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DE화학 성분 측정 표면
모두 500항목의 화학 성분 측정 표면와 관련된 표준이 있다.
국제 분류에서 화학 성분 측정 표면와 관련된 분류는 다음과 같습니다: 분석 화학, 길이 및 각도 측정, 위험물 보호, 실험실 의학, 치과, 가죽 기술, 검은 금속, 사진 기술, 금속 재료 테스트, 유기화학, 유리, 화학 제품, 음료수, 환경 보호, 절단 도구, 용접, 브레이징 및 저온 용접, 연료, 비철금속, 스포츠 장비 및 시설, 환경 테스트, 페인트 도포 과정, 복합강화재료, 수질, 페인트 및 바니시, 토양질, 토양과학, 합금철, 표면 처리 및 도금, 소독 및 살균, 에너지 및 열 전달 공학 종합, 어휘, 음향 및 음향 측정, 가구, 비금속 광물, 공기질, 고무 및 플라스틱 원료, 식품과 접촉하는 품목 및 재료, 용어(원칙 및 조정), 내화물, 정보 기술 응용, 건축 자재, 건물 보호, 섬유제품.
British Standards Institution (BSI), 화학 성분 측정 표면
- BS ISO 14606:2015 표면 화학 분석 스퍼터 깊이 프로파일 결정 참조 재료를 사용한 레이어링 시스템 최적화
- BS ISO 14606:2000 표면 화학 분석 스퍼터 깊이 프로파일 결정 참조 재료를 사용한 레이어링 시스템 최적화
- BS ISO 14606:2001 표면 화학 분석 스퍼터 깊이 프로파일 결정 참조 재료를 사용한 레이어링 시스템 최적화
- BS ISO 24465:2023 표면 화학 분석을 위한 표면 플라즈몬 공명 장치의 최소 검출 능력 결정
- BS ISO 11039:2012 표면 화학 분석 스캐닝 프로브 현미경 드리프트 속도 결정
- BS PD ISO/TR 23173:2021 표면 화학 분석 전자 분광학 나노입자 코팅 두께 및 조성 측정
- 21/30404376 DC BS ISO 24465. 표면 화학 분석. 표면 플라즈몬 공명 장치의 최소 검출 능력 결정
- DD ISO/TR 15969:2001 표면 화학 분석 깊이 프로파일링 스퍼터링 깊이 측정
- BS DD ISO/TR 15969:2001 표면 화학 분석 깊이 프로파일링 스퍼터 깊이 측정
- BS PD ISO/TR 15969:2021 스퍼터 깊이의 표면 화학 분석 깊이 프로파일 측정
- PD ISO/TR 23173:2021 표면 화학 분석 전자 분광학 나노입자 코팅의 두께 및 조성 측정
- BS ISO 11505:2012 표면 화학 분석, 글로우 방전 방출 분광학, 정량적 조성 깊이 분석을 위한 일반 절차
- BS ISO 18337:2015 표면 화학 분석, 표면 특성화, 공초점 형광 현미경을 통한 측면 분해능 측정
- BS EN ISO 21530:2004 치과 치과 장비 표면 재료 화학 소독제에 대한 내성 결정
- BS ISO 14701:2011 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법 실리카 두께 측정
- PD ISO/TR 15969:2021 표면 화학 분석 깊이 프로파일링 스퍼터 깊이 측정
- BS ISO 17331:2004+A1:2010 표면 화학 분석 실리콘 웨이퍼 작업 표준 물질의 표면에서 원소를 수집하는 화학적 방법과 전반사 X선 형광 분광법(TXRF)을 통한 결정
- BS ISO 14706:2000 표면 화학 분석 전반사 X선 형광(TXRF) 분광법을 사용하여 실리콘 웨이퍼 표면의 원소 오염 물질 측정
- BS ISO 14706:2014 표면 화학 분석 전반사 X선 형광(TXRF) 분광법을 사용하여 실리콘 웨이퍼 표면의 원소 오염 물질 측정
- BS ISO 14706:2001 표면 화학 분석 전반사 X선 형광(TXRF) 분광법을 사용하여 실리콘 웨이퍼 표면의 원소 오염 물질 측정
- BS ISO 11775:2015 표면 화학 분석 스캐닝 프로브 현미경 일반적인 캔틸레버 스프링 상수 결정
- BS ISO 11505:2013 표면 화학 분석 글로우 방전 광학 방출 분광법을 사용하여 정량적 조성 깊이 설명을 위한 일반적인 절차입니다.
- BS ISO 17560:2002 표면 화학 분석 재생 이온 질량 분석법 실리콘 내 붕소의 심층 프로파일링 분석
- BS ISO 17560:2014 표면 화학 분석 재생 이온 질량 분석법 실리콘 내 붕소의 심층 프로파일링 분석
- BS PD ISO/TR 4644:2021 니켈, 니켈-철 및 니켈 합금의 화학적 조성을 결정하는 표준
- PD ISO/TR 4644:2021 니켈, 니켈-철 및 니켈 합금의 화학적 조성을 결정하는 표준
- BS ISO 14701:2018 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법 산화규소 두께 측정
- BS ISO 18516:2006 표면 화학 분석 오제 전자 분광법 및 X선 광전자 분광법 가로 해상도 결정
- BS ISO 24237:2005 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법 강도 척도의 반복성 및 안정성
- BS ISO 18114:2003 표면 화학 분석 2차 이온 질량 분석법 이온 주입 표준의 상대 감도 계수 결정
- BS ISO 11952:2019 표면 화학 분석 스캐닝 프로브 현미경 SPM을 사용한 기하학적 양 결정: 측정 시스템 교정
- BS EN ISO 14284:2002 강철 화학 성분 결정을 위한 시료 채취 및 준비
- BS ISO 13095:2014 표면 화학 분석 원자력 현미경 나노 구조 측정을 위한 AFM 프로브 핸들 프로파일의 현장 식별 절차
- BS ISO 14237:2010 표면 화학 분석 2차 이온 질량 분석법 균일한 도핑 종을 사용하여 실리콘 내 붕소 원자 농도 측정
- 23/30420097 DC BS ISO 23124 표면 화학 분석 라만 현미경 측면 및 축 해상도 측정
- BS ISO 27911:2011 표면 화학 분석 스캐닝 프로브 현미경 근접장 광학 현미경의 측면 해상도 정의 및 교정
- BS EN 14955:2005 운동장 표면 야외 운동장의 느슨한 슬래그 바닥 표면의 구성 및 입자 형태 결정.
- BS EN 14667:2005 계면활성제 액체 성분의 저비점 용매 측정 가스 크로마토그래피
- BS EN ISO 14284:2022 화학 성분 결정을 위한 강철 및 철 시료의 샘플링 및 준비
- BS ISO 15471:2005 표면 화학 분석 오제 전자 분광학 선택된 기기 성능 매개변수에 대한 설명
- 20/30369440 DC BS ISO 17721-2 세라믹 타일 표면의 항균 활성 정량 측정을 위한 테스트 방법 파트 2: 광촉매 항균제를 포함하는 세라믹 타일 표면
- BS ISO 18114:2021 표면 화학 분석을 위한 상대 감도 인자 결정 2차 이온 질량 분석법 이온 주입 참조 자료
- PAS 2424:2014 단단한 비다공성 표면에 대한 액체 화학 소독제의 잔류 항균(살균 및/또는 효모 박멸) 효능을 평가하기 위한 정량적 표면 테스트 테스트 방법
- BS ISO 22581:2021 표면 화학 분석 X선 광전자 분광학 측정 스캔을 통한 거의 실시간 정보 탄소질 화합물의 표면 오염에 대한 식별 및 수정 규칙
- BS 6068-2.24:1986 수질을 위한 물리적, 화학적, 생화학적 방법 Dragendorff 시약을 사용한 비이온성 계면활성제 측정
- PD CEN/TR 10317:2020 철강 제품의 화학적 조성을 결정하기 위한 유럽 기준 자료(EURONORM-CRM)
- BS ISO 15470:2005 표면 화학 분석 X선 광전자 분광학 선택한 기기 성능 매개변수에 대한 설명
- BS ISO 15470:2017 표면 화학 분석 X선 광전자 분광학 선택한 기기 성능 매개변수에 대한 설명
- BS EN 16437:2014+A1:2019 화학적 소독제 및 방부제의 정량 표면 시험 수의학 분야에서 사용되는 화학적 소독제 및 방부제의 기계적 작용 없이 다공성 표면에 대한 살균 활성을 평가하는 시험 방법 및…
- BS EN 1388-2:1996 식품과 접촉하는 재료 및 물품 실리콘 처리된 표면 파트 2: 세라믹을 제외한 실리콘 처리된 표면에서 방출된 납 및 카드뮴 측정.
- 15/30291643 DC BS ISO 18516 표면 화학 분석을 위한 빔 기반 방법의 측면 해상도 및 선명도 결정
- BS EN 10318:2005 아연 및 알루미늄 기반 금속 코팅의 두께 및 화학적 조성 측정 일반적인 방법
- BS EN 10318:2005(2010) 아연 및 알루미늄 기반 금속 코팅의 두께 및 화학적 조성 측정 일반적인 방법
- BS EN ISO 21068-3:2008 탄화규소를 함유한 원료 및 내화물의 화학적 분석, 질소, 산소, 금속 및 산화 성분 측정
- BS ISO 20903:2011 표면 화학 분석 오제 전자 분광법 및 X선 광전자 분광법 피크 강도 결정 방법 및 결과 보고에 필요한 정보
- 23/30454764 DC BS EN 14349 화학적 소독제 및 방부제의 정량적 표면 테스트는 기계적 작용 없이 비다공성 표면에서 수의학 부문에 사용되는 화학적 소독제 및 방부제의 살균 활성을 평가하는 데 사용됩니다.
- BS ISO 22415:2019 표면 화학 분석 2차 이온 질량 분석 분석 유기 물질의 아르곤 클러스터 스퍼터링 깊이 프로파일링의 수율 결정 방법
- 20/30375934 DC BS ISO 4652 카본 블랙 질소 흡착 방법에 의한 고무 화합물 구성 요소의 비표면적 측정을 위한 단일 지점 절차
- 20/30409889 DC BS ISO 18114 표면 화학 분석을 위한 2차 이온 질량 분석법 이온 주입 기준 물질에 대한 상대 감도 인자 결정
- BS EN ISO 14644-13:2017 클린룸 및 관련 통제 환경 - 파트 13: 입자 및 화학 물질 분류와 관련하여 정의된 청결도를 달성하기 위한 표면 청소
- PD ISO/TR 19319:2013 빔 기반 방법에서 측면 해상도와 선명도를 결정하기 위한 기본 방법인 표면 화학 분석
- BS ISO 1409:2020 플라스틱/고무 폴리머 분산액 및 고무 라텍스(천연 및 합성)의 표면 장력 측정
Korean Agency for Technology and Standards (KATS), 화학 성분 측정 표면
International Organization for Standardization (ISO), 화학 성분 측정 표면
- ISO 24465:2023 표면 화학 분석 - 표면 플라즈몬 공명 장치의 최소 검출 가능성 결정
- ISO/TR 18392:2005 표면 화학 분석X선 광전자 분광법배경 결정 절차
- ISO 14706:2000 표면 화학 분석 TXRF(전반사 X선 형광) 측정을 사용한 실리콘 웨이퍼의 기본 표면 오염 확인
- ISO 14706:2014 표면 화학 분석 TXRF(전반사 X선 형광) 측정을 사용한 실리콘 웨이퍼의 기본 표면 오염 확인
- ISO/TR 23173:2021 표면 화학 분석, 전자 분광학, 나노 입자 코팅의 두께 및 구성 측정
- ISO 17331:2004/Amd 1:2010 표면 화학 분석 화학적 방법 및 광학 분석기(TXRF) 분광 측정을 사용하여 실리콘 웨이퍼 처리 표준 재료 표면 요소 수집 수정 1
- ISO 18337:2015 표면 화학 분석, 표면 특성화, 공초점 형광 현미경을 통한 측면 분해능 측정
- ISO/TR 15969:2021 표면 화학 분석 - 깊이 분석 - 스퍼터링 깊이 측정
- ISO 11505:2012 표면 화학 분석 글로 방전 광학 방출 분광법을 이용한 정량적 조성 깊이 프로파일의 일반 절차
- ISO/TS 15338:2009 표면 화학 분석 글로우 방전 질량 분석기(GD-MS) 사용 소개
- ISO 11039:2012 표면 화학 분석 스캐닝 프로브 현미경 드리프트 속도 결정을 위한 표준
- ISO/TR 15969:2001 표면 화학 분석 깊이 설명 스퍼터 깊이 측정
- ISO 21530:2004 치과 치과 장비 표면 재료 화학 소독제에 대한 내성 결정
- ISO/TS 25138:2010 표면 화학 분석 글로우 방전 방출 분광법을 이용한 금속 산화막 분석
- ISO 7875-1:1984 수질 계면활성제 측정 1부: 메틸렌 블루 분광법을 통한 음이온 계면활성제 측정.
- ISO 17331:2004 표면 화학 분석 실리콘 웨이퍼 작업 기준 물질의 표면에서 원소를 수집하는 화학적 방법과 전반사 X선 형광 분광법을 통한 결정
- ISO 14707:2015 표면 화학 분석 글로우 방출 광학 전파 분광법(GD-OES) 사용 지침
- ISO 14707:2000 표면 화학 분석 글로우 방출 광학 전파 분광법(GD-OES) 사용 지침
- ISO 14707:2021 표면 화학 분석 글로우 방출 광학 전파 분광법(GD-OES) 사용 지침
- ISO 11775:2015 표면 화학 분석 스캐닝 프로브 현미경 일반적인 캔틸레버 스프링 상수 결정
- ISO/TR 4644:2021 니켈, 니켈-철 및 니켈 합금의 화학적 조성을 결정하는 표준
- ISO 14701:2018 표면 화학 분석 - X선 광전자 분광법 - 산화규소 두께 측정
- ISO 11952:2019 표면 화학 분석 스캐닝 프로브 현미경 SPM을 사용한 기하학적 양 측정: 측정 시스템 교정
- ISO 11952:2014 표면 화학 분석 스캐닝 프로브 현미경 SPM을 사용한 기하학적 양 결정: 측정 시스템 교정
- ISO 14701:2011 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법 이산화규소 두께 측정
- ISO 17560:2002 표면 화학 분석 재생된 이온 질량의 분광학 측정 실리콘 내 붕소의 심층 프로파일링 방법
- ISO/DIS 23124:2023 표면 화학 분석 라만 현미경 측면 및 축 해상도 측정
- ISO/FDIS 23124:2023 표면 화학 분석 라만 현미경 측면 및 축 해상도 측정
- ISO/CD TR 18392:2023 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법 배경 측정 절차
- ISO 14284:1996 강철 및 철의 화학적 조성을 결정하기 위한 샘플링 및 시편 준비
- ISO 14284:2022 강철 화학 성분 결정을 위한 시료 채취 및 준비
- ISO/TR 19319:2013 표면 화학 분석 - 빔 기반 방법의 측면 해상도 및 선명도를 결정하기 위한 기본 방법
- ISO 18516:2019 표면 화학 분석 - 나노미터에서 미크론 범위의 빔 기반 방법의 측면 해상도 및 선명도 결정
- ISO 18516:2006 표면 화학 분석 오제 전자 분광법 및 X선 광전자 분광법 가로 해상도 결정
- ISO 16962:2005 표면 화학 분석 글로우 방전 광학 방출 분광법을 이용한 아연 및/또는 알루미늄 기반 금속 코팅 분석
- ISO 13095:2014 표면 화학 분석 원자력 현미경 나노 구조 측정을 위한 AFM 프로브 핸들 프로파일의 현장 식별 절차
- ISO 14237:2010 표면 화학 분석 2차 이온 질량 분석법 균일한 도핑 종을 사용하여 실리콘 내 붕소 원자 농도 측정
- ISO 14237:2000 표면 화학 분석 2차 이온 질량 분석법 균일한 도핑 종을 사용하여 실리콘 내 붕소 원자 농도 측정
- ISO 4322:1977 비이온성 계면활성제를 이용한 황산화 회분 측정을 위한 중량 분석법
- ISO 27911:2011 표면 화학 분석 스캐닝 프로브 현미경 근접장 광학 현미경의 측면 해상도 정의 및 교정
- ISO/TR 11905-2:1997 수질 질소 측정 2부: 연소 및 산화 후 이산화질소를 형성한 후 화학발광법에 의한 결합 질소 측정
- ISO 22415:2019 표면 화학 분석, 2차 이온 질량 분석법, 유기 물질의 아르곤 클러스터 스퍼터링 깊이 프로파일을 통한 수율량 결정 방법.
- ISO 18114:2003 표면 화학 분석 2차 이온 질량 분석법 이온 주입 표준의 상대 감도 계수 결정
- ISO 18114:2021 표면 화학 분석 2차 이온 질량 분석법 이온 주입 표준의 상대 감도 계수 결정
- ISO 22581:2021 표면 화학 분석 X선 광전자 분광학 측정 및 스캐닝 거의 실시간 정보 탄소질 화합물의 표면 오염에 대한 식별 및 보정 규칙
- ISO 17721-2:2021 세라믹 타일 표면의 항균 활성 정량적 측정 테스트 방법 파트 2: 광촉매 항균제를 함유한 세라믹 타일 표면
- ISO 15471:2004 표면 화학 분석 오제 전자 분광학 선택된 기기 성능 매개변수에 대한 설명
- ISO 15471:2016 표면 화학 분석 오제 전자 분광학 선택된 기기 성능 매개변수에 대한 설명
- ISO 15470:2004 표면 화학 분석 X선 광전자 분광학 선택한 기기 성능 매개변수에 대한 설명
- ISO 24237:2005 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법 반복성 및 강도 안정성
- ISO 14644-10:2022 클린룸 및 관련 통제 환경 파트 10: 화학적으로 오염된 표면의 청결도 평가
- ISO 23812:2009 표면 화학 분석 2차 이온 질량분석기 다중 델타층 참조 물질을 사용한 실리콘 깊이 교정 방법
- ISO/TR 22335:2007 표면 화학 분석 깊이 프로파일링 스퍼터링 속도 측정: 기계식 광학 스타일러스 프로파일로미터를 사용한 메쉬 복제 방법.
- ISO 23830:2008 표면 화학 분석 2차 이온 질량 분석법 정적 2차 이온 질량 분석법의 상대 강도 범위의 반복성과 안정성
- ISO 19668:2017 표면 화학 분석 X선 광전자 분광학 균질 물질의 원소 검출 한계 추정 및 보고
- ISO/TS 22933:2022 표면 화학 분석 2차 이온 질량 분석법 시뮬레이션된 이온 질량 분석법에서 질량 분해능을 측정하는 방법.
- ISO 14644-13:2017 클린룸 및 관련 통제 환경 - 파트 13: 입자 및 화학 물질 분류와 관련하여 정의된 청결도를 달성하기 위한 표면 청소
- ISO 13365:2011 가죽 화학 테스트 액체 크로마토그래피(TCMTB, PCMC, OPP, OIT)를 통한 가죽의 방부제 성분 측정
- ISO 1409:2020 플라스틱/고무 폴리머 분산액 및 고무 라텍스(천연 및 합성)의 표면 장력 측정
- ISO 21068-3:2008 탄화규소를 함유한 원료 및 내화물의 화학적 분석 3부: 질소, 산소, 금속 및 산화 성분 측정
- ISO 17497-2:2012 음향 표면의 소리 확산 특성 1부: 자동화된 음장에서 방향 확산 계수 결정
CZ-CSN, 화학 성분 측정 표면
- CSN 91 0280-1987 가구. 표면 내화학성 측정 방법
- CSN 83 0540 Cast.28-1987 폐수의 화학적, 물리적 분석. 음이온성 계면활성제의 결정
- CSN 83 0540 Cast.29-1987 폐수의 화학적, 물리적 분석. 비이온성 계면활성제의 결정
- CSN 83 0530 Cast.29 Z2-1997 지표수의 화학적, 물리적 분석. 화학적 산소 요구량 결정
- CSN 83 0530 Cast.37-1981 지표수의 화학적, 물리적 분석. 생화학적 산소 요구량 결정
- CSN 83 0530 Cast.44-1981 지표수의 화학적, 물리적 분석. 납의 결정
- CSN 83 0530 Cast.42-1981 지표수의 화학적, 물리적 분석. 카드뮴의 결정
- CSN 83 0530 Cast.41-1981 지표수의 화학적, 물리적 분석. 아연의 결정
- CSN 83 0530 Cast.45-1981 지표수의 화학적, 물리적 분석. 크롬의 결정
- CSN 83 0530 Cast.48-1981 지표수의 화학적, 물리적 분석. 비소의 결정
- CSN 83 0530 Cast.49-1981 지표수의 화학적, 물리적 분석. 셀레늄 결정
- CSN 83 0530 Cast.40-1981 지표수의 화학적, 물리적 분석. 은의 결정
- CSN 83 0530 Cast.4-1978 지표수의 화학적, 물리적 분석. pH 값 결정
- CSN 83 0530 Cast.47-1981 지표수의 화학적, 물리적 분석. 바나듐의 결정
- CSN 83 0530 Cast.43-1981 지표수의 화학적, 물리적 분석. 수은의 결정
- CSN 83 0530 Cast.46-1981 지표수의 화학적, 물리적 분석. 니켈의 결정
- CSN 83 0530 Cast.38-1981 지표수의 화학적, 물리적 분석. 알루미늄의 결정
- CSN 83 0530 Cast.39-1981 지표수의 화학적, 물리적 분석. 구리의 결정
- CSN 70 0637 Cast.2-1986 유리의 화학적 분석. 산화납 성분의 산화바륨 측정을 위한 중량 측정법
- CSN 83 0530 Cast.12-1978 지표수의 화학적, 물리적 분석. 알칼리도 측정
- CSN 83 0530 Cast.7-1978 지표수의 화학적, 물리적 분석. 탁도 결정
- CSN 83 0530 Cast.3-1978 지표수의 화학적, 물리적 분석. 온도 결정
- CSN 83 0530 Cast.5-1978 지표수의 화학적, 물리적 분석. 냄새의 결정
- CSN 83 0530 Cast.6-1978 지표수의 화학적, 물리적 분석. 색상 결정
- CSN 83 0530 Cast.13-1978 지표수의 화학적, 물리적 분석. 산도 결정
- CSN 83 0530 Cast.11-1978 지표수의 화학적, 물리적 분석. 용존 산소 측정
- CSN 83 0530 Cast.50-1981 지표수의 화학적, 물리적 분석. 바륨 함량 측정
- CSN 83 0530 Cast.8-1978 지표수의 화학적, 물리적 분석. 투명성 결정
- CSN 83 0530 Cast.36-1981 지표수의 화학적, 물리적 분석. 원유 및 유성 물질 측정
- CSN 70 0641 Cast.3-1976 유리의 화학적 분석. 알칼리 금속 산화물의 측정. 화염 측광(합성 용액 사용)
- CSN 83 0530 Cast.10-1978 지표수의 화학적, 물리적 분석. 명확한 전해 전도도 측정
- CSN 70 0527 Cast.2-1986 규산염 유리. 유리제품의 표면추출물의 정량분석방법. 붕소 산화물 결정
- CSN 70 0527 Cast.5-1986 규산염 유리. 유리제품의 표면추출물의 정량분석방법. 산화납 측정
- CSN 70 0527 Cast.4-1986 규산염 유리. 유리제품의 표면추출물의 정량분석방법. 산화철의 결정
BR-ABNT, 화학 성분 측정 표면
KR-KS, 화학 성분 측정 표면
Japanese Industrial Standards Committee (JISC), 화학 성분 측정 표면
VN-TCVN, 화학 성분 측정 표면
Professional Standard - Forestry, 화학 성분 측정 표면
国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会, 화학 성분 측정 표면
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会, 화학 성분 측정 표면
General Administration of Quality Supervision, Inspection and Quarantine of the People‘s Republic of China, 화학 성분 측정 표면
- GB/T 27842-2011 화학 물질 동적 표면 장력 측정 신속한 버블 방법
- GB/T 29557-2013 표면 화학 분석 깊이 프로파일링 스퍼터링 깊이 측정
- GB/T 30701-2014 표면 화학 분석: 실리콘 웨이퍼 작업 표준 샘플의 표면 원소에 대한 화학 포집 방법 및 전반사 X선 형광 분광법(TXRF) 측정
- GB/T 6609.35-2023 알루미나의 화학적 분석 및 물리적 특성 측정 방법 제35부: 비표면적 측정 질소 흡착 방법
- GB/T 6609.35-2009 알루미나의 화학적 분석 및 물리적 특성 측정 방법 파트 35: 비표면적 측정 질소 흡착 방법
- GB/T 28898-2012 금속 재료의 화학 성분 분석에 대한 측정 불확도 평가
- GB/T 41805-2022 광학 부품 표면 결함의 정량적 검출 방법 미세 산란 암시야 이미징 방법
- GB/T 42543-2023 표면 화학 분석 스캐닝 프로브 현미경 캔틸레버 빔의 수직 탄성 상수 결정
- GB/T 28632-2012 표면 화학 분석오거 전자 분광법 및 X선 광전자 분광법측면 분해능 결정
- GB/Z 32490-2016 표면 화학 분석을 위해 X선 광전자 분광법을 사용한 배경 측정 절차
- GB/T 29556-2013 표면 화학 분석 오제 전자 분광법 및 X-선 광전자 분광법 분석기로 감지할 수 있는 측면 분해능, 분석 영역 및 샘플 영역 결정
- GB/T 18570.2-2009 코팅 적용 전 강철 표면 준비 표면 청결도 평가 테스트 2부: 세척된 표면의 염화물 실험실 측정
- GB/T 20176-2006 표면 화학 분석 2차 이온 질량 분석법 균일한 도핑 종을 사용하여 실리콘 내 붕소 원자 농도 측정
- GB/T 17831-1999 비이온성 계면활성제를 이용한 황산화 회분 측정을 위한 중량 분석법
- GB/T 18570.5-2005 도료 도포 전 강재 표면 처리의 표면 청정도 평가 시험 제5부, 도료 도포 전 강재 표면의 염화물 측정(이온검출관법)
- GB/T 42659-2023 표면 화학 분석 스캐닝 프로브 현미경 스캐닝 프로브 현미경을 사용한 기하학적 양 결정: 측정 시스템 교정
- GB/T 4893.8-2023 가구 표면의 물리적, 화학적 특성 테스트 8부: 내마모성 측정
- GB/T 20066-2006 강철 및 철의 화학적 조성을 결정하기 위한 시료 채취 및 준비 방법
- GB/T 14506.28-2010 규산염 암석의 화학적 분석 방법 28부: 16가지 1차 및 2차 성분 측정
- GB/T 4893.5-2013 가구 표면 페인트 필름의 물리적, 화학적 특성 테스트 - 파트 5: 두께 측정 방법
- GB/T 4893.6-2013 가구 표면 페인트 필름의 물리적, 화학적 특성 테스트 - 파트 6: 광택 측정 방법
- GB/T 18570.10-2005 코팅 적용 전 강철 표면 준비의 표면 청정도 평가를 위한 테스트 파트 10, 수용성 염화물 측정을 위한 현장 적정 방법
- GB/T 18748-2002 계면활성제 및 합성 세제의 활성 성분 분리를 측정하기 위한 표준 방법
- GB/T 4893.9-2013 가구 표면 페인트 필름의 물리적, 화학적 특성 테스트 - 파트 9: 내충격성 측정 방법
- GB/T 4893.8-2013 가구 표면 페인트 필름의 물리적, 화학적 특성 테스트 - 파트 8: 내마모성 측정
- GB/T 20505-2006 적분구법을 이용한 알루미늄 및 알루미늄 합금의 양극산화 피막의 표면 반사 특성 측정
- GB/T 24514-2009 강철 표면의 아연 기반 및/또는 알루미늄 기반 코팅의 단위 면적당 코팅 품질 및 화학 조성 측정 중량법, 유도 결합 플라즈마 원자 방출 분광법 및 화염 원자 흡수 분광법
- GB/T 4893.7-2013 가구 표면 페인트 필름의 물리적, 화학적 특성 테스트 - 파트 7: 고온 및 저온 온도차 저항 측정
Professional Standard - Medicine, 화학 성분 측정 표면
Association Francaise de Normalisation, 화학 성분 측정 표면
- NF S91-314*NF EN ISO 21530:2004 치과 장비 표면에 사용되는 재료의 화학적 소독제에 대한 내성 측정
- NF X21-053*NF ISO 14707:2006 표면 화학 분석 글로우 방전 광학 방출 분광법(GD-OES) 사용 지침
- FD A54-109*FD ISO/TR 4644:2021 니켈, 니켈-철 및 니켈 합금의 화학적 조성을 결정하는 표준
- FD CEN/TR 10261:2019 강철 및 주철의 화학 성분 결정을 위한 유럽 표준
- FD ISO/TR 4644:2021 니켈, 페로니켈 및 니켈 합금 - 화학 성분 결정을 위한 사양
- NF P90-147*NF EN 14955:2005 스포츠 표면 야외 스포츠 경기장의 느슨한 슬래그 표면의 조성 및 입자 형태 결정
- NF X21-051*NF ISO 17560:2006 표면 화학 분석 실리콘 내 붕소의 재생 이온 질량 분광 측정 딥 프로파일링 방법
- NF X20-302:1974 가스 분석용 질량 분석기 가스의 화학적 조성 결정
- NF EN ISO 25178-73:2019 기하학적 제품 사양(GPS) - 표면 마감: 표면 - 파트 73: 물리화학적 측정의 표면 결함에 대한 용어 및 정의
- NF T73-286*NF EN 13268:2001 계면활성제 에틸렌옥사이드 및 프로필렌옥사이드 부가물에서 에틸렌옥사이드 및 프로필렌옥사이드 그룹 측정
- NF ISO 6842:1989 계면활성제. 에톡실화된 알코올과 알킬페놀의 황산염. 총 활성 성분 함량의 결정.
- NF ISO 24236:2006 표면 화학 분석을 위한 Auger 전자 스펙트럼 에너지 준위의 반복성과 불변성
- NF X21-061:2008 표면 화학 분석나선형 전자 분광법 및 X선 광전자 분광법측면 해상도 결정
- NF ISO 17721-2:2021 세라믹 타일 표면의 항균 활성을 정량적으로 측정하는 테스트 방법 2부: 표면 광촉매 항균제를 포함하는 세라믹 타일
- NF EN ISO 21530:2004 치과 치과 장비 표면에 사용되는 재료 화학적 소독제에 대한 내성 결정
- NF X21-070*NF ISO 14237:2010 표면 화학 분석 2차 이온 질량 분석법 균일한 도핑 종을 사용하여 실리콘 내 붕소 원자 농도 측정
- NF EN 14349:2012 화학 방부제 및 소독제 - 수의학 분야에서 비다공성 표면에 사용되는 화학 방부제 및 소독제의 비기능성 살균 활성을 평가하기 위한 정량 표면 테스트입니다.
- NF ISO 17560:2006 표면 화학 분석 2차 이온 질량 분석법 두께 분석을 통한 실리콘 내 붕소 함량 결정
- NF EN 13270:2001 계면활성제 알킬 디메틸 베타인의 활성 성분 함량 측정
- NF EN 15109:2007 계면활성제 알킬아미도프로필 베타인의 활성 성분 함량 측정
- NF P61-613-2*NF ISO 17721-2:2021 세라믹 타일 표면의 항균 활성을 정량적으로 측정하는 시험 방법 - 2부: 광촉매 항균제가 도핑된 세라믹 타일 표면
- NF EN 16438:2014 화학 방부제 및 소독제 - 수의학 분야에서 비다공성 표면에 사용되는 화학 방부제 및 소독제의 살균 또는 효모 살균 활성을 평가하기 위한 정량 표면 테스트입니다.
- NF D25-501-2*NF EN 1388-2:1996 식품과 접촉하는 재료 및 물품의 실리콘 처리된 표면 파트 2: 세라믹 이외의 실리콘 처리된 표면에서 방출된 납 및 카드뮴 측정
- NF EN 1264-5:2021 통합 유압식 표면 가열 및 냉각 시스템 - 5부: 바닥, 천장 및 벽에 통합된 가열 및 냉각 표면에서 발생하는 열 방출 측정
- NF EN ISO 19712-3:2022 플라스틱 견고한 장식 표면 피복 재료 3부: 성능 결정 성형 제품
- NF T73-259:1973 산 가수분해에 대한 계면활성제 음이온 활성 물질의 안정성 미량 성분 측정
- NF EN ISO 2871-1:2010 계면활성제 세제 양이온 활성 성분 함량 측정 파트 1: 고분자량 양이온 활성 성분
- NF A06-383*NF EN 10318:2005 아연 및 알루미늄 기반 금속 코팅의 두께 및 화학적 조성을 측정하는 기존 방법
- NF X21-064*NF ISO 23830:2009 표면 화학 분석 2차 이온 질량 분석법 정적 2차 이온 질량 분석법의 상대 강도 범위의 반복성과 안정성
- NF B49-423-3*NF EN ISO 21068-3:2008 탄화규소를 함유한 원료 및 내화물의 화학적 분석 3부: 질소, 산소, 금속 및 산화 성분 측정
- NF A91-139-1*NF EN 15042-1:2006 표면파를 이용한 코팅 두께 측정 및 표면 특성화 1부: 레이저 유도 표면탄성파 방법을 사용한 개별 필름 층의 탄성 상수, 밀도 및 두께 결정을 위한 지침
- NF G07-178-4*NF EN ISO 12947-4:1999 직물 - Maldinadar 방법을 통한 섬유의 내마모성 측정 - 4부: 표면 변화 평가
- NF A01-800:2018 주조 제품, 주철 및 주강, 화학적 조성 측정을 위한 샘플 샘플링 및 준비
- NF A01-800:1986 주조 제품, 화학 성분 결정을 위한 샘플 샘플링 및 준비, 주철 및 주강
German Institute for Standardization, 화학 성분 측정 표면
RU-GOST R, 화학 성분 측정 표면
- GOST 33096-2014 가정용 화학물질 고체 표면의 녹 제거율 측정 방법
- GOST 938.4-1970 가죽 화학 성분 계산 지수 결정
- GOST 32362-2013 무기 유리 및 결정질 재료 화학 조성 결정 주요 화학 성분 함량 결정 방법에 대한 일반 요구 사항
- GOST R 59570-2021 에탄올 및 기타 물리화학적 화합물의 원산지 결정을 위한 와인 제조 제품 식별
- GOST 33419-2015 환경에 유해한 화학물질 테스트 수용액의 표면 장력 측정
- GOST R 51018-1997 가정용 화학물질 - 비이온성 계면활성제 측정 방법
- GOST R 51022-1997 가정용 화학물질 - 음이온 계면활성제 측정
- GOST 32466-2013 가정용 화학물질, 비이온성 계면활성제 측정 방법
- GOST 32442-2013 가정용 화학물질 음이온 계면활성제 측정 방법
- GOST 28654-1990 분쇄재료 및 전기옥, 화학성분의 결정
- GOST 7122-1981 용접 및 용융 금속 화학 성분 측정을 위한 샘플링 방법
- GOST R 59592-2021 고체 광물 연료의 회분 화학적 조성 측정 방법
- GOST 32439-2013 가정용 화학물질, 알칼리 함량 측정 방법
- GOST R 51019-1997 가정용 화학물질 - 알칼리성 성분 측정
- GOST 7565-1981 철강 및 합금 화학 조성 측정을 위한 샘플링 방법
- GOST R ISO 14284-2009 강철 화학 성분 결정을 위한 샘플 준비 및 샘플링
- GOST R ISO 16962-2012 강철 표면의 아연 기반 및/또는 알루미늄 기반 코팅 글로우 방전 원자 방출 분광법을 사용하여 단위 면적당 코팅 두께, 화학적 조성 및 품질을 결정합니다.
- GOST R 56250-2014 유리 섬유, 실리카 섬유, 화학 조성 측정 방법
- GOST 33850-2016 토양X-선 형광 분광법을 통한 화학 조성 측정
- GOST 22567.14-1993 합성세제, 계면활성물질 및 비누의 수분함량 측정
- GOST 22567.14-1984 합성세제 계면활성물질 및 비누의 수분함량 측정
- GOST 19892-1974 물질의 물리적, 화학적 특성과 구성을 결정하는 데 사용되는 음향 기기 용어 및 정의
- GOST 29232-1991 음이온 및 비이온성 표면 활성 물질 콜로이드 입자 형성을 위한 일반적인 농도 측정 필름, U자형 다이 또는 링 다이를 사용한 표면 장력 측정 방법
- GOST R ISO 10303-507-2009 산업 자동화 시스템 및 통합 제품 데이터 표시 및 교환 파트 507: 애플리케이션 클래스 구성 기하학적 표면
- GOST R ISO 27911-2015 측정 일관성을 보장하기 위한 국가 시스템 표면 화학 분석 스캐닝 프로브 현미경 근접장 광학 현미경의 측면 해상도 정의 및 교정
- GOST R 55879-2013 고체 화석 연료 X선 형광 분광법을 사용한 재의 화학적 조성 결정
- GOST R ISO 17925-2012 강철 표면의 아연 기반 및/또는 알루미늄 기반 코팅 단위 면적당 코팅의 질량 및 화학적 조성 측정 중량 측정법, 유도 결합 플라즈마 원자 방출 분광법 및 화염 원자 흡수 분광법
- GOST R ISO 16242-2016 측정 일관성을 보장하기 위한 국가 시스템 표면 화학 분석 AES(Auger 전자 분광학) 데이터 기록 및 보고
- GOST R ISO 17497-2-2014 음향, 표면 소리 산란 특성, 2부. 자유장에서 방향 확산 계수 측정
RO-ASRO, 화학 성분 측정 표면
CEN - European Committee for Standardization, 화학 성분 측정 표면
Danish Standards Foundation, 화학 성분 측정 표면
Professional Standard - Chemical Industry, 화학 성분 측정 표면
European Committee for Standardization (CEN), 화학 성분 측정 표면
IN-BIS, 화학 성분 측정 표면
HU-MSZT, 화학 성분 측정 표면
IT-UNI, 화학 성분 측정 표면
BE-NBN, 화학 성분 측정 표면
PL-PKN, 화학 성분 측정 표면
Professional Standard - China Metal Association, 화학 성분 측정 표면
未注明发布机构, 화학 성분 측정 표면
American Society for Testing and Materials (ASTM), 화학 성분 측정 표면
Lithuanian Standards Office , 화학 성분 측정 표면
AENOR, 화학 성분 측정 표면
未注明发布机构, 화학 성분 측정 표면
CU-NC, 화학 성분 측정 표면
Professional Standard - Commodity Inspection, 화학 성분 측정 표면
American National Standards Institute （ANSI), 화학 성분 측정 표면
Standard Association of Australia （SAA）, 화학 성분 측정 표면
Hubei Provincial Standard of the People's Republic of China, 화학 성분 측정 표면
国家能源局, 화학 성분 측정 표면
TH-TISI, 화학 성분 측정 표면
Professional Standard - Non-ferrous Metal, 화학 성분 측정 표면
AT-ON, 화학 성분 측정 표면
YU-JUS, 화학 성분 측정 표면
TR-TSE, 화학 성분 측정 표면
- TS 607-1968 활성산소 망간 광석(전통적으로 이산화망간으로 표현됨) 측정을 위한 화학적 분석 방법
Professional Standard - Aviation, 화학 성분 측정 표면
ES-UNE, 화학 성분 측정 표면
Group Standards of the People's Republic of China, 화학 성분 측정 표면
Military Standard of the People's Republic of China-General Armament Department, 화학 성분 측정 표면
农业农村部, 화학 성분 측정 표면