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RUTertiäres Silan
Für die Tertiäres Silan gibt es insgesamt 92 relevante Standards.
In der internationalen Standardklassifizierung umfasst Tertiäres Silan die folgenden Kategorien: Halbleitermaterial, Nichteisenmetalle, organische Chemie, analytische Chemie, Chemikalien, Rohstoffe für Gummi und Kunststoffe, Gummi, Anorganische Chemie, Prüfung von Metallmaterialien, Diskrete Halbleitergeräte, Integrierte Schaltkreise, Mikroelektronik.
RU-GOST R, Tertiäres Silan
- GOST 26239.9-1984 Trichlorsilan. Methode zur Bestimmung von Methylchlorid, Ethylchlorid, Butan, Isobutan, Methylen, Chloroform, Tetrachlorkohlenstoff, Methyltrichlorsilan und Chlormethylmethylsilan
- GOST 26239.8-1984 Halbleitersilizium und Rohstoffe für seine Herstellung. Methode zur Bestimmung von Dichlorsilan, Trichlorsilan und Siliziumtetrachlorid
- GOST 26239.6-1984 Siliziumtetrachlorid. Methode zur Bestimmung von Dichlorsilan, Trichlorsilan, Siliziumtetrachlorid, 1,3,3,3-Tetrachlordisiloxan, 1,1,3,3-Tetrachlordisilan, Pentachlordisiloxan, Hexachlordisiloxan und Hexaclordisilan
Group Standards of the People's Republic of China, Tertiäres Silan
- T/ZZB 0386-2018 Phenyltrichlorsilan
- T/FSI 065-2021 Trimethoxysilan
- T/FSI 009-2017 Hexamethylcyclotrisiloxan
- T/FSI 042-2019 1,1,1,3,5,5,5-Heptamethyltrisiloxan
- T/FSI 051-2020 1,2-Bis(trichlorsilyl)ethan
- T/FSI 107-2023 Vinyltrimethylsilan
- T/FSI 097-2022 Trimethylethoxysilan
- T/FSI 079-2022 1,3,5-Tris[(3,3,3-trifluorpropyl)methyl]cyclotrisiloxan
- T/FSI 112-2023 Vinyltrimethoxysilan
- T/ZZB 2373-2021 Methyltris(methylethylketoxim)silan für den industriellen Einsatz
- T/FSI 064-2021 N-(β-Aminoethyl)-γ-aminopropyltriethoxysilan
- T/CNIA 0103-2021 Technische Spezifikation zur Bewertung umweltfreundlicher Produkte für Chlorsilan in Elektronikqualität
Japanese Industrial Standards Committee (JISC), Tertiäres Silan
Korean Agency for Technology and Standards (KATS), Tertiäres Silan
工业和信息化部, Tertiäres Silan
- HG/T 5790-2021 Trimethylsilyliodid
- YS/T 1300-2019 Bestimmung von Methyldichlorsilan, Trimethylchlorsilan und Methyltrichlorsilan in Chlorsilanen mittels Gaschromatographie-Massenspektrometrie
- HG/T 5393-2018 Trimethylmonochlorsilan für den industriellen Einsatz
- HG/T 5153-2017 Industrielles Phenyltrimethoxysilan
- YS/T 1060-2015 Bestimmung anderer Chlorsilane in Trichlorsilan für die Siliziumepitaxie mittels Gaschromatographie
- YS/T 1301-2019 Bestimmung von Phosphoroxychlorid und Phosphortrichlorid in Chlorsilanen mittels Gaschromatographie-Massenspektrometrie
General Administration of Quality Supervision, Inspection and Quarantine of the People‘s Republic of China, Tertiäres Silan
Professional Standard - Chemical Industry, Tertiäres Silan
- HG/T 3740-2004 Bis(triethoxysilpropyl)disulfid-Silan-Haftvermittler
- HG/T 3742-2004 Bis(triethoxysilpropyl)tetrasulfid-Silan-Haftvermittler
- HG/T 4789-2014 Methyltriethoxysilan für den industriellen Einsatz
- HG/T 3743-2004 Die Mischung aus Bis(triethoxysilpropyl)tetrasulfid und weißem Rußsilan-Haftvermittler
- HG/T 3739-2004 Die Mischung aus Bis(triethoxysilpropyl)tetrasulfid und Ruß N330 Silan-Haftvermittler
- HG/T 5153~5156-2017 Phenyltrimethoxysilan, Methylphenyldimethoxysilan, Diisooctylphosphat und Mono-2-ethylhexyl-2-ethylhexylphosphonat für den industriellen Einsatz (2017)
- HG/T 5788~5791-2021 Bortrifluorid-Acetonitril-Komplex, Bortrifluorid-Etherat-Komplex, Iodtrimethylsilan und 2-Methyltetrahydrofuran für den industriellen Einsatz (2021)
Association Francaise de Normalisation, Tertiäres Silan
- NF T77-161:1988 Silikone. Polydimethylsiloxane. Bestimmung von Silantriylradikalen (Silantriylgehalt weniger als 0,01 Prozent (m/m)). Gaschromatographische Methode.
- NF T77-154:1987 Basissilikone für den industriellen Einsatz. Bestimmung von Silinetriyl-Radikalen (Silantriyl-Gehalt über 0,5 Prozent (m/m)). Gasvolumetrische Methode.
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会, Tertiäres Silan
Taiwan Provincial Standard of the People's Republic of China, Tertiäres Silan
American National Standards Institute (ANSI), Tertiäres Silan
- ANSI/ASTM D4995:2000 Spezifikationen für Elektronik- und Entfettungsqualitäten des 1,1,2-Trichlor-1,2,2-Trifluorethan-Lösungsmittels
- ANSI/ASTM D4126:2000 Spezifikation für 1,1,1-Trichlorethan in Dampfentfettungsqualität und allgemeiner Lösungsmittelqualität
American Society for Testing and Materials (ASTM), Tertiäres Silan
- ASTM D6741-10(2015) Standardtestmethoden für in Gummiformulierungen verwendete Silane (Bis-(triethoxysilylpropyl)sulfane): Schwefelgehalt
- ASTM D6741-10 Standardtestmethoden für in Gummiformulierungen verwendete Silane (Bis-(triethoxysilylpropyl)sulfane): Schwefelgehalt
- ASTM D6843-10(2019) Standardtestmethode für in Kautschukformulierungen verwendete Silane (Bis-(triethoxysilylpropyl)sulfane): Charakterisierung durch Gaschromatographie (GC)
- ASTM D6740-15 Standardtestmethode für in Kautschukformulierungen verwendete Silane (Bis-(triethoxysilylpropyl)sulfane): Rückstände bei der Zündung
- ASTM D6740-15(2023) Standardtestmethode für in Kautschukformulierungen verwendete Silane (Bis-(triethoxysilylpropyl)sulfane): Rückstände bei der Zündung
- ASTM D6844-02 Standardtestmethode für in Kautschukformulierungen verwendete Silane (Bis-(triethoxysilylpropyl)sulfane): Charakterisierung durch Hochleistungsflüssigkeitschromatographie (HPLC)
- ASTM D6844-10 Standardtestmethode für in Kautschukformulierungen verwendete Silane (Bis-(triethoxysilylpropyl)sulfane): Charakterisierung durch Hochleistungsflüssigkeitschromatographie (HPLC)
- ASTM D8455-22 Standardtestmethode für den GC-IMS-Analysator für speziiertes Siloxan, online basierend auf dem Siloxan- und Trimethylsilanolgehalt gasförmiger Brennstoffe
- ASTM D4995-04 Standardspezifikationen für Elektronik- und Entfettungsqualitäten von 1,1,2-Trichlor-1,2,2-trifluorethan-Lösungsmittel
- ASTM D4995-00 Standardspezifikationen für Elektronik- und Entfettungsqualitäten von 1,1,2-Trichlor-1,2,2-trifluorethan-Lösungsmittel
- ASTM D6741-10(2023) Standardtestmethoden für in Gummiformulierungen verwendete Silane (Bis-(triethoxysilylpropyl)sulfane): Schwefelgehalt
- ASTM D6843-10 Standardtestmethode für in Kautschukformulierungen verwendete Silane (Bis-(triethoxysilylpropyl)sulfane): Charakterisierung durch Gaschromatographie (GC)
- ASTM D4126-02 Standardspezifikation für dampfentfettendes und allgemeines Lösungsmittel-1,1,1-Trichlorethan
- ASTM D4126-00 Standardspezifikation für dampfentfettendes und allgemeines Lösungsmittel-1,1,1-Trichlorethan
- ASTM D4126-02(2007) Standardspezifikation für dampfentfettendes und allgemeines Lösungsmittel-1,1,1-Trichlorethan
- ASTM D4126-02(2012) Standardspezifikation für dampfentfettendes und allgemeines Lösungsmittel-1,1,1-Trichlorethan
- ASTM D4995-10 Standardspezifikationen für Elektronik- und Entfettungsqualitäten von 1,1,2-Trichlor-1,2,2-trifluorethan-Lösungsmittel
- ASTM D6843-02 Standardtestmethode für in Kautschukformulierungen verwendete Silane (Bis-(triethoxysilylpropyl)sulfane): Charakterisierung durch Gaschromatographie (GC)
- ASTM D6843-10(2015) Standardtestmethode für in Kautschukformulierungen verwendete Silane (Bis-(triethoxysilylpropyl)sulfane): Charakterisierung durch Gaschromatographie (GC)
- ASTM D6843-10(2023) Standardtestmethode für in Kautschukformulierungen verwendete Silane (Bis-(triethoxysilylpropyl)sulfane): Charakterisierung durch Gaschromatographie (GC)
- ASTM D6741-01 Standardtestmethoden für in Gummiformulierungen verwendete Silane (Bis-(triethoxysilylpropyl)sulfane): Schwefelgehalt
- ASTM D6741-01(2006) Standardtestmethoden für in Gummiformulierungen verwendete Silane (Bis-(triethoxysilylpropyl)sulfane): Schwefelgehalt
- ASTM D6844-10(2015) Standardtestmethode für in Kautschukformulierungen verwendete Silane (Bis-(triethoxysilylpropyl)sulfane): Charakterisierung durch Hochleistungsflüssigkeitschromatographie (HPLC)
- ASTM D6844-10(2023) Standardtestmethode für in Kautschukformulierungen verwendete Silane (Bis-(triethoxysilylpropyl)sulfane): Charakterisierung durch Hochleistungsflüssigkeitschromatographie (HPLC)
- ASTM D6740-10 Standardtestmethode für Silane, die in Gummiformulierungen verwendet werden (Bis-(triethoxysilylpropyl)sulfane): Rückstände bei der Zündung
- ASTM D6740-01 Standardtestmethode für Silane, die in Gummiformulierungen verwendet werden (Bis-(triethoxysilylpropyl)sulfane): Rückstände bei der Zündung
- ASTM D4995-04(2010) Standardspezifikationen für Elektronik- und Entfettungsqualitäten von 1,1,2-Trichlor-1,2,2-trifluorethan-Lösungsmittel
- ASTM D4995-10(2020) Standardspezifikation für Elektronik- und Entfettungsqualitäten von 1,1,2–Trichlor 1,2,2,–Trifluorethanlösungsmittel
- ASTM D4995-10(2015) Standardspezifikation für Elektronik- und Entfettungsqualitäten von 1,1,2-Trichlor-1,2,2-Trifluorethan-Lösungsmittel
- ASTM D6844-02(2007) Standardtestmethode für in Kautschukformulierungen verwendete Silane (Bis-(triethoxysilylpropyl)sulfane): Charakterisierung durch Hochleistungsflüssigkeitschromatographie (HPLC)
- ASTM D6843-02(2007) Standardtestmethode für in Kautschukformulierungen verwendete Silane (Bis-(triethoxysilylpropyl)sulfane): Charakterisierung durch Gaschromatographie (GC)
- ASTM D6844-10(2019) Standardtestmethode für in Kautschukformulierungen verwendete Silane (Bis-(triethoxysilylpropyl)sulfane): Charakterisierung durch Hochleistungsflüssigkeitschromatographie (HPLC)
- ASTM D6845-02 Standardtestmethode für die Oberfläche von gefälltem, hydratisiertem8212;CTAB (Cetyltrimethylammoniumbromid).
- ASTM D6845-22 Standardtestmethode für gefälltes, hydratisiertes Siliciumdioxid – CTAB-Oberfläche (Cetyltrimethylammoniumbromid).
- ASTM D6845-20 Standardtestmethode für die Oberfläche von Siliciumdioxid, gefälltem, hydratisiertem CTAB (Cetyltrimethylammoniumbromid).
- ASTM D6845-18 Standardtestmethode für die Oberfläche von Siliciumdioxid, gefälltem, hydratisiertem CTAB (Cetyltrimethylammoniumbromid).
AENOR, Tertiäres Silan
Indonesia Standards, Tertiäres Silan
Defense Logistics Agency, Tertiäres Silan
- DLA SMD-5962-87611 REV E-2012 MIKROSCHALTUNG, DIGITAL, ADVANCED CMOS, DREIFACH, DREI EINGÄNGE UND GATE, MONOLITHISCHES SILIKON
- DLA SMD-5962-95652 REV D-2010 MIKROSCHALTUNG, DIGITAL, STRAHLENGEHÄRTEN, FORTGESCHRITTENES CMOS, DREIFACHES NAND-GATE MIT DREI EINGÄNGEN, MONOLITHISCHES SILIZIUM
- DLA SMD-5962-90772 REV D-2011 MIKROSCHALTUNG, DIGITAL, FORTGESCHRITTENES CMOS, DREIFACH, POSITIV- UND GATE-EINGÄNGE MIT DREI EINGÄNGEN, TTL-KOMPATIBLE EINGÄNGE, MONOLITHISCHES SILIZIUM
- DLA SMD-5962-87542 REV C-2009 MIKROSCHALTUNG, DIGITAL, BIPOLAR, DREI-ZUSTANDS-PRIORITÄTS-ENCODER, MONOLITHISCHES SILIKON
- DLA DSCC-VID-V62/04701 REV A-2011 MIKROSCHALTUNG, DIGITAL, FORTGESCHRITTENES CMOS, DREIFACH, 3 POSITIV-EINGÄNGE UND GATE, MONOLITHISCHES SILIKON
- DLA SMD-5962-87611 REV D-2006 MIKROSCHALTUNG, DIGITAL, ADVANCED CMOS, DREIFACH, DREI EINGÄNGE UND GATE, MONOLITHISCHES SILIKON
- DLA SMD-5962-96522 REV C-2009 MIKROSCHALTUNG, DIGITAL, ADVANCED CMOS, STRAHLENGEHÄRTEN, DREIFACH, 3 EINGÄNGE UND GATE, MONOLITHISCHES SILIZIUM
- DLA SMD-5962-87610 REV C-2004 MIKROSCHALTUNG, DIGITAL, FORTGESCHRITTENES CMOS, DREIFACHES NAND-GATE MIT 3 EINGÄNGEN, MONOLITHISCHES SILIKON
Professional Standard - Electron, Tertiäres Silan
- SJ 1674-1980 Detaillierte Spezifikation für Endverbrauchstransistoren zur Silizium-NPN-Bildzwischenfrequenzverstärkung, Typ 3DG255
US-CFR-file, Tertiäres Silan
- CFR 40-721.10661-2013 Umweltschutz. Teil 721: Bedeutende neue Verwendungen chemischer Stoffe. Abschnitt 721.10661: Methylenbis [isocyanatobenzol], Polymer mit Alkansäure, Alkylenglykolen, alkoxyliertem Alkanpolyol und substituiertem Trialkoxysilan (allgemein).
- CFR 40-721.9497-2014 Umweltschutz. Teil 721: Bedeutende neue Verwendungen chemischer Stoffe. Abschnitt 721.9497: Trifunktionelles Ketoximinosilan.