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스펙트럼에서

모두 86항목의 스펙트럼에서와 관련된 표준이 있다.

국제 분류에서 스펙트럼에서와 관련된 분류는 다음과 같습니다: 광학 및 광학 측정, 분석 화학, 전기, 자기, 전기 및 자기 측정, 비파괴 검사, 광학 장비, 방사선방호, 음향 및 음향 측정, 고무 및 플라스틱 제품, 방사선 측정, 원자력공학, 페인트 성분, 어휘.


Association Francaise de Normalisation, 스펙트럼에서

  • NF X43-275:2002 공기질 공기분광기 원자분광기 공기량
  • NF EN 15505:2008 식품의 미량원소량 미량 소화 후 화염 원자 흡수 분광법의 나트륨 및 마그네슘량
  • NF ISO 23830:2009 표면 화학 분석 2차 이온 질량 분석법 2차 이온 정적 질량 분석법의 상대 강도 스케일링의 반복성 및 안정성
  • NF EN 15763:2010 식품 미량 원소의 투여량 소화 진공 압력 후 비소, 카드뮴 및 수은 플라즈마 스펙트럼의 비소, 카드뮴 및 수은 플라즈마 농도
  • NF ISO 16243:2012 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법(XPS)의 데이터 로깅 및 보고
  • NF EN 302426:2006 통신 - EMC 및 ERM(Radio Spectrum) - 450MHz 대역(CDMA 450) 및 PAMR 대역 410, 450 및 870MHz(CDMA-PAMR)에서 작동하는 스펙트럼 중계기에 대한 통합 표준으로, 이 문서의 기본 요구 사항을 다룹니다. .

American Society for Testing and Materials (ASTM), 스펙트럼에서

  • ASTM E840-95 가스 크로마토그래피에서 불꽃 광도 검출기 사용에 대한 표준 관행
  • ASTM E840-95(2000) 가스 크로마토그래피에서 불꽃 광도 검출기 사용에 대한 표준 관행
  • ASTM E840-95(2021)e1 가스 크로마토그래피에서 불꽃 광도 검출기 사용에 대한 표준 관행
  • ASTM E697-96(2019) 가스 크로마토그래피에서 전자 포획 검출기를 사용하기 위한 표준 관행
  • ASTM E984-95(2001) Auger 전자 분광법에서 화학 및 매트릭스 효과를 식별하기 위한 표준 가이드
  • ASTM E984-95 Auger 전자 분광법에서 화학 및 매트릭스 효과를 식별하기 위한 표준 가이드
  • ASTM E984-12(2020) Auger 전자 분광법에서 화학 및 매트릭스 효과를 식별하기 위한 표준 가이드
  • ASTM E996-10(2018) Auger 전자 분광법 및 X선 광전자 분광법의 데이터 보고에 대한 표준 관행
  • ASTM E996-19 Auger 전자 분광법 및 X선 광전자 분광법의 데이터 보고에 대한 표준 관행
  • ASTM E520-08(2015)e1 방출 및 흡수 분광법에서 광전자 증배관 검출기를 설명하기 위한 표준 관행
  • ASTM E995-11 오제 전자 분광법 및 X선 광전자 분광법에서 배경 제거 기술 적용을 위한 표준 가이드
  • ASTM E1622-94(1999)e1 파장 분산형 X선 분광법의 라인 중첩 보정에 대한 표준 관행(2006년 철회)
  • ASTM E995-97 나선형 전자 분광학의 기본 추출 기술
  • ASTM E1504-06 2차 이온 질량 분석기(SIMS)에서 질량 분석 데이터를 보고하기 위한 표준 관행
  • ASTM E1504-11(2019) 2차 이온 질량 분석기(SIMS)에서 질량 분석 데이터를 보고하기 위한 표준 관행
  • ASTM E1127-91(1997) Auger 전자 분광학의 깊이 프로파일링을 위한 표준 가이드
  • ASTM E1127-08(2015) Auger 전자 분광학의 깊이 프로파일링을 위한 표준 가이드
  • ASTM E1127-08 Auger 전자 분광학의 깊이 프로파일링을 위한 표준 가이드
  • ASTM E1504-92(1996) SIMS(2차 이온 질량 분석) 측정에서 질량 분석 데이터 보고를 위한 표준 사양
  • ASTM E1504-92(2001) SIMS(2차 이온 질량 분석) 측정에서 질량 분석 데이터 보고를 위한 표준 사양
  • ASTM E720-11 전자 방사선 강도 테스트에서 중성자 분광학을 결정하기 위한 중성자 센서 선택 및 적용에 대한 표준 가이드
  • ASTM E1635-95(2000) 2차 이온 질량 분석법(SIMS)의 이미징 데이터 보고를 위한 표준 관행
  • ASTM E406-19 원자 방출 분광법에서 제어된 대기 사용에 대한 표준 관행
  • ASTM E1635-06(2019) 2차 이온 질량 분석법(SIMS)의 이미징 데이터 보고를 위한 표준 관행
  • ASTM E697-96(2006) 가스 크로마토그래피에서 전자 포획 검출기 사용에 대한 표준 관행
  • ASTM E697-96 가스 크로마토그래피에서 전자 포획 검출기 사용에 대한 표준 관행
  • ASTM E697-96(2001) 가스 크로마토그래피에서 전자 포획 검출기 사용에 대한 표준 관행
  • ASTM E697-96(2011) 가스 크로마토그래피에서 전자 포획 검출기 사용을 위한 표준 운영 절차
  • ASTM E840-95(2013) 가스 크로마토그래피에서 불꽃 광도 검출기 사용에 대한 표준 관행
  • ASTM E840-95(2005) 가스 크로마토그래피에서 불꽃 광도 검출기 사용에 대한 표준 관행
  • ASTM E516-95a(2005) 가스 크로마토그래피에 사용되는 열전도도 검출기 테스트에 대한 표준 사례
  • ASTM E1504-11 2차 이온 질량 분석법에서 질량 분석 데이터를 보고하기 위한 표준 운영 절차
  • ASTM E983-10 Auger 전자 분광법의 화학 및 매트릭스 효과 측정을 위한 표준 가이드
  • ASTM E995-04 나선형 전자 분광법 및 X선 광전자 분광법의 배경 빼기에 대한 표준 가이드
  • ASTM E983-94(1999) Auger 전자 분광법에서 원치 않는 전자빔 효과를 최소화하기 위한 표준 가이드
  • ASTM D3271-87(2006) 용매 분석을 위해 용매 희석 페인트를 가스 크로마토그래프에 직접 주입합니다.
  • ASTM E983-10(2018) Auger 전자 분광법에서 원치 않는 전자빔 효과를 최소화하기 위한 표준 가이드
  • ASTM E983-05 Auger 전자 분광법에서 원치 않는 전자빔 효과를 최소화하기 위한 표준 가이드
  • ASTM E983-19 Auger 전자 분광법에서 원치 않는 전자빔 효과를 최소화하기 위한 표준 가이드
  • ASTM E520-08(2023) 방출 및 흡수 분광법을 위한 광전자 증배관 검출기를 설명하는 표준 사례
  • ASTM E1510-95 가스 크로마토그래프에 용융 실리카 개방형 관형 모세관 컬럼을 설치하기 위한 표준 관행
  • ASTM E1510-95(2000) 가스 크로마토그래프에 용융 실리카 개방형 관형 모세관 컬럼을 설치하기 위한 표준 관행
  • ASTM E1510-95(2021) 가스 크로마토그래프에 용융 실리카 개방형 관형 모세관 컬럼을 설치하기 위한 표준 관행
  • ASTM E1523-97 X선 광전자 분광학의 전하 제어 및 전하 기준 기술에 대한 표준 가이드
  • ASTM E1510-95(2005) 가스 크로마토그래프에 용융 실리카 개방형 관형 모세관 클러스터 설치에 대한 표준 사례
  • ASTM E1523-15 X선 광전자 분광학의 전하 제어 및 전하 기준 기술에 대한 표준 가이드
  • ASTM E1510-95(2013)e1 가스 크로마토그래프에 용융 실리카 개방형 관형 모세관 클러스터 설치에 대한 표준 사례
  • ASTM E1162-87(2001) 2차 이온 질량 분석기(SIMS)에서 스퍼터 깊이 단면 데이터 보고
  • ASTM E1162-87(1996) 2차 이온 질량 분석기(SIMS)에서 스퍼터 깊이 단면 데이터 보고
  • ASTM E1361-90(1999) X선 분광 분석의 입사 효과 보정을 위한 표준 가이드
  • ASTM E1361-02(2021) X선 분광 분석의 입사 효과 보정을 위한 표준 가이드

General Administration of Quality Supervision, Inspection and Quarantine of the People‘s Republic of China, 스펙트럼에서

  • GB/T 31472-2015 X선 광전자 분광학의 전하 제어 및 전하 기준 기술에 대한 표준 가이드
  • GB/T 32495-2016 실리콘 내 비소에 대한 표면 화학 분석 2차 이온 질량 분석법 깊이 프로파일링 방법

AENOR, 스펙트럼에서

  • UNE 55129:1984 크로마토그래피 컬럼의 흡착제 활성 측정
  • UNE 55106:1975 지방 컬럼의 흡수 크로마토그래피를 통한 중성 오일 측정

British Standards Institution (BSI), 스펙트럼에서

  • BS ISO 22576:2020 광학 및 포토닉스의 광학 재료 및 구성 요소의 적외선 분광학에 사용되는 불화 칼슘 사양
  • 19/30362632 DC 광학 및 포토닉스의 광학 재료 및 구성 요소의 적외선 분광학에 사용되는 불화 칼슘에 대한 BS ISO 22576 사양
  • BS ISO 18115-1:2023 표면 화학 분석. 어휘. 분광학에 사용되는 일반적인 용어 및 용어

IN-BIS, 스펙트럼에서

  • IS 7146 Pt.3-1974 감광성 장치의 측정 방법 III부 가시광선 스펙트럼에 사용되는 광전도 전지

Professional Standard - Nuclear Industry, 스펙트럼에서

  • EJ/T 20123-2016 에너지 스펙트럼형 중성자 주변 선량당량(율) 측정기

Group Standards of the People's Republic of China, 스펙트럼에서

  • T/ZZB 2974-2022 크로마토그래피용 중간 붕규산 유리 자동 샘플링 병

International Organization for Standardization (ISO), 스펙트럼에서

  • ISO/TS 22933:2022 표면 화학 분석 2차 이온 질량 분석법 시뮬레이션된 이온 질량 분석법에서 질량 분해능을 측정하는 방법.
  • ISO/CD 8237-1 적외선 분광학에 사용되는 칼코게나이드 유리의 광학 재료 및 부품 사양 1부: 정의 및 일반 원리
  • ISO 17109:2022 표면 화학 분석 깊이 프로파일링 X선 광전자 분광법, Auger 전자 분광법 및 단일 및 다층 필름을 사용하는 2차 이온 질량 분석법에서 스퍼터링 속도를 결정하는 방법.
  • ISO 16794:2003 원자력 육불화우라늄 적외선 분광법을 통한 탄소 화합물 및 불화물 측정
  • ISO/FDIS 18115-1 표면 화학 분석 "용어집" 1부: 분광학에 사용되는 일반 용어 및 용어
  • ISO 18115-1:2023 표면 화학 분석 용어집 1부: 분광학에 사용되는 일반 용어 및 용어

German Institute for Standardization, 스펙트럼에서

  • DIN 45631/A1:2010 사운드 스펙트럼의 음량 레벨 및 음량 계산 Zwick 방법 수정 1: 시간에 따라 변하는 소리의 음량 계산 CD 사용
  • DIN ISO 16242:2020-05 표면 화학 분석은 AES(Auger Electron Spectroscopy)로 데이터를 기록하고 보고합니다.

ETSI - European Telecommunications Standards Institute, 스펙트럼에서

  • TR 103 435-2017 시스템 참조 문서(SRdoc), 단거리 장치(SRD), 1GHz 미만의 UHF 스펙트럼에서 작동하는 초협대역(UNB) SRD의 기술적 특성(V1.1.1)
  • TR 103 526-2018 시스템 참조 문서(SRdoc), 1GHz 미만의 UHF 스펙트럼에서 작동하는 저전력 광역 네트워크 선형 주파수 변조 확산 스펙트럼(LPWAN-CSS)의 기술적 특성(V1.1.1)

European Telecommunications Standards Institute (ETSI), 스펙트럼에서

  • ETSI TR 103 435-2017 시스템 참조 문서(SRdoc), 단거리 장치(SRD), 1GHz 이하 UHF 스펙트럼에서 초협대역(UNB) 단거리 장치의 기술적 특성(V1.1.1)

国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会, 스펙트럼에서

  • GB/T 40109-2021 표면 화학 분석 실리콘 내 붕소의 깊이 프로파일링을 위한 2차 이온 질량 분석 방법
  • GB/T 41064-2021 표면 화학 분석 깊이 프로파일링 단층 및 다층 필름을 사용하는 X선 광전자 분광법, 오제 전자 분광법 및 2차 이온 질량 분석법에서 깊이 프로파일링 스퍼터링 속도를 결정하는 방법

Japanese Industrial Standards Committee (JISC), 스펙트럼에서

  • JIS K 0164:2023 실리콘 내 붕소의 깊이 분석을 위한 표면 화학 분석 2차 이온 질량 분석 방법

International Electrotechnical Commission (IEC), 스펙트럼에서

  • IEC 61976:2000 핵 장비 분광법 HPGe 핵 감마선 분광법의 스펙트럼 배경 특성

Korean Agency for Technology and Standards (KATS), 스펙트럼에서

SE-SIS, 스펙트럼에서

VN-TCVN, 스펙트럼에서

  • TCVN 6704-2008 휘발유 X-선 분광법을 통한 석유 내 납 측정

General Motors do Brasil, 스펙트럼에서

  • GMSA LTP 356-2011 교체 없이 분광학을 통해 오래된 윤활유 또는 오래된 유압유의 마모 금속 및 오염 물질 측정




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