ZH

RU

EN

Basado en fotocatálisis de semiconductores.

Basado en fotocatálisis de semiconductores., Total: 158 artículos.

En la clasificación estándar internacional, las clasificaciones involucradas en Basado en fotocatálisis de semiconductores. son: Tratamiento superficial y revestimiento., Cerámica, Comunicaciones de fibra óptica., Dispositivos semiconductores, Mediciones de radiación, Optoelectrónica. Equipo láser.


Association Francaise de Normalisation, Basado en fotocatálisis de semiconductores.

  • NF ISO 10677:2011 Cerámica técnica: fuentes de luz ultravioleta para probar materiales fotocatalíticos semiconductores
  • XP CEN/TS 16599:2014 Fotocatálisis: determinación de las condiciones de irradiación para probar las propiedades fotocatalíticas de materiales semiconductores.
  • XP B44-014*XP CEN/TS 16599:2014 Fotocatálisis: condiciones de irradiación para probar las propiedades fotocatalíticas de materiales semiconductores y la medición de estas condiciones.
  • NF ISO 14605:2013 Cerámica técnica: fuentes de luz para probar materiales fotocatalíticos semiconductores en un entorno de iluminación interior.
  • NF B44-103*NF ISO 10677:2011 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada) - Fuente de luz ultravioleta para probar materiales fotocatalíticos semiconductores
  • NF ISO 22197-4:2021 Cerámica técnica. Métodos de ensayo para el rendimiento de materiales fotocatalíticos semiconductores para la purificación del aire. Parte 4: eliminación de formaldehído.
  • NF ISO 22197-5:2021 Cerámica técnica. Métodos de ensayo para el rendimiento de materiales fotocatalíticos semiconductores para la purificación del aire. Parte 5: eliminación del metilmercaptano.
  • NF B44-105*NF ISO 14605:2013 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada): fuente de luz para probar materiales fotocatalíticos semiconductores utilizados en entornos de iluminación interior.
  • NF B44-101-4:2013 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada) - Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores - Parte 4: eliminación de formaldehído
  • NF B44-101-5:2013 Cerámicas finas (cerámicas avanzadas, cerámicas técnicas avanzadas) - Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores - Parte 5: eliminación del metilmercaptano
  • NF B44-101-5*NF ISO 22197-5:2021 Cerámicas finas (cerámicas avanzadas, cerámicas técnicas avanzadas) - Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores - Parte 5: eliminación del metilmercaptano
  • NF B44-101-4*NF ISO 22197-4:2021 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada) - Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores - Parte 4: eliminación de formaldehído
  • NF ISO 18560-1:2014 Cerámica técnica - Método de ensayo para medir el rendimiento de materiales fotocatalíticos semiconductores para la purificación del aire mediante el método de la cámara de ensayo en un ambiente de iluminación interior - Parte 1: eliminación...
  • NF EN IEC 60747-17:2020 Dispositivos semiconductores - Parte 17: acoplador magnético y capacitivo para aislamiento principal y reforzado
  • NF B44-106-1*NF ISO 18560-1:2014 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada) - Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores mediante el método de cámara de prueba en un entorno de iluminación interior - Parte 1: eliminación de formaldehído

European Committee for Standardization (CEN), Basado en fotocatálisis de semiconductores.

  • PD CEN/TS 16599:2014 Fotocatálisis: condiciones de irradiación para probar las propiedades fotocatalíticas de materiales semiconductores y la medición de estas condiciones.
  • CEN/TS 16599:2014 Fotocatálisis: condiciones de irradiación para probar las propiedades fotocatalíticas de materiales semiconductores y la medición de estas condiciones.
  • CWA 17857:2022 Sistema adaptador basado en lentes para acoplar fibra óptica a láseres semiconductores infrarrojos

British Standards Institution (BSI), Basado en fotocatálisis de semiconductores.

  • BS PD CEN/TS 16599:2014 Fotocatálisis. Condiciones de irradiación para probar propiedades fotocatalíticas de materiales semiconductores y la medición de estas condiciones.
  • PD IEC/TR 63133:2017 Dispositivos semiconductores. Estimación del nivel de envejecimiento basada en escaneo para dispositivos semiconductores
  • BS ISO 19722:2017 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para la determinación de la actividad fotocatalítica en materiales fotocatalíticos semiconductores mediante el consumo de oxígeno disuelto.
  • BS ISO 10677:2011 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Fuente de luz ultravioleta para probar materiales fotocatalíticos semiconductores.
  • BS ISO 24448:2023 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Fuente de luz LED para probar materiales fotocatalíticos semiconductores utilizados en entornos de iluminación interior.
  • BS ISO 13125:2013 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para la actividad antifúngica de materiales fotocatalíticos semiconductores.
  • BS ISO 19635:2016 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para la actividad antialgas de materiales fotocatalíticos semiconductores.
  • BS IEC 60747-5-16:2023 Dispositivos semiconductores - Dispositivos optoelectrónicos. La luz emite diodos. Método de prueba del voltaje de banda plana de diodos emisores de luz basados en GaN basado en la espectroscopia de fotocorriente
  • BS IEC 60747-5-15:2022 Dispositivos semiconductores - Dispositivos optoelectrónicos. La luz emite diodos. Método de prueba del voltaje de banda plana basado en la espectroscopia de electrorreflectancia.
  • 21/30403033 DC BS EN ISO 24448. Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Fuente de luz LED para probar materiales fotocatalíticos semiconductores utilizados en entornos de iluminación interior.
  • BS ISO 14605:2013 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Fuente de luz para probar materiales fotocatalíticos semiconductores utilizados en entornos de iluminación interior.
  • BS ISO 22197-2:2019 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores: eliminación de acetaldehído
  • BS EN IEC 62007-1:2015+A1:2022 Dispositivos optoelectrónicos semiconductores para aplicaciones de sistemas de fibra óptica: plantilla de especificaciones para clasificaciones y características esenciales
  • BS ISO 22551:2020 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Determinación de la tasa de reducción bacteriana mediante materiales fotocatalíticos semiconductores en un entorno de iluminación interior. Método semiseco para estimar la actividad antibacteriana en…
  • BS IEC 60747-5-9:2019 Dispositivos semiconductores. Dispositivos optoelectrónicos. La luz emite diodos. Método de prueba de la eficiencia cuántica interna basado en la electroluminiscencia dependiente de la temperatura.
  • BS ISO 22197-3:2019 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores: eliminación de tolueno
  • BS ISO 27447:2019 Cambios rastreados. Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para la actividad antibacteriana de materiales fotocatalíticos semiconductores.
  • BS ISO 22197-1:2008 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada) - Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores - Eliminación de óxido nítrico
  • BS ISO 22197-4:2013 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores. Eliminación de formaldehído
  • BS ISO 22197-3:2011 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores. Eliminación de tolueno
  • BS ISO 22197-2:2011 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores. Eliminación de acetaldehído
  • BS IEC 60747-5-10:2019 Dispositivos semiconductores. Dispositivos optoelectrónicos. La luz emite diodos. Método de prueba de la eficiencia cuántica interna basado en el punto de referencia de temperatura ambiente.
  • BS ISO 22197-5:2013 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores. Eliminación de metilmercaptano
  • BS ISO 22197-1:2016 Cambios rastreados. Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores. Eliminación de óxido nítrico
  • BS ISO 22197-4:2021 Cambios rastreados. Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores. Eliminación de formaldehído
  • 19/30390371 DC BSIEC 60747-14-11. Dispositivos semiconductores. Parte 14-11. Sensores semiconductores. Método de prueba de sensor integrado basado en ondas acústicas de superficie para medir rayos ultravioleta, iluminación y temperatura.
  • 18/30362458 DC BSIEC 60747-14-11. Dispositivos semiconductores. Parte 14-11. Sensores semiconductores. Método de prueba de sensor integrado basado en ondas acústicas de superficie para medir rayos ultravioleta, iluminación y temperatura.
  • BS ISO 18061:2014 Cerámica Fina (Cerámica Avanzada, Cerámica Técnica Avanzada). Determinación de la actividad antiviral de materiales fotocatalíticos semiconductores. Método de prueba utilizando el bacteriófago Q-beta.
  • BS ISO 17168-2:2018 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores en un entorno de iluminación interior: eliminación de acetaldehído
  • BS ISO 22197-5:2021 Cambios rastreados. Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores. Eliminación de metilmercaptano
  • BS ISO 17168-4:2018 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores en un entorno de iluminación interior: eliminación de formaldehído
  • BS ISO 27448:2009 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada) - Método de prueba para el rendimiento de autolimpieza de materiales fotocatalíticos semiconductores - Medición del ángulo de contacto con el agua
  • BS ISO 17094:2014 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para la actividad antibacteriana de materiales fotocatalíticos semiconductores en un entorno de iluminación interior.
  • BS ISO 17168-1:2018 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores en un entorno de iluminación interior: eliminación de óxido nítrico
  • BS ISO 10676:2011 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación de agua de materiales fotocatalíticos semiconductores mediante la medición de la capacidad de formación de oxígeno activo.
  • BS ISO 17168-5:2018 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores en un entorno de iluminación interior: eliminación de metilmercaptano
  • 21/30425873 DC BS ISO 22197-4. Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores. Parte 4. Eliminación de formaldehído.
  • BS ISO 17168-3:2018 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores en un entorno de iluminación interior: eliminación de tolueno
  • BS ISO 10676:2010 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación de agua de materiales fotocatalíticos semiconductores mediante la medición de la capacidad de formación de oxígeno activo.
  • 21/30440970 DC BS EN IEC 60747-5-16. Dispositivos semiconductores - Parte 5-16. Dispositivos optoelectrónicos. La luz emite diodos. Método de prueba del voltaje de banda plana basado en la espectroscopia de fotocorriente.
  • 20/30422995 DC BS EN IEC 60747-5-15. Dispositivos semiconductores. Parte 5-15. Dispositivos optoelectrónicos. La luz emite diodos. Método de prueba del voltaje de banda plana basado en la espectroscopia de electrorreflectancia.
  • 21/30425876 DC BS ISO 22197-5. Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores. Parte 5. Eliminación de metilmercaptano.
  • BS ISO 22601:2019 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para determinar el rendimiento de la descomposición oxidativa de fenol de materiales fotocatalíticos semiconductores mediante análisis cuantitativo del carbono orgánico total (TOC)
  • 21/30448583 DC BS EN 62007-1 AMD1. Dispositivos optoelectrónicos semiconductores para aplicaciones de sistemas de fibra óptica. Parte 1. Plantilla de especificaciones para clasificaciones y características esenciales
  • BS ISO 18560-1:2014 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores mediante el método de cámara de prueba en un entorno de iluminación interior. Eliminación de formaldehído
  • 18/30367367 DC BSIEC 60747-5-62. Dispositivos semiconductores. Parte 5-9. Dispositivos optoelectrónicos. La luz emite diodos. Método de prueba de la eficiencia cuántica interna basado en la electroluminiscencia dependiente de la temperatura.
  • 20/30422991 DC BS EN IEC 60747-5-14. Dispositivos semiconductores. Parte 5-14. Dispositivos optoelectrónicos. La luz emite diodos. Método de prueba de la temperatura de la superficie basado en el método de termorreflectancia.
  • BS ISO 19810:2017 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para el rendimiento de autolimpieza de materiales fotocatalíticos semiconductores en un entorno de iluminación interior. Medición del ángulo de contacto con el agua.
  • BS ISO 19652:2018 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para determinar el rendimiento de la descomposición completa de materiales fotocatalíticos semiconductores en un entorno de iluminación interior. Descomposición del acetaldehído.
  • BS ISO 18071:2016 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Determinación de la actividad antiviral de materiales fotocatalíticos semiconductores en ambientes de iluminación interior. Método de prueba utilizando el bacteriófago Q-beta.
  • BS ISO 19810:2023 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para el rendimiento de autolimpieza de materiales fotocatalíticos semiconductores en un entorno de iluminación interior. Medición del ángulo de contacto con el agua.

German Institute for Standardization, Basado en fotocatálisis de semiconductores.

  • DIN CEN/TS 16599:2014-07*DIN SPEC 7397:2014-07 Fotocatálisis: condiciones de irradiación para probar las propiedades fotocatalíticas de materiales semiconductores y la medición de estas condiciones; Versión alemana CEN/TS 16599:2014
  • DIN ISO 22197-1:2018-12 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores. Parte 1: Eliminación de óxido nítrico (ISO 22197-1:2016).
  • DIN ISO 22197-1:2018 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores. Parte 1: Eliminación de óxido nítrico (ISO 22197-1:2016).
  • DIN ISO 22197-1:2016 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores. Parte 1: Eliminación de óxido nítrico (ISO 22197-1:2007).
  • DIN EN 62007-1:2023-07 Dispositivos optoelectrónicos semiconductores para aplicaciones de sistemas de fibra óptica. Parte 1: Plantilla de especificación para clasificaciones y características esenciales (IEC 62007-1:2015 + AMD1:2022); Versión alemana EN 62007-1:2015 + A1:2022 / Nota: DIN EN 62007-1 (2016-03...

Japanese Industrial Standards Committee (JISC), Basado en fotocatálisis de semiconductores.

  • JIS R 1750:2012 Cerámica fina: fuente de luz para probar materiales fotocatalíticos semiconductores utilizados en entornos de iluminación interior.
  • JIS R 1708:2016 Cerámica fina (Cerámica avanzada, Cerámica técnica avanzada) -- Método de ensayo para la determinación de la actividad fotocatalítica en materiales fotocatalíticos semiconductores mediante el consumo de oxígeno disuelto
  • JIS R 1712:2022 Cerámicas finas (cerámicas avanzadas, cerámicas técnicas avanzadas) -- Método de prueba para la actividad antialgas de materiales fotocatalíticos semiconductores

IEC - International Electrotechnical Commission, Basado en fotocatálisis de semiconductores.

  • IEC TR 63133:2017 Dispositivos semiconductores: estimación del nivel de envejecimiento basada en escaneo para dispositivos semiconductores (Edición 1.0)

International Organization for Standardization (ISO), Basado en fotocatálisis de semiconductores.

  • ISO 19722:2017 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada) - Método de ensayo para la determinación de la actividad fotocatalítica en materiales fotocatalíticos semiconductores mediante el consumo de oxígeno disuelto
  • ISO 24448:2023 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada): fuente de luz LED para probar materiales fotocatalíticos semiconductores utilizados en entornos de iluminación interior.
  • ISO 13125:2013 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada) - Método de prueba para la actividad antifúngica de materiales fotocatalíticos semiconductores
  • ISO 19635:2016 Cerámicas finas (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada) - Método de ensayo para la actividad antialgas de materiales fotocatalíticos semiconductores
  • ISO 27447:2019 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada): método de prueba para determinar la actividad antibacteriana de materiales fotocatalíticos semiconductores
  • ISO 27447:2009 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada) - Método de prueba para la actividad antibacteriana de materiales fotocatalíticos semiconductores
  • ISO 22197-1:2016 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada) - Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores - Parte 1: Eliminación de óxido nítrico
  • ISO 22197-3:2019 Cerámicas finas (cerámicas avanzadas, cerámicas técnicas avanzadas). Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores. Parte 3: Eliminación de tolueno.
  • ISO 22197-2:2019 Cerámicas finas (cerámicas avanzadas, cerámicas técnicas avanzadas). Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores. Parte 2: Eliminación de acetaldehído.
  • ISO 22197-1:2007 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada) - Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores - Parte 1: Eliminación de óxido nítrico
  • ISO 18061:2014 Cerámica Fina (Cerámica Avanzada, Cerámica Técnica Avanzada) - Determinación de la actividad antiviral de materiales fotocatalíticos semiconductores - Método de ensayo utilizando el bacteriófago Q-beta
  • ISO 22197-2:2011 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada) - Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores - Parte 2: Eliminación de acetaldehído
  • ISO 22197-3:2011 Cerámicas finas (cerámicas avanzadas, cerámicas técnicas avanzadas) - Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores - Parte 3: Eliminación de tolueno
  • ISO 22197-4:2021 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada) - Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores - Parte 4: Eliminación de formaldehído
  • ISO 22197-5:2021 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada) - Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores - Parte 5: Eliminación de metilmercaptano
  • ISO 22197-4:2013 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada) - Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores - Parte 4: Eliminación de formaldehído
  • ISO 22197-5:2013 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada) - Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores - Parte 5: Eliminación de metilmercaptano
  • ISO 17094:2014 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada): método de prueba para la actividad antibacteriana de materiales fotocatalíticos semiconductores en un entorno de iluminación interior
  • ISO 19810:2023 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para determinar el rendimiento de autolimpieza de materiales fotocatalíticos semiconductores en condiciones de iluminación interior. Medición del ángulo de contacto con el agua.
  • ISO 10676:2010 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada): método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación de agua de materiales fotocatalíticos semiconductores mediante la medición de la capacidad de formación del oxígeno activo.
  • ISO 17168-1:2018 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada) - Método de prueba para el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores en un entorno de iluminación interior - Parte 1: Eliminación de óxido nítrico
  • ISO 17168-2:2018 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada) - Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores en un entorno de iluminación interior - Parte 2: Eliminación de acetaldehído
  • ISO 17168-3:2018 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada) - Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores en un entorno de iluminación interior - Parte 3: Eliminación de tolueno
  • ISO 17168-4:2018 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada) - Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores en un entorno de iluminación interior - Parte 4: Eliminación de formaldehído
  • ISO 22601:2019 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada): método de prueba para determinar el rendimiento de la descomposición oxidativa de fenol de materiales fotocatalíticos semiconductores mediante métodos cuantitativos.
  • ISO 19810:2017 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada) - Método de prueba para el rendimiento de autolimpieza de materiales fotocatalíticos semiconductores en un entorno de iluminación interior - Medición del ángulo de contacto con el agua
  • ISO 19652:2018 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada) - Método de prueba para el rendimiento de descomposición completa de materiales fotocatalíticos semiconductores en un ambiente de iluminación interior - Descomposición de acetaldehído
  • ISO 18071:2016 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada) - Determinación de la actividad antiviral de materiales fotocatalíticos semiconductores en un ambiente de iluminación interior - Método de prueba utilizando el bacteriófago Q-beta
  • ISO 18560-1:2014 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada) - Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores mediante el método de cámara de prueba en un entorno de iluminación interior - Parte 1: Eliminación de formaldehído
  • ISO 17168-5:2018 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada) - Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores en un entorno de iluminación interior - Parte 5: Eliminación de metilmercaptano
  • ISO 22551:2020 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Determinación de la tasa de reducción bacteriana mediante materiales fotocatalíticos semiconductores en un entorno de iluminación interior. Método semiseco.

KR-KS, Basado en fotocatálisis de semiconductores.

  • KS L ISO 10677-2023 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada): fuente de luz ultravioleta para probar materiales fotocatalíticos semiconductores
  • KS L ISO 27447-2023 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada): método de prueba para determinar la actividad antibacteriana de materiales fotocatalíticos semiconductores
  • KS L ISO 14605-2023 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada): fuente de luz para probar materiales fotocatalíticos semiconductores utilizados en entornos de iluminación interior.
  • KS L ISO 22197-1-2018 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores. Parte 1: Eliminación de óxido nítrico.
  • KS L ISO 22197-2-2020 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores. Parte 2: Eliminación de acetaldehído.
  • KS L ISO 22197-4-2020 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores. Parte 4: Eliminación de formaldehído.
  • KS L ISO 22197-3-2020 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores. Parte 3: Eliminación de tolueno.
  • KS L ISO 22197-1-2022 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores. Parte 1: Eliminación de óxido nítrico.
  • KS L ISO 22197-5-2020 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores. Parte 5: Eliminación de metilmercaptano.
  • KS L ISO 17168-1-2020 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para el rendimiento de purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores en un entorno de iluminación interior. Parte 1: Remova
  • KS L ISO 17168-2-2020 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para el rendimiento de purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores en un entorno de iluminación interior. Parte 2: Remova
  • KS L ISO 17168-4-2020 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para el rendimiento de purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores en un entorno de iluminación interior. Parte 4: Remova
  • KS L ISO 17168-3-2020 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para el rendimiento de purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores en un entorno de iluminación interior. Parte 3: Remova
  • KS C IEC 60811-410-2016 Cables eléctricos y de fibra óptica. Métodos de prueba para materiales no metálicos. Parte 410: Pruebas diversas. Método de prueba para la degradación oxidativa catalizada por cobre de conductores aislados con poliolefina.

Korean Agency for Technology and Standards (KATS), Basado en fotocatálisis de semiconductores.

  • KS L ISO 27447-2011(2016) Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada) -Método de prueba para la actividad antibacteriana de materiales fotocatalíticos semiconductores
  • KS L ISO 27447-2011(2021) Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada) -Método de prueba para la actividad antibacteriana de materiales fotocatalíticos semiconductores
  • KS L ISO 27447:2011 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada) -Método de prueba para la actividad antibacteriana de materiales fotocatalíticos semiconductores
  • KS L ISO 22197-1:2018 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores. Parte 1: Eliminación de óxido nítrico.
  • KS L ISO 22197-2:2020 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores. Parte 2: Eliminación de acetaldehído.
  • KS L ISO 22197-3:2020 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores. Parte 3: Eliminación de tolueno.
  • KS L ISO 22197-4:2020 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores. Parte 4: Eliminación de formaldehído.
  • KS L ISO 22197-1:2008 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada) -Método de prueba para el rendimiento de purificación de aire de materiales fotocatalíticos semiconductores-Parte 1: Eliminación de óxido nítrico
  • KS L ISO 22197-1:2022 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores. Parte 1: Eliminación de óxido nítrico.
  • KS L ISO 27448-2011(2021) Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada)-Método de prueba para el rendimiento de autolimpieza de materiales fotocatalíticos semiconductores-Medición del ángulo de contacto con el agua
  • KS L ISO 27448-2011(2016) Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada)-Método de prueba para el rendimiento de autolimpieza de materiales fotocatalíticos semiconductores-Medición del ángulo de contacto con el agua
  • KS L ISO 22197-5:2020 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores. Parte 5: Eliminación de metilmercaptano.
  • KS L ISO 10676:2012 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada) -Método de prueba para el rendimiento de la purificación de agua de materiales fotocatalíticos semiconductores mediante la medición de la capacidad de formación del oxígeno activo
  • KS L ISO 10676-2012(2022) Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada) -Método de prueba para el rendimiento de purificación de agua de materiales fotocatalíticos semiconductores mediante la medición de la capacidad de formación del oxígeno activo
  • KS L ISO 17168-1:2020 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para el rendimiento de purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores en un entorno de iluminación interior. Parte 1: Remova
  • KS L ISO 17168-2:2020 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para el rendimiento de purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores en un entorno de iluminación interior. Parte 2: Remova
  • KS L ISO 17168-3:2020 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para el rendimiento de purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores en un entorno de iluminación interior. Parte 3: Remova
  • KS L ISO 17168-4:2020 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para el rendimiento de purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores en un entorno de iluminación interior. Parte 4: Remova
  • KS L ISO 10676-2012(2017) Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada) -Método de prueba para el rendimiento de purificación de agua de materiales fotocatalíticos semiconductores mediante la medición de la capacidad de formación del oxígeno activo
  • KS C IEC 60811-410:2016 Cables eléctricos y de fibra óptica. Métodos de prueba para materiales no metálicos. Parte 410: Pruebas diversas. Método de prueba para la degradación oxidativa catalizada por cobre de conductores aislados con poliolefina.

Professional Standard - Post and Telecommunication, Basado en fotocatálisis de semiconductores.

  • YD/T 2001.1-2009 Dispositivos optoelectrónicos semiconductores para aplicaciones de sistemas de fibra óptica. Parte 1: Plantilla de especificaciones para clasificaciones y características esenciales.

CENELEC - European Committee for Electrotechnical Standardization, Basado en fotocatálisis de semiconductores.

  • EN 62007-1:2000 Dispositivos optoelectrónicos semiconductores para aplicaciones de sistemas de fibra óptica, Parte 1: Clasificaciones y características esenciales

RU-GOST R, Basado en fotocatálisis de semiconductores.

  • GOST 29115-1991 Conjuntos de detectores de radiación gamma para espectrometría. Métodos de medición de parámetros básicos.

AENOR, Basado en fotocatálisis de semiconductores.

  • UNE-ISO 22197-1:2012 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada). Método de prueba para determinar el rendimiento de la purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores. Parte 1: Eliminación del óxido nítrico
  • UNE 127197-1:2013 Aplicación del método de prueba para evaluar el rendimiento de purificación del aire de materiales fotocatalíticos semiconductores empapados en productos prefabricados de hormigón - Parte 1: Eliminación de óxido nítrico.

International Electrotechnical Commission (IEC), Basado en fotocatálisis de semiconductores.

  • IEC 60747-5-16:2023 Dispositivos semiconductores - Parte 5-16: Dispositivos optoelectrónicos - Diodos emisores de luz - Método de prueba del voltaje de banda plana de diodos emisores de luz basados en GaN basado en la espectroscopia de fotocorriente
  • IEC 60747-5-10:2019 Dispositivos semiconductores - Parte 5-10: Dispositivos optoelectrónicos - Diodos emisores de luz - Método de prueba de la eficiencia cuántica interna basado en el punto de referencia de temperatura ambiente
  • IEC 60747-5-15:2022 Dispositivos semiconductores - Parte 5-15: Dispositivos optoelectrónicos - Diodos emisores de luz - Método de prueba del voltaje de banda plana basado en la espectroscopia de electrorreflectancia
  • IEC 60747-5-14:2022 Dispositivos semiconductores - Parte 5-14: Dispositivos optoelectrónicos - Diodos emisores de luz - Método de prueba de la temperatura de la superficie basado en el método de termorreflectancia
  • IEC 60747-5-9:2019 Dispositivos semiconductores - Parte 5-9: Dispositivos optoelectrónicos - Diodos emisores de luz - Método de prueba de la eficiencia cuántica interna basado en la electroluminiscencia dependiente de la temperatura

ES-UNE, Basado en fotocatálisis de semiconductores.

  • UNE-EN 62007-1:2015/A1:2022 Dispositivos optoelectrónicos semiconductores para aplicaciones de sistemas de fibra óptica - Parte 1: Plantilla de especificación de clasificaciones y características esenciales (Ratificada por la Asociación Española de Normalización en diciembre de 2022.)
  • UNE-EN 62007-1:2015 Dispositivos optoelectrónicos semiconductores para aplicaciones de sistemas de fibra óptica - Parte 1: Plantilla de especificación de calibres y características esenciales (Ratificada por AENOR en agosto de 2015.)
  • UNE-EN IEC 60747-17:2020 Dispositivos semiconductores - Parte 17: Acoplador magnético y capacitivo para aislamiento básico y reforzado (Ratificada por la Asociación Española de Normalización en enero de 2021.)

Lithuanian Standards Office , Basado en fotocatálisis de semiconductores.

  • LST EN 62007-1-2015 Dispositivos optoelectrónicos semiconductores para aplicaciones de sistemas de fibra óptica. Parte 1: Plantilla de especificación para clasificaciones y características esenciales (IEC 62007-1:2015)
  • LST EN 62007-1-2009 Dispositivos optoelectrónicos semiconductores para aplicaciones de sistemas de fibra óptica. Parte 1: Plantilla de especificación para clasificaciones y características esenciales (IEC 62007-1:2008)




©2007-2023 Reservados todos los derechos.