不同电位影响52硝基吲哚电化学聚合的光谱分析

摘　要　三氟化硼乙醚+ 10 %乙醚体系中, 恒电位(1123～2123 V vs1 SCE) 条件下可以获得高质量聚膜( PNI) , 这是首次获得硝基取代高性能导电高分子膜材料。52硝基吲哚(NI) 的起始氧化电位为1104 V vs1SCE。电流2时间曲线、FTIR 和1 H NMR 结果均表明聚合电位对PNI 膜质量有较大影响。低电位有利于NI的聚合, 且有利于增加PNI 膜的共轭链长; 高电位会导致NI 的副反应, 从而降低PNI 膜的质量。同时红外光谱和1 H NMR 研究表明, NI 的电化学聚合是通过2 , 3 位进行的。