磁控溅射类石墨镀层结构的Raman 光谱和XPS 分析

摘要：
利用非平衡磁控溅射离子镀技术在单晶硅片上沉积了类石墨碳镀层,采用X 射线衍射（XRD） 、激光Raman 光谱和X 射线光电子能谱（XPS） 等分析方法对镀层的微观结构进行了研究。结果表明：不同成份类石墨碳镀层的Raman 光谱与宽化的多晶石墨Raman 光谱相似,类石墨碳镀层是以sp2 键结构为主，且含有多种纳米团簇颗粒的非晶镀层，sp3 键含量在12～15 %范围；根据高斯解谱计算,镀层中碳团簇线度为1. 2 nm 以下，并随铬含量增高而减小；镀层主要由单质碳、铬及其铬氧化物组成，并随铬含量增高，逐步有碳铬化合物形成。