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首页 > 产品展示 >  > EMS150 T离子溅射镀膜仪

EMS150 T离子溅射镀膜仪

参考报价: 面议 型号: EMS150 T
品牌: EMS 产地: 美国
关注度: 14 信息完整度:
样本: 典型用户: 暂无
供应商性质生产商产地类别进口
溅射气体 氩气样品台尺寸 Dia57mm
控制方式: 自动样品仓尺寸 Dia150mm
靶材尺寸 Dia57mm靶材材质 金,银铬
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  EMS150 T离子溅射镀膜仪的机壳是整体成型的,结构坚固耐用,配有气冷的70L/S的涡轮分子泵,自动进气控制保证了溅射期间最佳的真空水平,真空腔室直径为165mm并带有防爆装置。EMS150T具有“真空闭锁”功能,可在设备不工作时维持腔室的真空度,从而保证高真空的性能。

        EMS150 T离子溅射镀膜仪系列全自动高真空离子溅射/热蒸发一体化镀膜仪给用户以类似傻瓜相机的简单操作、顶级的镀膜质量和对熟手/新手都很理想的用户界面,让用户真正领略至臻完美的镀膜品质!

        EMS150 T离子溅射镀膜仪根据不同的应用方向,EMS150T细分为三个型号:

EMS150TS高分辨率溅射镀膜仪High Resolution Turbomolecular Pumped Sputter Coater,可溅射易氧化和不易氧化金属,可选各种溅射靶材,包括场发射电镜常用的铱和鉻。

EMS150TE高真空镀碳仪,可制作高稳定的碳膜和表面覆形膜,是TEM应用最理想的选择。

EMS150TES:集合了离子溅射和热蒸镀两种真空沉积镀膜方式,镀膜头可在几秒内快速更换,只能逻辑系统自动识别所装的镀膜头类型,并显示相应的操作模式。

注:上述各型号都可配备如下可选的附件:金属蒸镀、碳丝蒸镀、膜厚测量等

触摸屏控制:

EMS150 T离子溅射镀膜仪操作十分简单,直观的触摸屏,即使最不熟练的操作者也可以自由操作,同时可方便的键入和存储数据。为了方便使用,设备中已经预存一些了典型的溅射和蒸发镀膜参数资料。

镀膜插入头选项:

具有一系列可互换、即插即用的镀膜插入头

溅射插入头适用于易氧化和不易氧化金属材料,直径57mmX0.3mm厚鉻靶为标准靶材

可用另外的溅射插入头来快速更换镀膜材料(仅为TS和TES型号)

适用于3.05mm碳棒蒸发插入头

适用于6.15mm碳棒蒸发头,建议使用3.05mm直径的碳棒,它们更容易控制、更经济

碳丝蒸发插入头

金属蒸发和光阑洁净头,包括向上蒸发或向下蒸发(仅为TE和TES型号)

样品台选项

EMS150T具有各种易更换的样品台,drop-in落入式设计具高度可调(除旋转行星台)。

标准配置为旋转台, 直径为50mm

可预设倾斜角度的旋转台(可选)

可变角度旋转行星台(可选)

可用于4〞晶圆的平面旋转台(可选)

显微镜载玻片样品台(可选)

其它选项

用于高样品的加高腔室

膜厚监测器(FTM)

用于测量低和高真空的全范围真空计

特点和优点:

金属溅射或碳蒸发或两者兼备:一体化设计,节约空间

精细颗粒溅射:高分辨率场发射扫描电镜(FE-SEM)制样的精细镀膜应用 

涡轮分子泵高真空系统:允许不氧化贵金属和易氧化其它金属靶材的溅射镀膜,大大拓宽了可溅射靶材范围,既适合普通SEM、高分辨率FE-SEM镀膜制样应用,也为许多薄膜应用等材料科研领域提供理想的镀膜平台 

全自动触摸屏控制:快速数据输入,简单操作 

可储存多个客户自定义镀膜方案:对多用户实验室十分理想 

与镀膜过程和镀膜材料相匹配的预编程自动真空控制 

精细的厚度控制:使用膜厚监控选项 

“智能”式系统识别:自动感知用户所装的插入式镀膜头的类型 

高真空碳蒸镀:对SEM和TEM镀碳膜应用非常理想 

蒸发电流波形控制 

Drop-in落入式快换样品台(标配旋转台) 

真空闭锁功能:可让工作腔室处于真空状态,改善后续真空效果,或在真空条件下保存样品

镀制厚膜能力:一次真空条件下的溅射时间可长达60分钟(材料科研领域的应用)

人体工程学设计的整体成型机壳:易维护和易拆装 

带有本地FTP服务器连接的以太网端口:简单的程序更新 

设有功率因素补偿,有效利用电能,降低运行成本 

符合当前电器法规(CE认证) 

EMS150 T离子溅射镀膜仪仪器参数: 

仪器尺寸

585mm宽*470mm*410mm高(总高650mm)

重量

33.4KG

工作腔室

150mm(内径)*127mm(高)硼硅酸盐玻璃腔室,并带整体安全防护罩

触摸屏用户界面

带有触摸按钮的全图像界面,包含多达十个镀膜程序,可提醒何时需要维护

工作腔室

150mm(内径)*127mm(高)硼硅酸盐玻璃腔室,并带整体安全防护罩

样品台

转速为8-20rpm的旋转台

真空系统

涡轮子分子泵:带有内部空气却的涡轮分子泵,抽速为70L/s

旋转机械泵:抽速为50L/m的两级旋转机械泵,带有油污过滤器

真空测量

皮拉尼真空计作为标配

极限真空度

10-5mbar两级

电源需求

90-250V~50/60Hz 1400VA( 包括旋转机械泵电压240V)

气体

溅射工作气体氩气,99.999%(TS和TES版本);氮气,放气破真空气体(可选)

金属蒸发和光阑清洁头

用于源自钨丝篮或舟的金属热蒸发。可配备一个标准钼舟用于清洁SEM或TEM光阑

碳蒸发

稳定的无纹波直流电源控制的脉冲蒸发,确保源自碳棒或碳丝的可重复蒸碳

电流脉冲

1-90安培

溅射

0-150mA。可预设膜厚(需FTM选项)或使用内置定时器

溅射工作真空范围

5*10-3到5*10-1mbar

溅射靶材和碳耗材供应

EMS150TS和EMS150TES标配铬靶,但可选用的其它靶材范围很宽,包括那些广泛用于SEM制样的靶材,如:Au金靶,Au/pd金钯,Pt铂靶,和Iridium铱靶。对非SEM应用,可选用的靶材包括:AI铝,Ta钽,ITO氧化铟锡,Fe铁,W钨,Ti钛,等等:碳制品包括高纯度碳丝。


EMS150 T离子溅射镀膜仪信息由海德创业(北京)生物科技有限公司为您提供,如您想了解更多关于EMS150 T离子溅射镀膜仪报价、型号、参数等信息,欢迎来电或留言咨询。

注:该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案,不可用于临床诊断或治疗等相关用途

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