소분자 단결정 X선 분석

모두 135항목의 소분자 단결정 X선 분석와 관련된 표준이 있다.

국제 분류에서 소분자 단결정 X선 분석와 관련된 분류는 다음과 같습니다: 기르다, 입자 크기 분석, 스크리닝, 무기화학, 원자력공학, 분석 화학, 광학 및 광학 측정, 공기질, 비파괴 검사, 페인트 성분, 의료 장비, 실험실 의학, 광학 장비, 비철금속, 합금철, 길이 및 각도 측정, 의료 과학 및 의료 기기 통합, 반도체 소재, 화학 제품, 물리학, 화학.

Professional Standard - Education, 소분자 단결정 X선 분석

JY/T 0588-2020 단결정 X선 회절분석기를 이용한 저분자 화합물의 결정 및 분자 구조 분석을 위한 일반 원리
JY/T 008-1996 4원 단결정 X선 회절계를 사용하여 소분자 화합물의 결정 및 분자 구조 분석을 위한 일반 원리.

British Standards Institution (BSI), 소분자 단결정 X선 분석

BS ISO 17867:2015 입자 크기 분석 소각 X선 산란
BS ISO 17867:2020 입자 크기 분석 소각 X선 산란(SAXS)
DD ISO/TS 13762:2001 입자 크기 분석 소각 X선 산란
BS DD ISO/TS 13762:2002 입자 크기 분석 소각 X선 산란법
BS ISO 10810:2019 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법 가이드
BS ISO 10810:2010 표면 화학 분석, X선 광전자 분광학, 분석 가이드
BS ISO 16129:2018 표면 화학 분석 X선 광전자 분광기 X선 광전자 분광기의 일상적인 성능 평가 절차
BS ISO 18554:2016 표면 화학 분석 전자 분광학 X선 광전자 분광법으로 분석한 X선 물질의 예상치 못한 분해를 식별, 평가 및 수정하기 위한 절차입니다.
BS ISO 16129:2012 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법 X선 광전자 분광계의 일상적인 성능 평가 절차
BS ISO 15472:2010 표면 화학 분석 X선 광전자 분광계 에너지 수준 교정
BS ISO 17109:2022 표면 화학 분석 깊이 프로파일링 X선 광전자 분광법, Auger 전자 분광법 및 단일 및 다층 필름의 2차 이온 질량 분석법을 사용하여 스퍼터링 깊이 분석에서 스퍼터링 속도를 결정하는 방법...
21/30433862 DC BS ISO 17109 AMD1 표면 화학 분석의 깊이 프로파일링 X선 광전자 분광법, Auger 전자 분광법 및 단일 이온 질량 분석법을 사용하는 스퍼터링 깊이 분석에서 스퍼터링 속도 결정 방법...
BS ISO 21270:2005 표면 화학 분석 X선 광전자 및 오제 전자 분광계 강도 척도의 선형성
BS ISO 17470:2014 마이크로빔 분석 전자 탐침 미세 분석 파장 분산형 X선 분광법을 사용한 정성적 점 분석 안내
BS ISO 14701:2018 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법 산화규소 두께 측정
BS ISO 14701:2011 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법 실리카 두께 측정
BS ISO 17109:2015 표면 화학 분석 깊이 프로파일링 X선 광전자 분광법, Auger 전자 분광법, 단일 및 다층 필름을 사용하는 2차 이온 질량 분석법을 사용하여 스퍼터링 깊이 프로파일링에서 스퍼터링 속도를 결정하는 방법.
BS ISO 21270:2004 표면 화학 분석 X선 광전자 분광계 및 Auger 전자 분광계 강도 규모 선형성
BS ISO 18516:2006 표면 화학 분석 오제 전자 분광법 및 X선 광전자 분광법 가로 해상도 결정
BS ISO 16243:2011 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법(XPS)을 통한 데이터 기록 및 보고
BS ISO 22489:2007 마이크로빔 분석 전자 탐침 미세 분석 파장 분산형 X선 분광법을 사용한 벌크 샘플의 정량적 점 분석
BS ISO 22489:2016 마이크로빔 분석 전자 탐침 미세 분석 파장 분산형 X선 분광법을 사용한 벌크 샘플의 정량적 점 분석
DD ISO/TS 10798:2011 나노기술은 단일벽 탄소 나노튜브를 특성화하기 위해 주사 전자 현미경과 에너지 분산형 X선 분광학을 사용합니다.
BS ISO 19830:2015 표면 화학 분석 전자 분광학 X선 광전자 분광학 피크 피팅에 대한 최소 보고 요구 사항

International Organization for Standardization (ISO), 소분자 단결정 X선 분석

ISO 17867:2015 입자 크기 분석 소각 X선 산란
ISO/TS 13762:2001 입자 크기 분석 소각 X선 스퍼터링 방법
ISO 17867:2020 입자 크기 분석 SAXS(소각 X선 산란)
ISO 10810:2019 표면 화학 분석 - X선 광전자 분광학 분석 가이드
ISO/CD 5861 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법 석영 결정 단색 Al Ka XPS 장비 강도 교정 방법
ISO/DIS 5861:2023 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법 수정 결정 단색 Al Kα XPS 기기 강도 교정 방법
ISO 10810:2010 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법 분석 지침
ISO 16258-2:2015 작업장 공기 X선 회절을 통한 호흡성 결정질 실리카 분석 2부: 간접 분석 방법
ISO 16129:2018 표면 화학 분석 - X선 광전자 분광학 - X선 광전자 분광계의 일상적인 성능을 평가하는 방법
ISO 13424:2013 표면 화학 분석 - X선 광전자 분광법, 박막 분석 결과 보고
ISO 18554:2016 표면 화학 분석 전자 분광학 X선 광전자 분광법으로 분석한 X선 물질의 예상치 못한 분해를 식별, 평가 및 수정하기 위한 절차입니다.
ISO 16129:2012 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법 X선 광전자 분광계의 일상적인 성능 평가 절차
ISO 17470:2004 마이크로빔 분석 전자 탐침 미세 분석 파장 분산형 X선 분광법을 통한 질량점 분석 안내
ISO 17470:2014 마이크로빔 분석 전자 탐침 미세 분석 파장 분산형 X선 분광법을 통한 정성적 점 분석 안내
ISO/TR 18392:2005 표면 화학 분석X선 광전자 분광법배경 결정 절차
ISO/CD TR 18392:2023 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법 배경 측정 절차
ISO 16258-1:2015 작업장 공기 X-선 회절을 통한 호흡성 결정질 실리카 분석 1부: 직접 여과 방법
ISO/CD 19214:2023 마이크로빔 분석, 분석전자현미경 및 투과전자현미경을 사용하여 선형 결정의 겉보기 성장 방향을 결정하는 방법.
ISO 14701:2018 표면 화학 분석 - X선 광전자 분광법 - 산화규소 두께 측정
ISO 21270:2004 표면 화학 분석 X선 광전자 분광계 및 Auger 전자 분광계 강도 척도의 선형성
ISO 14706:2000 표면 화학 분석 TXRF(전반사 X선 형광) 측정을 사용한 실리콘 웨이퍼의 기본 표면 오염 확인
ISO 14706:2014 표면 화학 분석 TXRF(전반사 X선 형광) 측정을 사용한 실리콘 웨이퍼의 기본 표면 오염 확인
ISO 22489:2006 마이크로빔 분석 전자 탐침 미세 분석 파장 분산형 X선 분광법을 사용한 벌크 샘플의 정량 분석
ISO 22489:2016 마이크로빔 분석 전자 탐침 미세 분석 파장 분산형 X선 분광법을 사용한 벌크 샘플의 정량 분석
ISO 14701:2011 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법 이산화규소 두께 측정
ISO 17109:2015 표면 화학 분석 깊이 프로파일링 X선 광전자 분광법, Auger 전자 분광법, 단일 및 다층 필름을 사용하는 2차 이온 질량 분석법을 사용하여 스퍼터링 깊이 프로파일링에서 스퍼터링 속도를 결정하는 방법.
ISO 18516:2006 표면 화학 분석 오제 전자 분광법 및 X선 광전자 분광법 가로 해상도 결정
ISO 15470:2017 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법 기기 성능 매개변수 설명
ISO 16243:2011 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법(XPS)을 통한 데이터 기록 및 보고
ISO/TR 19319:2003 표면 화학 분석 오제 전자 분광법 및 X선 광전자 분광법 측면 해상도, 분석 영역 및 샘플 영역에 대한 분석가 육안 검사
ISO 19830:2015 표면 화학 분석 전자 분광학 X선 광전자 분광학 피크 피팅에 대한 최소 보고 요구 사항

General Administration of Quality Supervision, Inspection and Quarantine of the People‘s Republic of China, 소분자 단결정 X선 분석

GB/T 30904-2014 무기화학제품의 결정구조 분석을 위한 X선 회절법
GB/T 30704-2014 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법 가이드
GB/T 19500-2004 X선 광전자 분광학 분석 방법의 일반 원리
GB/T 19421.1-2003 층상 결정질 이규산나트륨의 시험 방법 델타상 층상 결정질 이규산나트륨의 정성 분석 X선 회절법
GB/T 17359-1998 전자탐침과 주사전자현미경을 이용한 X선 에너지 분광법의 정량분석 일반원리
GB/T 18873-2002 생물학적 얇은 시료의 투과전자현미경-X선 분광학 정량분석의 일반원리
GB/T 18873-2008 생물학적 얇은 시료의 투과전자현미경-X선 분광학 정량분석의 일반원리
GB/Z 32490-2016 표면 화학 분석을 위해 X선 광전자 분광법을 사용한 배경 측정 절차
GB/T 43610-2023 마이크로빔 분석과 전자현미경을 이용하여 선형 결정의 겉보기 성장 방향을 결정하는 투과전자현미경 방법
GB/T 28632-2012 표면 화학 분석오거 전자 분광법 및 X선 광전자 분광법측면 분해능 결정
GB/T 22571-2008 표면 화학 분석 X선 광전자 분광계 에너지 척도 교정
GB/T 20726-2015 마이크로빔 분석 전자탐침 미세분석 X선 에너지 분광기의 주요 성능변수 및 검증방법
GB/T 17507-2008 생물학적 얇은 표준의 투과전자현미경 및 X선 에너지 분광학 분석을 위한 일반 기술 조건
GB/T 21006-2007 표면 화학 분석 X선 광전자 분광계 및 Auger 전자 분광계 강도 규모 선형성
GB/T 17507-1998 생물학적 얇은 표준시료의 전자현미경 및 X선 에너지 분광학 분석을 위한 일반 기술 조건
GB/T 28892-2012 표면 화학 분석 X선 광전자 분광학 선택된 기기 성능 매개변수의 표현
GB/T 28633-2012 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법 강도 척도의 반복성과 일관성
GB/T 29556-2013 표면 화학 분석 오제 전자 분광법 및 X-선 광전자 분광법 분석기로 감지할 수 있는 측면 분해능, 분석 영역 및 샘플 영역 결정

Professional Standard - Energy, 소분자 단결정 X선 분석

NB/SH/T 6015-2020 X-선 회절법에 의한 ZSM-23 분자체의 단위 셀 매개변수 결정
NB/SH/T 6033-2021 X-선 회절법에 의한 ZSM-22 분자체의 단위 셀 매개변수 결정
NB/SH/T 6024-2021 X선 회절법을 이용한 ZSM-5 분자체의 상대적 결정화도 측정
NB/SH/T 0339-2021 X선 회절법을 이용한 포자사이트 제올라이트의 단위 셀 매개변수 결정

Professional Standard - Nuclear Industry, 소분자 단결정 X선 분석

EJ/T 805-1993 X선 형광 분석을 위한 저에너지 광자 소스

KR-KS, 소분자 단결정 X선 분석

KS D ISO 14706-2003(2023) 표면 화학 분석 - 전반사 X선 형광 분석기는 실리콘 웨이퍼 표면의 원소 불순물을 측정합니다.
KS D ISO 15472-2003(2023) 표면화학분석-X선 광전자분광기-에너지 규모 교정
KS D ISO 22489-2018 마이크로빔 분석 - 전자탐침 미세분석 - 파장 분산형 X선 분광법을 이용한 벌크 시료의 정량적 점 분석
KS D ISO 22489-2018(2023) 마이크로빔 분석 전자 탐침 미세 분석 파장 분산형 X선 분광법을 사용한 벌크 샘플의 정량적 점 분석

Association Francaise de Normalisation, 소분자 단결정 X선 분석

NF X21-071:2011 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법 분석 지침
NF X43-600-2*NF ISO 16258-2:2015 X선 회절을 이용한 작업장 공기 호흡성 결정질 실리카 분석 2부: 간접 분석 방법
NF X21-003:2006 마이크로빔 분석 전자 탐침 미세분석 파장 분포 X선 분광법의 정량 분석 가이드
NF S92-502:2006 의료 생물 분석 실험실 인체 방사선학 폐 계수 저에너지 X선 및 알파선 방출기(200keV 미만)
NF X43-600-1*NF ISO 16258-1:2015 X선 회절을 통한 작업장 공기의 호흡성 결정질 실리카 분석 1부: 직접 여과 방법
NF ISO 16258-2:2015 작업장 공기 중 X선 회절을 통한 결정질 실리카의 호흡 가능 분율 측정 2부: 간접 분석 방법
NF ISO 16258-1:2015 작업장 공기 X선 회절 방법을 통한 결정질 실리카의 호흡 가능 분율 측정 1부: 직접 여과 분석 방법
NF X21-061:2008 표면 화학 분석나선형 전자 분광법 및 X선 광전자 분광법측면 해상도 결정
NF X21-073*NF ISO 16243:2012 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법(XPS)을 통한 데이터 기록 및 보고
NF ISO 16243:2012 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법(XPS)의 데이터 로깅 및 보고
NF X21-006:2007 마이크로빔 분석 전자 탐침 미세 분석 파장 분산형 X선 분광법을 사용한 벌크 샘플의 정량적 점 분석
FD T16-203:2011 나노기술은 단일벽 탄소 나노튜브를 특성화하기 위해 주사 전자 현미경과 에너지 분산형 X선 분광학을 사용합니다.

German Institute for Standardization, 소분자 단결정 X선 분석

DIN ISO 16129:2020-11 표면 화학 분석 X선 광전자 분광기 X선 광전자 분광기의 일상적인 성능 평가 절차
DIN ISO 16129:2020 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법 - X선 광전자 분광계의 일상적인 성능을 평가하기 위한 절차(ISO 16129-2018), 영어 텍스트
DIN ISO 15472:2020-05 표면 화학 분석 - X선 광전자 분광계 - 에너지 스케일 교정(ISO 15472:2010)

国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会, 소분자 단결정 X선 분석

GB/T 36401-2018 표면화학분석 X선 광전자분광법 박막분석 결과 보고
GB/T 41064-2021 표면 화학 분석 깊이 프로파일링 단층 및 다층 필름을 사용하는 X선 광전자 분광법, 오제 전자 분광법 및 2차 이온 질량 분석법에서 깊이 프로파일링 스퍼터링 속도를 결정하는 방법
GB/T 41073-2021 표면 화학 분석을 위한 기본 요구 사항 전자 에너지 분광학 X선 광전자 분광학 피크 피팅 보고서

Korean Agency for Technology and Standards (KATS), 소분자 단결정 X선 분석

KS E 3076-2002 원패스 실리카 및 실리카의 X선 형광 분석
KS D ISO 15472-2003(2018) 표면 화학 분석-X선 광전자 분광계-에너지 규모 보정
KS D ISO 15470-2005(2020) 표면 화학 분석을 위한 X선 광전자 분광계의 일부 성능 매개변수에 대한 설명
KS D ISO 19319-2005(2020) 표면 화학 분석 - 오제 전자 분광법 및 X선 광전자 분광법 - 분석기 측면 해상도, 분석 영역 및 샘플 영역 결정
KS D ISO 21270:2005 표면 화학 분석X선 광전자 분광계 및 오제 전자 분광계강도 규모의 선형성
KS D ISO 22489:2012 마이크로빔 분석 전자 탐침 미세 분석 파장 분산형 X선 분광법을 사용한 벌크 샘플의 정량 분석
KS D ISO 22489:2018 마이크로빔 분석 - 전자탐침 미세분석 - 파장 분산형 X선 분광법을 이용한 벌크 시료의 정량적 점 분석
KS D ISO 21270-2005(2020) 표면 화학 분석 X선 광전자 분광계 및 Auger 전자 분광계 강도 규모의 선형성
KS D ISO 19319:2005 표면 화학 분석 오제 전자 분광법 및 X선 광전자 분광법 측면 해상도, 분석 영역 및 샘플 영역에 대한 분석가 육안 검사

American Society for Testing and Materials (ASTM), 소분자 단결정 X선 분석

ASTM E996-94(1999) Auger 전자 분광법 및 X선 광전자 분광법 데이터 보고를 위한 표준 관행
ASTM D5380-93(2009) X-선 회절 분석을 통해 페인트의 결정성 안료 및 충전재를 식별하기 위한 표준 테스트 방법
ASTM D5380-93(2003) X선 회절 분석을 통해 코팅 내 결정성 안료 및 증량제를 식별하기 위한 표준 테스트 방법
ASTM D5380-93(1998) X-선 회절 분석을 통해 페인트의 결정성 안료 및 충전재를 식별하기 위한 표준 테스트 방법
ASTM D5380-93(2021) X선 회절 분석을 통해 코팅 내 결정성 안료 및 증량제를 식별하기 위한 표준 테스트 방법
ASTM D5380-93(2014) X-선 회절 분석을 통해 페인트의 결정성 안료 및 충전재를 식별하기 위한 표준 테스트 방법
ASTM E1588-10e1 주사전자현미경/에너지 산란 X선 분광법을 통한 탄 잔류물 분석을 위한 표준 가이드

Japanese Industrial Standards Committee (JISC), 소분자 단결정 X선 분석

JIS K 0145:2002 표면 화학 분석 X선 광전자 분광계 에너지 척도 교정
JIS K 0190:2010 마이크로빔 분석 전자 탐침 미세 분석 파장 분산형 X선 분광법을 통한 질량점 분석 안내
JIS K 0152:2014 표면 화학 분석 X선 광전자 분광학 분석 강도 척도의 반복성 및 일관성
JIS K 0148:2005 표면 화학 분석 TXRF(전반사 X선 형광) 측정을 사용하여 실리콘 웨이퍼의 주요 표면 오염 물질을 측정합니다.
JIS K 0189:2013 마이크로빔 분석, 전자 탐침 미세 분석, 파장 분산형 X선 분광법을 위한 실험 매개변수 결정.

RU-GOST R, 소분자 단결정 X선 분석

GOST R ISO 16258-1-2017 X선 회절을 이용한 작업장 공기의 호흡성 결정질 실리카 분석 1부. 직접 여과법

中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会, 소분자 단결정 X선 분석

GB/T 22571-2017 표면 화학 분석을 위한 X선 광전자 분광기의 에너지 규모 교정

Standard Association of Australia （SAA）, 소분자 단결정 X선 분석

AS ISO 15472:2006 표면 화학 분석. X선 광전자 분광학. 에너지 규모의 교정
AS ISO 19319:2006 표면 화학 분석. Augur 전자 분광학 및 X선 광전자 분광학. 분석가의 측면 해상도 육안 검사, 분석 영역 및 샘플 영역

Professional Standard - Non-ferrous Metal, 소분자 단결정 X선 분석

YS/T 273.14-2008 빙정석의 화학적 분석 및 물리적 특성을 위한 방법 14부: X선 형광 분광법을 통한 원소 함량 측정
YS/T 273.11-2006 빙정석의 화학적 분석 및 물리적 특성 측정 방법 11부: X선 형광 분광법을 통한 황 함량 측정
YS/T 273.15-2012 빙정석의 화학적 분석 및 물리적 특성 측정 방법 15부: X선 형광 분광법(정제 압착) 방법에 의한 원소 함량 측정

未注明发布机构, 소분자 단결정 X선 분석

BS ISO 18516:2006(2010) 표면 화학 분석 Auger 전자 분광법 및 X선 광전자 분광법의 측면 분해능 결정
BS ISO 21270:2004(2010) 표면 화학 분석X선 광전자 분광계 및 Auger 전자 분광계강도 규모 선형성

Group Standards of the People's Republic of China, 소분자 단결정 X선 분석

T/CSTM 01199-2024 다층 금속박막층 구조 측정 및 분석 방법 X선 광전자 분광법

Fujian Provincial Standard of the People's Republic of China, 소분자 단결정 X선 분석

DB35/T 110-2000 페인트 증거물 검출을 위한 전자탐침 및 주사전자현미경 X선 에너지 분광분석 방법

Danish Standards Foundation, 소분자 단결정 X선 분석

DS/ISO/TS 10798:2011 나노기술은 단일벽 탄소 나노튜브를 특성화하기 위해 주사 전자 현미경과 에너지 분산형 X선 분광학을 사용합니다.