仪器简介：
美国NANOMASTER公司提供高性能反应离子刻蚀系统，能够满足多种金属和非金属刻蚀的需要。该系统可以选用RF、空阴极等离子体、感应耦合等离子体（ICP）和微波等离子体源来满足不同材料刻蚀的需要。

技术参数：
控制： PC控制（Lab View）
腔： 13寸铝质
基座托： 13℃水冷 -120℃低温制冷
气体供应：喷头，MFC，SS管路 气体环
等离子源：RF平板，P-100空阴极，感应耦合等离子源（ICP)
直流偏压：-500V自偏压、-1000V偏压
基本真空 E-6Torr－E-7Torr
工艺压力 0.02-8Torr、0.001Torr以上
射频电源 600W,1000W，2000W选项
真空泵 200L/sec耐腐蚀涡轮泵、500L/sec耐腐蚀涡轮泵
电源 110/220V 三相电，40/20A


主要特点：
NRE-3000 桌面式反应离子刻蚀系统
NRE-4000 立式反应离子刻蚀系统
NRP-4000 反应离子刻蚀（RIE）和PECVD双系统
NDR-4000 深反应离子刻蚀系统

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途