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半導体材料の光触媒

半導体材料の光触媒は全部で 9 項標準に関連している。

半導体材料の光触媒 国際標準分類において、これらの分類：表面処理・メッキ、 セラミックス。

European Committee for Standardization (CEN), 半導体材料の光触媒

• PD CEN/TS 16599:2014 光触媒：半導体材料の光触媒特性の照射条件とその条件の決定
• CEN/TS 16599:2014 光触媒試験 半導体材料の光触媒性能の照射条件とその測定

British Standards Institution (BSI), 半導体材料の光触媒

• BS PD CEN/TS 16599:2014 光触媒：半導体材料の光触媒特性を試験するための照射条件とその測定
• BS ISO 19722:2017 ファインセラミックス（アドバンストセラミックス、先端産業用セラミックス） 溶存酸素消費法による半導体光触媒材料の光触媒活性の試験方法

German Institute for Standardization, 半導体材料の光触媒

• DIN CEN/TS 16599:2014-07*DIN SPEC 7397:2014-07 光触媒試験 半導体材料の光触媒性能の照射条件とその測定

Association Francaise de Normalisation, 半導体材料の光触媒

• XP B44-014*XP CEN/TS 16599:2014 光触媒 半導体材料の光触媒性能を試験するための照射条件とその測定
• XP CEN/TS 16599:2014 光触媒は、半導体材料の光触媒性能をテストするための照射条件を決定します。

Japanese Industrial Standards Committee (JISC), 半導体材料の光触媒

• JIS R 1708:2016 ファインセラミックス（アドバンストセラミックス、アドバンストテクニカルセラミックス） 溶存酸素消費量を用いた半導体光触媒材料の光触媒活性評価試験方法

International Organization for Standardization (ISO), 半導体材料の光触媒

• ISO 19722:2017 ファインセラミックス（アドバンストセラミックス、先端産業用セラミックス） 溶存酸素消費法による半導体光触媒材料の光触媒活性の試験方法

その他：   半導体光触媒, 半導体光触媒, 半導体光触媒材料, 光触媒半導体, 光触媒半導体, 半導体光触媒材料, ++++半導体光触媒, ++++半導体光触媒材料, 半導体材料の光触媒, 半導体光触媒、, 有機半導体材料の光触媒, 光触媒半導体材料, 半導体材料の光触媒, 光触媒半導体材料, 半導体材料の光触媒, 半導体材料の光触媒, 主な半導体・光触媒材料, 間接的な半導体材料の光触媒, 半導体材料および半導体光触媒材料, 光触媒活性半導体材料.