Analyse von Siliziumoberflächenelementen

Für die Analyse von Siliziumoberflächenelementen gibt es insgesamt 103 relevante Standards.

In der internationalen Standardklassifizierung umfasst Analyse von Siliziumoberflächenelementen die folgenden Kategorien: analytische Chemie, Baumaterial, schwarzes Metall, Straßenarbeiten, Prüfung von Metallmaterialien, nichtmetallische Mineralien, Integrierte Schaltkreise, Mikroelektronik, Sprache für die Informationstechnologie, Nichteisenmetalle, Glas, Chemikalien, grafische Symbole, Wasserqualität.

Korean Agency for Technology and Standards (KATS), Analyse von Siliziumoberflächenelementen

KS D ISO 14706-2003(2018) Chemische Oberflächenanalyse – Messung von Oberflächenelementverunreinigungen auf Siliziumwafern mittels Totalreflexions-Röntgenfluoreszenzspektrometer
KS D ISO 17973-2011(2021) Chemische Oberflächenanalyse – mittelauflösende Auger-Elektronenspektrometer – Kalibrierung von Energieskalen für die Elementaranalyse
KS D ISO 17973-2011(2016) Chemische Oberflächenanalyse – mittelauflösende Auger-Elektronenspektrometer – Kalibrierung von Energieskalen für die Elementaranalyse
KS D ISO 17973:2011 Chemische Oberflächenanalyse – mittelauflösende Auger-Elektronenspektrometer – Kalibrierung von Energieskalen für die Elementaranalyse
KS D ISO 17974-2011(2021) Chemische Oberflächenanalyse – Hochauflösende Auger-Elektronenspektrometer – Kalibrierung von Energieskalen für die Elementar- und chemische Zustandsanalyse
KS D ISO 17974-2011(2016) Chemische Oberflächenanalyse – Hochauflösende Auger-Elektronenspektrometer – Kalibrierung von Energieskalen für die Elementar- und chemische Zustandsanalyse
KS D ISO 17974:2011 Chemische Oberflächenanalyse – Hochauflösende Auger-Elektronenspektrometer – Kalibrierung von Energieskalen für die Elementar- und chemische Zustandsanalyse
KS D ISO 17560-2003(2018) Chemische Oberflächenanalyse – Sekundärionen-Massenspektrometrie – Methode zur Messung der Bor-Tiefenverteilung in Silizium
KS D ISO 14706:2003 Chemische Oberflächenanalyse – Bestimmung der Oberflächenelementkontamination auf Siliziumwafern durch Totalreflexions-Röntgenfluoreszenzspektroskopie (TXRF).
KS M ISO 8215:2007 Oberflächenaktive Mittel – Waschpulver – Bestimmung des Gesamtkieselsäuregehalts – Gravimetrische Methode
KS D ISO 14237-2003(2018) Analyse der Oberflächengeometrie – Sekundärionen-Massenspektrometrie – Methode zur Messung der Konzentration gleichmäßig in Silizium zugesetzter Boratome
KS D ISO 17560:2003 Chemische Oberflächenanalyse – Secondary-on-Massenspektrometrie – Methode zur Tiefenprofilierung von Bor in Silizium

KR-KS, Analyse von Siliziumoberflächenelementen

KS D ISO 14706-2003(2023) Chemische Oberflächenanalyse – Messung von Oberflächenelementverunreinigungen auf Siliziumwafern mittels Totalreflexions-Röntgenfluoreszenzspektrometer
KS D ISO 17560-2003(2023) Chemische Oberflächenanalyse – Sekundärionen-Massenspektrometrie – Methode zur Messung der Bor-Tiefenverteilung in Silizium
KS D ISO 14237-2003(2023) Analyse der Oberflächengeometrie – Sekundärionen-Massenspektrometrie – Methode zur Messung der Konzentration gleichmäßig in Silizium zugesetzter Boratome

国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会, Analyse von Siliziumoberflächenelementen

GB/T 40110-2021 Chemische Oberflächenanalyse – Bestimmung der Oberflächenelementkontamination auf Siliziumwafern durch Totalreflexions-Röntgenfluoreszenzspektroskopie (TXRF).
GB/T 39527-2020 Bestimmung von Kalzium, Aluminium und Silizium in festen Oberflächenmaterialien – Methode der chemischen Analyse
GB/T 29732-2021 Chemische Oberflächenanalyse – Schneckenelektronenspektrometer mittlerer Auflösung – Kalibrierung von Energieskalen für die Elementaranalyse
GB/T 39145-2020 Testmethode für den Gehalt an Oberflächenmetallelementen auf Siliziumwafern – Massenspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma
GB/T 40109-2021 Chemische Oberflächenanalyse – Sekundärionen-Massenspektrometrie – Methode zur Tiefenprofilierung von Bor in Silizium

British Standards Institution (BSI), Analyse von Siliziumoberflächenelementen

BS ISO 14706:2000 Chemische Oberflächenanalyse – Bestimmung der Oberflächenelementkontamination auf Siliziumwafern durch Totalreflexions-Röntgenfluoreszenzspektroskopie (TXRF).
BS ISO 14706:2014 Chemische Oberflächenanalyse. Bestimmung der Oberflächenelementkontamination auf Siliziumwafern mittels Totalreflexions-Röntgenfluoreszenzspektroskopie (TXRF).
BS ISO 14706:2001 Chemische Oberflächenanalyse. Bestimmung der Oberflächenelementkontamination auf Siliziumwafern mittels Totalreflexions-Röntgenfluoreszenzspektroskopie (TXRF).
BS ISO 17973:2016 Chemische Oberflächenanalyse. Auger-Elektronenspektrometer mittlerer Auflösung. Kalibrierung von Energieskalen für die Elementaranalyse
BS ISO 17331:2004+A1:2010 Chemische Oberflächenanalyse. Chemische Methoden zur Sammlung von Elementen von der Oberfläche von Siliziumwafer-Arbeitsreferenzmaterialien und deren Bestimmung durch Totalreflexions-Röntgenfluoreszenzspektroskopie (TXRF).
BS ISO 17973:2003 Chemische Oberflächenanalyse – Auger-Elektronenspektrometer mittlerer Auflösung – Kalibrierung von Energieskalen für die Elementaranalyse
BS ISO 12406:2010 Chemische Oberflächenanalyse. Sekundärionen-Massenspektrometrie. Methode zur Tiefenprofilierung von Arsen in Silizium
BS ISO 17974:2002 Chemische Oberflächenanalyse – Hochauflösende Auger-Elektronenspektrometer – Kalibrierung von Energieskalen für die Elementar- und chemische Zustandsanalyse
BS ISO 17560:2002 Chemische Oberflächenanalyse – Sekundärionen-Massenspektrometrie – Methode zur Tiefenprofilierung von Bor in Silizium
BS ISO 17560:2014 Chemische Oberflächenanalyse. Sekundärionen-Massenspektrometrie. Methode zur Tiefenprofilierung von Bor in Silizium
BS ISO 19668:2017 Chemische Oberflächenanalyse. Röntgenphotoelektronenspektroskopie. Schätzung und Meldung von Nachweisgrenzen für Elemente in homogenen Materialien
BS ISO 14701:2018 Chemische Oberflächenanalyse. Röntgenphotoelektronenspektroskopie. Messung der Siliziumoxiddicke
BS ISO 14701:2011 Chemische Oberflächenanalyse. Röntgenphotoelektronenspektroskopie. Messung der Siliziumoxiddicke
BS ISO 23812:2009 Chemische Oberflächenanalyse – Sekundärionen-Massenspektrometrie – Methode zur Tiefenkalibrierung für Silizium unter Verwendung mehrerer Deltaschicht-Referenzmaterialien

International Organization for Standardization (ISO), Analyse von Siliziumoberflächenelementen

ISO 17331:2004/Amd 1:2010 Chemische Oberflächenanalyse – Chemische Methoden zur Sammlung von Elementen von der Oberfläche von Siliziumwafer-Arbeitsreferenzmaterialien und deren Bestimmung durch Totalreflexions-Röntgenfluoreszenzspektroskopie (TXRF); Änderung 1
ISO/TR 6306:1989 Chemische Analyse von Stahl; Reihenfolge der Auflistung der Elemente
ISO/DIS 17973:2023 Chemische Oberflächenanalyse – Auger-Elektronenspektrometer mittlerer Auflösung – Kalibrierung von Energieskalen für die Elementaranalyse
ISO/CD 17973 Chemische Oberflächenanalyse – Auger-Elektronenspektrometer mittlerer Auflösung – Kalibrierung von Energieskalen für die Elementaranalyse
ISO 17331:2004 Chemische Oberflächenanalyse – Chemische Methoden zur Sammlung von Elementen von der Oberfläche von Siliziumwafer-Arbeitsreferenzmaterialien und deren Bestimmung durch Totalreflexions-Röntgenfluoreszenzspektroskopie (TXRF).
ISO 17973:2016 Chemische Oberflächenanalyse – Auger-Elektronenspektrometer mittlerer Auflösung – Kalibrierung von Energieskalen für die Elementaranalyse
ISO 17973:2002 Chemische Oberflächenanalyse – Auger-Elektronenspektrometer mittlerer Auflösung – Kalibrierung von Energieskalen für die Elementaranalyse
ISO 17560:2014 Chemische Oberflächenanalyse – Sekundärionen-Massenspektrometrie – Methode zur Tiefenprofilierung von Bor in Silizium
ISO 12406:2010 Chemische Oberflächenanalyse – Sekundärionen-Massenspektrometrie – Methode zur Tiefenprofilierung von Arsen in Silizium
ISO 17974:2002 Chemische Oberflächenanalyse – Hochauflösende Auger-Elektronenspektrometer – Kalibrierung von Energieskalen für die Elementar- und chemische Zustandsanalyse
ISO 19668:2017 Chemische Oberflächenanalyse – Röntgenphotoelektronenspektroskopie – Schätzung und Meldung von Nachweisgrenzen für Elemente in homogenen Materialien
ISO 14701:2018 Chemische Oberflächenanalyse – Röntgenphotoelektronenspektroskopie – Messung der Siliziumoxiddicke
ISO 14706:2000 Chemische Oberflächenanalyse – Bestimmung der Oberflächenelementkontamination auf Siliziumwafern durch Totalreflexions-Röntgenfluoreszenzspektroskopie (TXRF).
ISO 14706:2014 Chemische Oberflächenanalyse – Bestimmung der Oberflächenelementkontamination auf Siliziumwafern durch Totalreflexions-Röntgenfluoreszenzspektroskopie (TXRF).
ISO 14701:2011 Chemische Oberflächenanalyse – Röntgenphotoelektronenspektroskopie – Messung der Siliziumoxiddicke
ISO 17560:2002 Chemische Oberflächenanalyse – Sekundärionen-Massenspektrometrie – Methode zur Tiefenprofilierung von Bor in Silizium

General Administration of Quality Supervision, Inspection and Quarantine of the People‘s Republic of China, Analyse von Siliziumoberflächenelementen

GB/T 30701-2014 Chemische Oberflächenanalyse. Chemische Methoden zur Sammlung von Elementen von der Oberfläche von Siliziumwafer-Arbeitsreferenzmaterialien und deren Bestimmung durch Totalreflexions-Röntgenfluoreszenzspektroskopie (TXRF).
GB/T 29732-2013 Chemische Oberflächenanalyse. Mittelauflösende Auger-Elektronenspektrometer. Kalibrierung von Energieskalen für die Elementaranalyse
GB/T 32055-2015 Mikrostrahlanalyse.Elektronensonden-Mikroanalyse.Methoden zur Elementkartierungsanalyse mittels wellenlängendispersiver Spektroskopie
GB/T 29731-2013 Chemische Oberflächenanalyse. Hochauflösende Auger-Elektronenspektrometer. Kalibrierung von Energieskalen für die Elementar- und chemische Zustandsanalyse
GB/T 14506.30-2010 Methoden zur chemischen Analyse von Silikatgesteinen. Teil 30: Bestimmung von 44 Elementen
GB/T 32495-2016 Chemische Oberflächenanalyse.Sekundärionen-Massenspektrometrie.Methode zur Tiefenprofilierung von Arsen in Silizium
GB/T 14506.29-2010 Methoden zur chemischen Analyse von Silikatgesteinen – Teil 29: Bestimmung von 22 Elementen, einschließlich Seltenerdelementen
GB/T 14506.28-1993 Silikatgesteine. Bestimmung des Inhalts von Haupt- und Nebenelementen. Röntgenfluoreszenzspektrometrische Methode
GB/T 14849.5-2010 Chemische Analyse von Slion-Metall. Teil 5: Bestimmung des Elementgehalts. Analyse mit einem Röntgenfluoreszenzverfahren
GB/T 14849.5-2014 Methoden zur chemischen Analyse von Siliziummetall.Teil 5:Bestimmung des Gehalts an Verunreinigungen.Röntgenfluoreszenzmethode
GB/T 14849.4-2008 Methoden zur chemischen Analyse von Siliziummetall. Teil 4: Bestimmung des Elementgehalts. Atomemissionsspektrometrische Methode mit induktiv gekoppeltem Plasma

Association Francaise de Normalisation, Analyse von Siliziumoberflächenelementen

NF ISO 17973:2006 Chemische Analyse von Oberflächen – Auger-Elektronenspektrometer mittlerer Auflösung – Kalibrierung von Energieskalen für die Elementaranalyse
NF X21-054*NF ISO 17973:2006 Chemische Oberflächenanalyse – Auger-Elektronenspektrometer mittlerer Auflösung – Kalibrierung von Energieskalen für die Elementaranalyse.
NF ISO 17974:2009 Chemische Analyse von Oberflächen – Hochauflösende Auger-Elektronenspektrometer – Kalibrierung von Energieskalen für die Elementar- und chemische Zustandsanalyse
NF X21-067*NF ISO 17974:2009 Chemische Oberflächenanalyse – Hochauflösende Auger-Elektronenspektrometer – Kalibrierung von Energieskalen für die Elementar- und chemische Zustandsanalyse.
NF ISO 17560:2006 Chemische Analyse von Oberflächen – Massenspektrometrie von Sekundärionen – Bestimmung von Bor in Silizium durch Dickenprofilierung
NF EN ISO 23157:2022 Bestimmung des Gehalts an Silanolgruppen auf der Oberfläche von pyrogener Kieselsäure – Methode durch gaschromatographische Analyse von Reaktionsgasen
NF ISO 14237:2010 Chemische Analyse von Oberflächen – Massenspektrometrie von Sekundärionen – Bestimmung von Boratomen in Silizium unter Verwendung gleichmäßig dotierter Materialien
NF EN 16424:2014 Abfallcharakterisierung – Screening-Methode zur Bestimmung der Elementzusammensetzung mit tragbaren Röntgenfluoreszenzanalysatoren
NF X21-066*NF ISO 23812:2009 Chemische Oberflächenanalyse – Sekundärionen-Massenspektrometrie – Methode zur Tiefenkalibrierung für Silizium unter Verwendung mehrerer Delta-Schicht-Referenzmaterialien
NF X21-051*NF ISO 17560:2006 Chemische Oberflächenanalyse – Sekundärionen-Massenspektrometrie – Methode zur Tiefenprofilierung von Bor in Silizium

RO-ASRO, Analyse von Siliziumoberflächenelementen

STAS 9163/16-1973 SILICA-ALUMINA-BERGBAUPRODUKTE Spektralanalyse der Elemente Fe, Ti, Cu, Mg, Mn, Cu

Japanese Industrial Standards Committee (JISC), Analyse von Siliziumoberflächenelementen

JIS K 0165:2011 Chemische Oberflächenanalyse – Auger-Elektronenspektrometer mittlerer Auflösung – Kalibrierung von Energieskalen für die Elementaranalyse
JIS K 0160:2009 Chemische Oberflächenanalyse – Chemische Methoden zur Sammlung von Elementen von der Oberfläche von Siliziumwafer-Arbeitsreferenzmaterialien und deren Bestimmung durch Totalreflexions-Röntgenfluoreszenzspektroskopie (TXRF).
JIS K 0164:2023 Chemische Oberflächenanalyse – Sekundärionen-Massenspektrometrie – Methode zur Tiefenprofilierung von Bor in Silizium
JIS K 0166:2011 Chemische Oberflächenanalyse – Hochauflösende Auger-Elektronenspektrometer – Kalibrierung von Energieskalen für die Elementar- und chemische Zustandsanalyse
JIS K 0148:2005 Chemische Oberflächenanalyse – Bestimmung der Oberflächenelementkontamination auf Siliziumwafern durch Totalreflexions-Röntgenfluoreszenzspektroskopie (TXRF).

American Society for Testing and Materials (ASTM), Analyse von Siliziumoberflächenelementen

ASTM E3008/E3008M-16(2023) Standardklassifizierung für Transportoberflächenelemente – UNIFORMAT II
ASTM D5738-95(2006) Standardhandbuch zur Darstellung der Ergebnisse chemischer Grundwasseranalysen auf Hauptionen und Spurenelemente, Diagramme für Einzelanalysen
ASTM D5738-95(2000) Standardhandbuch zur Darstellung der Ergebnisse chemischer Grundwasseranalysen für Hauptionen und Spurenelemente – Diagramme für Einzelanalysen
ASTM D5877-95(2000) Standardhandbuch zur Anzeige der Ergebnisse chemischer Grundwasseranalysen für Hauptionen und Spurenelemente – Diagramme basierend auf datenanalytischen Berechnungen

未注明发布机构, Analyse von Siliziumoberflächenelementen

BS ISO 17974:2002(2010) Chemische Oberflächenanalyse – Hochauflösende Auger-Elektronenspektrometer – Kalibrierung von Energieskalen für die Elementar- und chemische Zustandsanalyse
DIN 51456 E:2012-10 Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnik – Oberflächenanalyse von Siliziumwafern durch Multielementbestimmung in wässrigen Analyselösungen mittels Massenspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma (ICP-MS)

PL-PKN, Analyse von Siliziumoberflächenelementen

PN H04208-03-1989 Analiza chemiczna ?elazostopów ?elazomolibden Oznaczanie zawarto?ci krzemu

中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会, Analyse von Siliziumoberflächenelementen

GB/T 33236-2016 Polykristallines Silizium – Bestimmung von Spurenelementen – Glimmentladungs-Massenspektrometrie-Methode

Standard Association of Australia （SAA）, Analyse von Siliziumoberflächenelementen

AS ISO 17974:2006 Chemische Oberflächenanalyse – Hochauflösende Auger-Elektronenspektrometer – Kalibrierung von Energieskalen für die Elementar- und chemische Zustandsanalyse
ISO 7291:2010/Amd.1:2015 Gasschweißgeräte – Druckregler für Verteilersysteme, die beim Schweißen, Schneiden und verwandten Prozessen bis zu 30 MPa (300 bar) verwendet werden. ÄNDERUNG 1
AS ISO 17560:2006 Chemische Oberflächenanalyse – Sekundärionen-Massenspektrometrie – Methode zur Tiefenprofilierung von Bor in Silizium

German Institute for Standardization, Analyse von Siliziumoberflächenelementen

DIN 51456:2013-10 Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnik – Oberflächenanalyse von Siliziumwafern durch Multielementbestimmung in wässrigen Analyselösungen mittels Massenspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma (ICP-MS)
DIN 51456:2013 Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnik – Oberflächenanalyse von Siliziumwafern durch Multielementbestimmung in wässrigen Analyselösungen mittels Massenspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma (ICP-MS)

Group Standards of the People's Republic of China, Analyse von Siliziumoberflächenelementen

T/CASAS 032-2023 Testmethode für den Gehalt an Metallelementen auf der Oberfläche von Siliziumkarbid-Wafern – Massenspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma
T/CSTM 00012E-2021 Eisen und Stahl – Charakterisierung der Verteilung des Multielementgehalts und -status – Methode der statistischen Verteilungsanalyse der ursprünglichen Position der laserinduzierten Durchschlagsspektroskopie
T/CSTM 00012-2017 Methode zur statistischen In-situ-Verteilungsanalyse mittels laserinduzierter Durchbruchspektroskopie zur Charakterisierung der Zusammensetzung und Zustandsverteilung mehrerer Elemente von Eisen und Stahl

International Electrotechnical Commission (IEC), Analyse von Siliziumoberflächenelementen

IEC 61636-99:2016*IEEE Std 1636.99 Softwareschnittstelle für die Sammlung und Analyse von Wartungsinformationen (SIMICA): Gemeinsame Informationselemente
IEC 61636-99:2016 Softwareschnittstelle für die Sammlung und Analyse von Wartungsinformationen (SIMICA): Gemeinsame Informationselemente
IEC 61636:2021*IEEE Std 1636 Softwareschnittstelle für die Sammlung und Analyse von Wartungsinformationen (SIMICA): Gemeinsame Informationselemente

CZ-CSN, Analyse von Siliziumoberflächenelementen

CSN 72 0114 Cast.2 Z1-1997 Grundlegende Analysemethode für Silikat. Bestimmung störender Elemente nach Entfernung durch die Magnesiumoxid-Komplexierungsmethode
CSN 70 0527 Cast.1-1986 Glasprüfmethoden. Silikatglas. Methode zur quantitativen Analyse der Extraktoberfläche von Glasprodukten. Die Bestimmung von Siliciumoxid
CSN 72 0113 Cast.2 Z1-1997 Grundlegende Analyseverfahren für Silikate. Bestimmungs- und Komplexierungsmethode von Calciumoxid nach Entfernung störender Elemente
CSN 70 0527 Cast.2-1986 Glasprüfmethoden. Silikatglas. Methode zur quantitativen Analyse der Extrakte aus der Oberfläche von Glasprodukten. Bestimmung von Boroxid
CSN 70 0527 Cast.5-1986 Glasprüfmethoden. Silikatglas. Methode zur quantitativen Analyse der Extrakte aus der Oberfläche von Glasprodukten. Bestimmung von Bleioxid
CSN 70 0527 Cast.4-1986 Glasprüfmethoden. Silikatglas. Methode zur quantitativen Analyse der Extrakte aus der Oberfläche von Glasprodukten. Bestimmung von Eisenoxid

American Gear Manufacturers Association, Analyse von Siliziumoberflächenelementen

AGMA 91FTM16-1991 Kontaktanalyse von Zahnrädern mit einer kombinierten Finite-Elemente- und Oberflächenintegralmethode