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レーザー装置

レーザー装置は全部で 27 項標準に関連している。

レーザー装置 国際標準分類において、これらの分類：光ファイバー通信、 オプトエレクトロニクス、レーザー装置、 半導体材料、 光学機器。

Military Standard of the People's Republic of China-General Armament Department, レーザー装置

• GJB/Z 43.2-1993 軍用レーザー装置シリーズ スペクトル固体レーザー
• GJB/Z 43.1-1993 軍用レーザー装置シリーズ スペクトルガスレーザー

Professional Standard - Post and Telecommunication, レーザー装置

• YD/T 1813-2008 通信用ファイバ増幅器 励起レーザーコンポーネント パート 1: 980nm 励起レーザーコンポーネント
• YD/T 1687.1-2007 光通信用高速半導体レーザ部品の技術仕様 第1部：2.5Gbit/s冷凍直接変調半導体レーザ部品
• YD/T 1687.2-2007 光通信用高速半導体レーザ部品の技術仕様 第2部：2.5Gbit/s非冷却直接変調半導体レーザ部品
• YD/T 2904.1-2015 統合された波長可変レーザー コンポーネント パート 1: バタフライ パッケージ コンポーネント

工业和信息化部, レーザー装置

• YD/T 1813.2-2020 通信用ファイバーアンプポンプレーザーコンポーネント パート 2: 14xxnm ポンプレーザーコンポーネント
• YD/T 1813.1-2018 通信用ファイバーアンプポンプレーザーコンポーネント パート 1: 980nm ポンプレーザーコンポーネント
• YD/T 2904.2-2018 統合型波長可変レーザーコンポーネント パート 2: 小型コンポーネント
• YD/T 2904.3-2019 統合型波長可変レーザー コンポーネント パート 3: デュアル チャネル コンポーネント
• YD/T 3056-2016 25Gb/s 電界吸収変調レーザー (EML) コンポーネント

Group Standards of the People's Republic of China, レーザー装置

• T/QGCML 1702-2023 レーザーヘッドの交換が容易なレーザー発光装置
• T/QGCML 1928-2023 ファイバーレーザーアセンブリ（TOSA）の製造工程仕様

ES-UNE, レーザー装置

• UNE-EN 62149-7:2012 光ファイバーアクティブコンポーネントとデバイス性能基準パート 7: 1310nm ディスクリート垂直共振器面発光レーザーデバイス
• UNE-EN 62149-2:2014 光ファイバーアクティブコンポーネントとデバイス性能基準パート 2: 850 nm ディスクリート垂直共振器面発光レーザーデバイス

Danish Standards Foundation, レーザー装置

• DS/EN 62149-2:2009 光ファイバーアクティブコンポーネントとデバイス性能基準パート 2: 850 nm ディスクリート垂直共振器面発光レーザーデバイス
• DS/EN 62149-7:2012 光ファイバーアクティブコンポーネントとデバイス性能基準パート 7: 1 310 nm 個別垂直共振器面発光レーザーデバイス

CENELEC - European Committee for Electrotechnical Standardization, レーザー装置

• EN 62149-7:2012 光ファイバーアクティブコンポーネントとデバイス性能基準パート 7: 1 310 nm 個別垂直共振器面発光レーザーデバイス

International Electrotechnical Commission (IEC), レーザー装置

• IEC 62149-2:2009 光ファイバーアクティブコンポーネントおよびデバイスの性能基準パート 2: 850 nm 離散垂直ホール面発光レーザーデバイス
• IEC 62149-2:2014 光ファイバーアクティブコンポーネントおよびデバイスの性能基準パート 2: 850 nm 離散垂直ホール面発光レーザーデバイス

Lithuanian Standards Office , レーザー装置

• LST EN 62149-7-2012 光ファイバーアクティブコンポーネントとデバイス性能基準パート 7: 1 310 nm ディスクリート垂直共振器面発光レーザーデバイス (IEC 62149-7:2012)

British Standards Institution (BSI), レーザー装置

• BS ISO 9211-8:2018 光学およびフォトニクス 光学コーティング レーザー光学素子に使用されるコーティングの最小要件
• BS IEC 60747-5-4:2022 半導体デバイス-光電子デバイス 半導体レーザー

General Administration of Quality Supervision, Inspection and Quarantine of the People‘s Republic of China, レーザー装置

• GB/T 14078-1993 ヘリウムネオンレーザーの技術的条件
• GB/T 14078-2010 ヘリウムネオンレーザーの技術的条件

Professional Standard - Military and Civilian Products, レーザー装置

• WJ 1895-1989 PTZ89-120YAG レーザーの技術条件

Association Francaise de Normalisation, レーザー装置

• NF EN ISO 11551:2019 光学およびフォトニクス レーザーおよびレーザー関連機器 レーザー光学部品の吸収係数の試験方法

その他：   薄膜デバイス, 光ファイバー部品, デバイスの断面図, RFデバイス, デバイスの酸化, +++++ 磁場装置, 磁場装置, 統合デバイス, レーザー装置, ガス機器, ロジックデバイス, 分光装置, 半導体レーザー装置, 光学機器, 音響機器, オプトエレクトロニクス、レーザーデバイス, レーザー装置, ファイバーレーザー装置, レーザー光学, 半導体レーザー装置.