H66 稀有分散金属及其合金 标准查询与下载
共找到 64 条与 稀有分散金属及其合金 相关的标准，共 5 页
GB/T 23362的本部分规定了高纯氢氧化铟中铝、铁、铜、锌、镉、铅和铊量的测定方法。 本部分适用于高纯氢氧化铟中铝、铁、铜、锌、镉、铅和铊量的测定，测定范围（质量分数）为铝、铁、锌、铅0.00005％～0.0040％，铜、镉、铊0.00002％～0.0040％。
Methods for chemical analysis of high purity indium hydroxide.Part 3:Determination of aluminum,iron,copper,zinc,cadmium,lead and thallium content- inductively coupled plasma mass spectrometry
- ICS
- 77.120
- CCS
- H66
- 发布
- 2009-03-19
- 实施
- 2010-01-01
GB/T 23362的本部分规定了高纯氢氧化铟中氯量的测定方法。 本部分适用于高纯氢氧化铟中氯量的测定，测定范围（质量分数）为0.025％～0.80％。
Methods for chemical analysis of high purity indium hydroxide.Part 5:Determination of chlorine content.Mercuic sulfocyanide spectrophotometry
- ICS
- 77.120
- CCS
- H66
- 发布
- 2009-03-19
- 实施
- 2010-01-01
本标准规定了高纯氧化铟的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及订货单（或合同）内容。 本标准适用于以金属铟为原料，经净化、中和、沉淀和焙烧制得的高纯氧化铟，产品主要用于制取碱性电池、ITO及电子元件材料等。 分子式：InO 相对分子质量：277.63（按2007年国际相对原子质量）
High purity indium oxide
- ICS
- 77.120
- CCS
- H66
- 发布
- 2009-03-19
- 实施
- 2010-01-01
GB/T 23364的本部分规定了高纯氧化铟中砷量的测定方法。 本部分适用于高纯氧化铟中砷量的测定，测定范围（质量分数）为0.00001～0.0050％。
Methods for chemical analysis of high purity indium oxide.Part 1:Determination of arsenic content.Atomic fluorescence spectrometry
- ICS
- 77.120
- CCS
- H66
- 发布
- 2009-03-19
- 实施
- 2010-01-01
GB/T 23364的本部分规定了高纯氧化铟中锡量的测定方法。 本部分适用于高纯氧化铟中锡量的测定，测定范围（质量分数）为0.00005～0.0040％。
Methods for chemical analysis of high purity indium oxide.Part 2:Determination of tin content.Phenylfluorone spectrophotometry
- ICS
- 77.120
- CCS
- H66
- 发布
- 2009-03-19
- 实施
- 2010-01-01
GB/T 23364的本部分规定了高纯氧化铟中锑量的测定方法。 本部分适用于高纯氧化铟中锑量的测定，测定范围（质量分数）为0.00001～0.0080％。
Methods for chemical analysis of high purity indium oxide.Part 3:Determination of antimony content.Atomic fluorescenece spectrometry
- ICS
- 77.120
- CCS
- H66
- 发布
- 2009-03-19
- 实施
- 2010-01-01
GB/T 23364的本部分规定了高纯氧化铟中铝、铁、铜、锌、镉、铅和铊量的测定方法。 本部分适用于高纯氧化铟中铝、铁、铜、锌、镉、铅和铊量的测定。 测定范围（质量分数）为铝、锌、铅0.00005％～0.0040％，铜、镉、铊0.00002％～0.0040％。
Methods for chemical analysis of high purity indium oxide.Part 4:Determination of aluminum,iron,copper,zinc,cadmium,lead and thallium content.Inductively coupled plasma mass spectrometry
- ICS
- 77.120
- CCS
- H66
- 发布
- 2009-03-19
- 实施
- 2010-01-01
GB/T 23364的本部分规定了高纯氧化铟中氯量的测定方法。 本部分适用于高纯氧化铟中氯量的测定，测定范围（质量分数）为0.0025％～0.80％。
Methods for chemical analysis of high purity indium oxide.Part 5:Determination of chlorine content.Mercuric sulfocyanide spectrophotometry
- ICS
- 77.120
- CCS
- H66
- 发布
- 2009-03-19
- 实施
- 2010-01-01
GB/T 23364的本部分规定了高纯氧化铟的灼减量的测定方法。 本部分适用于高纯氧化铟的灼减量的测定，测定范围（质量分数）为0.05％～1.00％。
Methods for chemical analysis of high purity indium oxide.Part 6:Determination of the loss on ignition.Gravimetric analysis
- ICS
- 77.120
- CCS
- H66
- 发布
- 2009-03-19
- 实施
- 2010-01-01
本标准规定了镓（Ga）的要求、试验方法、检验规则、包装、运输、贮存等。 本标准适用于氧化铝生产过程中回收制取的工业镓（99.9％～99.999％）和以工业镓为原料经电解精炼等方法制取的高纯镓（99.999 9％～99.999 99％）。
Gallium
- ICS
- 77.120.99
- CCS
- H66
- 发布
- 2005-07-04
- 实施
- 2005-12-01
本标准规定了高纯二氧化锗的产品分类、技术要求、试验方法和检验规则等。 本标准适用于以高纯四氯化锗为原料，经水解、洗涤和烘干制得的二氧化锗。产品供制作还原锗、有机锗和催化剂等用。
High purity germanium dioxide
- ICS
- 71.060.20
- CCS
- H66
- 发布
- 1989-03-31
- 实施
- 1990-02-01
本标准规定了镓的技术要求，试验方法，检验规则和标志、包装、运输、贮存等。 本标准适用于氧化铝生产过程中回收的、供制取高纯镓等用的工业镓。
Gallium
- ICS
- 29.040.30
- CCS
- H66
- 发布
- 1989-03-22
- 实施
- 1990-01-01
本标准规定了高纯镓的产品分类、技术要求、试验方法、检验规则和包装运输等。 本标准适用于以纯度不小于99.99％的工业镓为原料，经电解精炼等制得的纯度不小于99.9999％的镓；再以此为原料，经拉制单晶或其他提纯工艺等制得的纯度不小于99.99999％的镓。产品供制备化合物半导体材料和高纯合金等用。
High purity gallium
- ICS
- 77.120.70
- CCS
- H66
- 发布
- 1988-12-10
- 实施
- 1989-12-01
Monocrystalline germanium and monocrystalline germanium slices
- ICS
- CCS
- H66
- 发布
- 实施
本文件适用于以金属铟和金属镁为原料，经渗氢法制得的三甲基铟用铟镁合金。
Indium magnesium alloy
- ICS
- 77.120.99
- CCS
- H66
- 发布
- 2022-09-30
- 实施
- 2023-04-01
