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tensión residual de la película

tensión residual de la película, Total: 8 artículos.

En la clasificación estándar internacional, las clasificaciones involucradas en tensión residual de la película son: Fotografía, Dispositivos semiconductores, Componentes electromecánicos para equipos electrónicos y de telecomunicaciones..


American Society for Testing and Materials (ASTM), tensión residual de la película

  • ASTM E2245-05 Método de prueba estándar para mediciones de deformación residual de películas delgadas y reflectantes utilizando un interferómetro óptico
  • ASTM E2245-02 Método de prueba estándar para mediciones de deformación residual de películas delgadas y reflectantes utilizando un interferómetro óptico

European Committee for Electrotechnical Standardization(CENELEC), tensión residual de la película

  • EN 62047-16:2015 Dispositivos semiconductores - Dispositivos microelectromecánicos - Parte 16: Métodos de prueba para determinar tensiones residuales de películas MEMS - Métodos de curvatura de oblea y deflexión del haz en voladizo

Association Francaise de Normalisation, tensión residual de la película

  • NF C96-050-16*NF EN 62047-16:2015 Dispositivos semiconductores - Dispositivos microelectromecánicos - Parte 16: métodos de prueba para determinar tensiones residuales de películas MEMS - Métodos de curvatura de oblea y deflexión del haz en voladizo
  • NF EN 62047-16:2015 Dispositivos semiconductores - Dispositivos microelectromecánicos - Parte 16: Métodos de prueba para determinar tensiones residuales de películas MEMS - Métodos de curvatura de oblea y deflexión del haz en voladizo

International Electrotechnical Commission (IEC), tensión residual de la película

  • IEC 62047-16:2015 Dispositivos semiconductores - Dispositivos microelectromecánicos - Parte 16: Métodos de prueba para determinar tensiones residuales de películas MEMS - Métodos de curvatura de oblea y deflexión del haz en voladizo

ES-UNE, tensión residual de la película

  • UNE-EN 62047-16:2015 Dispositivos semiconductores - Dispositivos microelectromecánicos - Parte 16: Métodos de ensayo para determinar tensiones residuales de películas MEMS - Métodos de curvatura de oblea y deflexión del haz en voladizo (Ratificado por AENOR en agosto de 2015.)

German Institute for Standardization, tensión residual de la película

  • DIN EN 62047-16:2015-12 Dispositivos semiconductores - Dispositivos microelectromecánicos - Parte 16: Métodos de prueba para determinar tensiones residuales de películas MEMS - Métodos de curvatura de oblea y deflexión del haz en voladizo (IEC 62047-16:2015); Versión alemana EN 62047-16:2015




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