差数据
  • NF S10-008-6-2015 光学和光子学.光学元件和系统用图纸制备.第6部分:定心公差
  • NF T30-138-2005 色漆和清漆.多组分涂层系统适用期测定.样品的制备和处理以及试验指南
  • NF S10-008-8-1998 光学及光学仪器.光学元件和系统图纸的制备.第8部分:表面结构
  • NF S10-008-4-1998 光学及光学仪器.光学元件和系统图纸的制备.第4部分:材料缺陷.不均匀性和擦痕
  • NF S10-008-12-1998 光学和光学仪器.光学元件和系统图纸的制备.第12部分:非球面形表面
  • NF S10-008-2-1996 光学和光学仪器.光学元件和系统用图纸制备.第2部分:材料缺陷.应力双折射率
  • NF S10-008-11-1996 光学和光学仪器.光学元件和系统用图纸制备.第11部分:非公差数据
  • NF S10-008-6-1996 光学和光学仪器.光学元件和系统用图纸制备.第6部分:定心公差
  • NF S10-008-9-1996 光学和光学仪器.光学元件和系统用图纸制备.第9部分:表面处理和涂层
  • NF S10-008-3-1996 光学和光学仪器.光学元件和系统用图纸制备.第2部分:材料缺陷.气泡和夹渣
  • NF S10-008-10-1996 光学和光学仪器.光学元件和系统用图纸制备.第10部分:透镜元件的图表表示数据
  • NF S10-008-1-1996 光学和光学仪器.光学元件和系统用图纸制备.第1部分:总则
  • NF S10-008-7-1996 光学和光学仪器.光学元件和系统用图纸制备.第7部分:表面缺陷公差
  • NF S10-008-5-1996 光学和光学仪器.光学元件和系统用图纸制备.第5部分:表面形状公差
  • NF T34-551-1995 涂料和清漆.通过涂料保护系统对钢结构的腐蚀保护.定义和试验板的制备
  • NF T54-019-1995 塑料管道和导管系统.未增塑聚氯乙烯(PVC-U)管和配件.测定粘度值和计算K值用样品制备

云南省质量技术监督局,关于微型制备系统的标准

  • DB53/T 656.3-2014 有色金属电铅精炼系统成套设备 第3部分:铅片制备机组

美国机动车工程师协会,关于微型制备系统的标准

韩国标准,关于微型制备系统的标准

  • KS M ISO 28199-1-2012 涂料和清漆.与应用过程相关的涂层系统特性评估.相关词汇和试验板制备
  • KS M ISO 9514-2011 涂料和清漆.多组分涂层系统适用期测定.样品的制备和处理以及试验指南

美国国家标准学会,关于微型制备系统的标准

  • ANSI/ASTM E2573-2012 评估表面燃烧特征的试样制备和现场制作拉伸系统的安装用实施规程
  • ANSI/OEOSC OP1.0110-1-2011 光学及光学仪器.光学元件和系统图纸的制备.第1部分:总则
  • ANSI/IEEE 99-2007 电气设备用绝缘系统的热评估用试验程序的制备用推荐实施规程

欧洲标准化委员会,关于微型制备系统的标准

  • EN ISO 28199-1-2009 涂料和清漆.与应用过程相关的涂层系统特性评价.第1部分:相关词汇和试验板制备
  • EN 14879-1-2005 工业设备防腐蚀介质腐蚀用有机涂层系统和内衬.第1部分:衬底的术语,设计和制备
  • EN ISO 9514-2005 色漆和清漆.多组分涂覆系统适用期测定.样品的制备和处理以及试验指南 ISO 9514-2005
  • EN 922-1994 塑料管道和管道输送系统.未增塑聚氯乙烯管和管件.测定粘度数值和K值计算用试样制备

行业标准-海洋,关于微型制备系统的标准

  • HY/T 068-2002 饮用纯净水制备系统SRO系列反渗透设备

美国机械工程师协会,关于微型制备系统的标准

(美国)空军,关于微型制备系统的标准

行业标准-轻工,关于微型制备系统的标准

(美国)海军,关于微型制备系统的标准

  • NAVY MIL-M-38761/2 A-1990 海军海洋系统指挥舰中系统和设备制备用微缩胶卷孔径,制表卡和舰船图纸的索引

微型制备系统微型微型制备系统高温微型制备系统微型制备装置微型制袋机微型制氮机

 

可能用到的仪器设备

 

粉尘层最低着火温度测试仪

粉尘层最低着火温度测试仪

杭州仰仪科技有限公司

 

粉尘云最低着火温度测试仪

粉尘云最低着火温度测试仪

杭州仰仪科技有限公司

 

SCS-900D冶金行业气体分析系统

SCS-900D冶金行业气体分析系统

北京雪迪龙科技股份有限公司

 

雪迪龙冶金在线分析系统SCS-900Y

雪迪龙冶金在线分析系统SCS-900Y

北京雪迪龙科技股份有限公司

 

波前传感器

波前传感器

北京欧兰科技发展有限公司

 

 




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