先进栅叠层的在线光谱分析法

为了控制漏电流,保证先进栅结构等效栅氧化层（EOT）可以持续地等比例缩小，工业界开始应用铪基高介电常数(高k)栅绝缘层介质，而这需要精确的工艺监控和控制。铪基薄膜以及位于高k栅介质和硅衬底之间的界面层（IL）的厚度与组分的细微偏差，都将极大的影响到晶体管最终的电学性能。随着器件按照摩尔定律快速地等比例缩小，如何便捷可靠地监控栅叠层薄膜的物理特性，成为量测技术的关键挑战。