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静的レーザー散乱

静的レーザー散乱は全部で 110 項標準に関連している。

静的レーザー散乱 国際標準分類において、これらの分類：粒度分析、スクリーニング、 包括的なテスト条件と手順、 オプトエレクトロニクス、レーザー装置、 オーディオ、ビデオ、およびオーディオビジュアル エンジニアリング、 ガラス、 無駄、 熱力学と温度測定、 溶接、ロウ付け、低温溶接、 水質、 金属材料試験、 光ファイバー通信、 半導体材料、 セラミックス、 電子管、 計測学と測定の総合、 環境を守ること、 長さと角度の測定、 放射線測定、 土壌品質、土壌科学、 塗料とワニス。


National Metrological Verification Regulations of the People's Republic of China, 静的レーザー散乱

  • JJG 228-1993 静的レーザー小角光散乱光度計の校正手順
  • JJG 1104-2015 動的光散乱粒度分析装置の校正手順

国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会, 静的レーザー散乱

Group Standards of the People's Republic of China, 静的レーザー散乱

  • T/CSP 6-2019 静的多重光散乱法を用いた粒子技術分散系の安定性評価
  • T/CVIA 113-2023 レーザーディスプレイのスペックルコントラストの動的試験方法
  • T/ZBH 019-2021 ガラス応力測定法 - レーザー偏光散乱法
  • T/IAWBS 010-2019 炭化珪素単結晶研磨ウェーハの表面品質およびマイクロチューブ密度検出法 - レーザー散乱検出法
  • T/JSSES 29-2023 土壌質 全土壌ケイ素、アルミニウム、鉄、カリウム、ナトリウム、カルシウム、マグネシウム、マンガン、リン、チタン、硫黄の測定 単一波長励起エネルギー分散型蛍光X線分析

British Standards Institution (BSI), 静的レーザー散乱

  • BS ISO 19986:2020 レーザーおよびレーザー関連機器の角度分解散乱の試験方法
  • BS ISO 22412:2008 粒子径分析。 動的光散乱 (DLS)
  • BS ISO 22412:2017 粒子径分析。 動的光散乱 (DLS)
  • 19/30339687 DC BS ISO 19986 レーザーおよびレーザー関連機器の角度分解散乱の試験方法
  • PD CEN ISO/TS 21357:2023 ナノテクノロジー静的多重光散乱 (SMLS) による分散液中のナノオブジェクトの平均サイズの評価
  • PD ISO/TR 22814:2020 動的光散乱 (DLS) 測定のグッドプラクティス
  • BS EN ISO 15616-2:2003 高品質の溶接および切断のための CO2 レーザー加工機の受け入れテスト静的および動的精度の決定
  • BS EN 62149-7:2012 光ファイバーアクティブコンポーネントおよびデバイス、性能基準、1310 nm 個別垂直開口面発光レーザー
  • BS EN 62149-2:2009 光ファイバーアクティブコンポーネントおよびデバイス、性能基準、850 nm 個別垂直共振器面発光レーザーデバイス。
  • BS EN 62149-2:2010 850 nm 個別垂直共振器面発光レーザー デバイスの光ファイバー アクティブ コンポーネントとデバイス性能基準
  • BS EN 62149-2:2014 光ファイバーアクティブコンポーネントおよびデバイス、性能基準、850 nm 個別垂直共振器面発光レーザーデバイス。
  • BS EN 62148-15:2014 光ファイバーアクティブコンポーネントおよびデバイス、パッケージングおよびインターフェース規格、ディスクリート垂直共振器面発光レーザーパッケージ
  • BS EN 62148-15:2010 光ファイバーアクティブコンポーネントおよびデバイス、パッケージングおよびインターフェース規格、ディスクリート垂直共振器面発光レーザーパッケージ
  • BS EN IEC 62148-15:2021 光ファイバーアクティブコンポーネントおよびデバイス、パッケージングおよびインターフェース規格、パート 15: ディスクリート垂直共振器面発光レーザーのパッケージング
  • 20/30405017 DC BS EN 62148-15 光ファイバーアクティブコンポーネントおよびデバイスのパッケージングおよびインターフェイスに関する規格 パート 15: ディスクリート垂直共振器面発光レーザーのパッケージング

International Organization for Standardization (ISO), 静的レーザー散乱

  • ISO 22412:2008 粒子径分析。 動的光散乱 (DLS)
  • ISO 22412:2017 粒子サイズ分析、動的光散乱 (DLS)
  • ISO/CD 22412:2023 粒子サイズ分析 - 動的光散乱 (DLS)
  • ISO 19986:2020 レーザーおよびレーザー関連機器 角度分解散乱の試験方法
  • ISO/TS 21357:2022 ナノテクノロジー静的多重光散乱 (SMLS) による分散液中のナノオブジェクトの平均サイズの評価
  • ISO/TR 22814:2020 動的光散乱 (DLS) 測定のグッドプラクティス
  • ISO 15616-2:2003 高品質の溶接および切断のための CO2 レーザー機械の受け入れテスト パート 2: 静的および動的精度の決定

Japanese Industrial Standards Committee (JISC), 静的レーザー散乱

German Institute for Standardization, 静的レーザー散乱

  • DIN ISO 22412:2018-09 粒子サイズ分析 動的光散乱 (DLS)
  • DIN ISO 22412:2018 粒子サイズ分析、動的光散乱 (DLS) (ISO 22412-2017)
  • DIN EN ISO 15616-2:2003 高品質の溶接および切断のための CO2 レーザー機械の受け入れテスト パート 2: 静的および動的精度の決定
  • DIN CEN ISO/TS 21357:2023-09 ナノテクノロジー 静的多重光散乱法 (SMLS) による分散液中のナノオブジェクトの平均サイズの評価 (ISO/TS 21357:2022)、ドイツ語版 CEN ISO/TS 21357:2023
  • DIN EN IEC 62148-15:2022-10 光ファイバーアクティブコンポーネントおよびデバイスのパッケージングおよびインターフェースに関する規格 パート 15: ディスクリート垂直共振器面発光レーザーのパッケージング
  • DIN EN 62149-2:2015 光ファイバーアクティブコンポーネントおよびデバイス 性能基準 パート 2: 850 mm ディスクリート垂直共振器面発光レーザーパッケージ
  • DIN EN 62149-2:2010 光ファイバーアクティブコンポーネントおよびデバイス 性能基準 パート 2: 850 mm ディスクリート垂直共振器面発光レーザーパッケージ
  • DIN EN ISO 15616-2:2003-05 高品質の溶接および切断のための CO レーザー加工機の受け入れテスト - パート 2: 静的および動的精度の測定 (ISO 15616-2:2003)

RU-GOST R, 静的レーザー散乱

  • GOST 26086-1984 レーザー レーザー放射ビーム径とエネルギー発散の測定方法
  • GOST 21106.13-1978 陽極消費電力が25Wを超える発光変調管および制御管 静電極間容量の測定方法
  • GOST R 8.774-2011 国家測定一貫性保証システム 液体媒体の分散組成 粒子径の動的光散乱測定
  • GOST R 8.777-2011 国家測定一貫性保証システム エアロゾルおよび懸濁液の分散成分 レーザー回折による粒子径測定
  • GOST 8.444-1981 ГСИ. パルスレーザー放射コンバーターの動的パラメータを測定するための標準測定機器、校正方法とツール
  • GOST 8.198-1985 国家測定均一性保証システム パルスレーザー放射粉末および波長 0.4 ～ 10.6um のレーザー検出器の動的パラメーターの試験方法 国家特別基準および同盟全体の識別表

General Administration of Quality Supervision, Inspection and Quarantine of the People‘s Republic of China, 静的レーザー散乱

  • GB/T 29022-2012 粒子サイズ分析 動的光散乱 (DLS)
  • GB/T 42902-2023 炭化珪素エピタキシャルウェーハの表面欠陥検査のためのレーザー散乱法
  • GB 6598-1986 小角レーザー光散乱法によるポリスチレン標準サンプルの重量平均分子量の測定

Military Standard of the People's Republic of China-General Armament Department, 静的レーザー散乱

Association Francaise de Normalisation, 静的レーザー散乱

  • NF EN ISO 11146-1:2021 レーザーおよびレーザー関連機器のビーム幅、発散角、回折限界係数の試験方法 第1部：単非点収差ビームと非点収差ビーム
  • XP T16-408*XP ISO/TS 21357:2022 ナノテクノロジー静的多重光散乱 (SMLS) による分散液中のナノオブジェクトの平均サイズの評価
  • XP CEN ISO/TS 21357:2023 ナノテクノロジー - 静的多重光散乱 (DSML) による分散液中のナノオブジェクトの平均サイズの評価
  • NF EN ISO 11146-2:2021 レーザーおよびレーザー関連機器のビーム幅、発散角、回折限界係数の試験方法 第2部：一般的な非点収差ビーム
  • NF A89-701-2*NF EN ISO 15616-2:2003 CO2 レーザー溶接機および切断機の受け入れ試験 その 2: 静的および動的精度の決定
  • NF C93-884-7*NF EN 62149-7:2012 光ファイバーアクティブコンポーネントおよびデバイスの性能基準パート 7: 1310 nm 個別垂直開口面発光レーザー
  • NF EN ISO 15616-2:2003 CO2 レーザービーム溶接および切断機の品質の受け入れテスト - パート 2: 静的および動的条件下でのビームのシステム精度の測定
  • NF C93-884-2*NF EN 62149-2:2015 光ファイバーアクティブコンポーネントおよびデバイス 性能基準 パート 2: 850 nm 個別垂直共振器面発光レーザー
  • NF C93-883-15*NF EN IEC 62148-15:2021 光ファイバーアクティブコンポーネントおよびデバイス、パッケージングおよびインターフェース規格、パート 15: ディスクリート垂直共振器面発光レーザー

American Society for Testing and Materials (ASTM), 静的レーザー散乱

  • ASTM UOP856-85 レーザー散乱による粉体の粒度分布測定
  • ASTM D4464-00 レーザー散乱による触媒材料の粒度分布測定のための標準試験方法
  • ASTM D4464-00(2005) レーザー散乱による触媒材料の粒度分布測定のための標準試験方法
  • ASTM D4464-15(2020) レーザー散乱による触媒材料の粒度分布の標準試験方法
  • ASTM D4464-15 レーザー散乱による触媒材料の粒度分布の標準試験方法
  • ASTM D4464-10 レーザー散乱による触媒材料の粒度分布測定のための標準試験方法
  • ASTM UOP1013-16 波長分散型蛍光X線法による液体炭化水素中の全塩化物の定量
  • ASTM C1070-01(2020) レーザー散乱による酸化アルミニウムまたは石英の粒度分布の標準試験方法
  • ASTM E3247-20 動的光散乱により水性媒体中のナノ粒子サイズを測定するための標準的な試験方法
  • ASTM F1375-92(2005) ガス分配システムコンポーネントの金属表面状態のエネルギー分散型 X 線分光分析の試験方法
  • ASTM D8064-16 複数の単色励起光を用いた単色エネルギー分散型蛍光X線分析法による土壌および固形廃棄物の元素分析の標準試験法
  • ASTM F2853-10 複数の単色光励起ビームを使用したエネルギー分散型蛍光 X 線分光法による、基材および同様の材料上の塗料および同様のコーティングに含まれる鉛を測定するための標準試験方法

Universal Oil Products Company (UOP), 静的レーザー散乱

  • UOP 856-2007 レーザー散乱による粉体の粒度分布測定

ES-UNE, 静的レーザー散乱

  • UNE-CEN ISO/TS 21357:2023 ナノテクノロジー静的多重光散乱 (SMLS) による分散液中のナノオブジェクトの平均サイズの評価
  • UNE-EN IEC 62148-15:2021 光ファイバーアクティブコンポーネントおよびデバイスのパッケージングおよびインターフェースに関する規格 パート 15: ディスクリート垂直共振器面発光レーザーのパッケージング
  • UNE-EN 62148-15:2014 光ファイバーアクティブコンポーネントおよびデバイスのパッケージングおよびインターフェースに関する規格 パート 15: ディスクリート垂直共振器面発光レーザーのパッケージング

Hebei Provincial Standard of the People's Republic of China, 静的レーザー散乱

  • DB13/T 5530-2022 レーザー散乱法を使用したケータリング産業における油煙汚染物質の測定

Jiangsu Provincial Standard of the People's Republic of China, 静的レーザー散乱

  • DB32/T 4026-2021 グラフェン材料の熱拡散係数を測定するためのレーザーフラッシュ法

Korean Agency for Technology and Standards (KATS), 静的レーザー散乱

  • KS B ISO 15616-2:2003 高品質の溶接および切断のための CO2 レーザー機械の受け入れテスト パート 2: 静的および動的精度の決定
  • KS B ISO 15616-2:2018 高品質な溶接と切断のための CO2 レーザー加工機の受け入れテスト - パート 2: 静的および動的精度の測定

Heilongjiang Provincial Standard of the People's Republic of China, 静的レーザー散乱

  • DB23/T 2482-2019 レーザー散乱法による固定汚染源からの排気粒子状物質の定量

European Committee for Standardization (CEN), 静的レーザー散乱

  • CEN ISO/TS 21357:2023 ナノテクノロジー静的多重光散乱 (SMLS) による分散液中のナノオブジェクトの平均サイズの評価 (ISO/TS 21357:2022)
  • EN ISO 15616-2:2003 高品質の溶接および切断のための CO2 レーザー加工機の受け入れテスト パート 2: 静的および動的精度の決定 ISO 15616-2-2003

国家能源局, 静的レーザー散乱

  • SH/T 0951-2017 レーザー散乱法による接触分解触媒の粒度分布測定

KR-KS, 静的レーザー散乱

  • KS B ISO 15616-2-2018(2023) 高品質な溶接・切断を実現するCO2レーザー加工機の受け入れ試験 その2：静的・動的精度の測定
  • KS B ISO 15616-2-2018 高品質な溶接と切断のための CO2 レーザー加工機の受け入れテスト - パート 2: 静的および動的精度の測定

未注明发布机构, 静的レーザー散乱

  • BS EN ISO 15616-2:2003(2009) 高品質な溶接と切断のための CO2 レーザー加工機の受け入れテスト - パート 2: 静的および動的精度の測定

International Electrotechnical Commission (IEC), 静的レーザー散乱

  • IEC 62149-7:2012 光ファイバーアクティブコンポーネントおよびデバイス 性能基準 パート 7: 1310 nm 個別垂直開口面発光レーザー
  • IEC 62149-2:2009 光ファイバーアクティブコンポーネントおよびデバイスの性能基準パート 2: 850 nm 離散垂直ホール面発光レーザーデバイス
  • IEC 62149-2:2014 光ファイバーアクティブコンポーネントおよびデバイスの性能基準パート 2: 850 nm 離散垂直ホール面発光レーザーデバイス
  • IEC 62148-15:2014 光ファイバーアクティブコンポーネントおよびデバイス、パッケージングおよびインターフェース規格、パート 15: ディスクリート垂直共振器面発光レーザーのパッケージング
  • IEC 62148-15:2009 光ファイバーアクティブコンポーネントおよびデバイス、パッケージングおよびインターフェース規格、パート 15: ディスクリート垂直共振器面発光レーザーのパッケージング
  • IEC 62148-15:2021 光ファイバーアクティブコンポーネントおよびデバイス、パッケージングおよびインターフェース規格、パート 15: ディスクリート垂直共振器面発光レーザーのパッケージング

Danish Standards Foundation, 静的レーザー散乱

  • DS/EN ISO 15616-2:2003 高品質な溶接・切断を実現するCO2レーザー加工機の受け入れ試験 その2：静的・動的精度の測定
  • DS/EN 62149-2:2009 光ファイバーアクティブコンポーネントとデバイス性能基準パート 2: 850 nm ディスクリート垂直共振器面発光レーザーデバイス
  • DS/EN 62149-7:2012 光ファイバーアクティブコンポーネントとデバイス性能基準パート 7: 1 310 nm 個別垂直共振器面発光レーザーデバイス

Professional Standard - Non-ferrous Metal, 静的レーザー散乱

  • YS/T 617.7-2007 アルミニウム、マグネシウムおよびそれらの合金粉末の物理的および化学的性質の測定方法 第 7 部：粒度分布の測定 レーザー散乱・回折法

CENELEC - European Committee for Electrotechnical Standardization, 静的レーザー散乱

  • EN 62149-7:2012 光ファイバーアクティブコンポーネントとデバイス性能基準パート 7: 1 310 nm 個別垂直共振器面発光レーザーデバイス

Jiangxi Provincial Standard of the People's Republic of China, 静的レーザー散乱

  • DB36/T 1919-2023 ポータブル単一波長励起エネルギー分散型蛍光X線分析装置を使用した、水質中の無機元素の現場での迅速な測定

European Committee for Electrotechnical Standardization（CENELEC）, 静的レーザー散乱

  • EN 62149-2:2009 光ファイバーアクティブコンポーネントおよびデバイス 性能基準 パート 2: 850mm ディスクリート垂直共振器面発光レーザーパッケージ
  • EN 62149-2:2014 光ファイバーアクティブコンポーネントおよびデバイス 性能基準 パート 2: 850mm ディスクリート垂直共振器面発光レーザーパッケージ
  • EN 62148-15:2010 光ファイバーアクティブコンポーネントおよびデバイス、パッケージングおよびインターフェース規格、パート 15: ディスクリート垂直共振器面発光レーザーのパッケージング
  • EN 62148-15:2014 光ファイバーアクティブコンポーネントおよびデバイス、パッケージングおよびインターフェース規格、パート 15: ディスクリート垂直共振器面発光レーザーのパッケージング

Lithuanian Standards Office , 静的レーザー散乱

  • LST EN ISO 15616-2:2003 高品質の溶接および切断のための CO2 レーザー加工機の受け入れテスト パート 2: 静的および動的精度の測定 (ISO 15616-2:2003)
  • LST EN 62149-2-2009 光ファイバーアクティブコンポーネントおよびデバイスの性能基準パート 2: 850 nm ディスクリート垂直共振器面発光レーザーデバイス (IEC 62149-2:2009)
  • LST EN 62149-7-2012 光ファイバーアクティブコンポーネントとデバイス性能基準パート 7: 1 310 nm ディスクリート垂直共振器面発光レーザーデバイス (IEC 62149-7:2012)
  • LST EN 62148-15-2014 光ファイバーアクティブコンポーネントおよびデバイス、パッケージングおよびインターフェース規格、パート 15: ディスクリート垂直共振器面発光レーザーパッケージ (IEC 62148-15-2014)

AENOR, 静的レーザー散乱

  • UNE-EN ISO 15616-2:2003 高品質の溶接および切断のための CO2 レーザー加工機の受け入れテスト パート 2: 静的および動的精度の測定 (ISO 15616-2:2003)

Military Standard of the People's Republic of China-Commission of Science,Technology and Industry for National Defence, 静的レーザー散乱

  • GJB 2241.2-2006 パルスレーザー距離計の性能試験方法その2：静的最大距離、最小距離、測距精度およびエコー率試験

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