XBS 分子束外延沉积速率监测/控制系统

描述：Hiden的XBS系统通过实时信号输出对多个来源进行现场监测，以精确控制沉积。

XBS三级滤过四极质谱(MBE Deposition Rate Monitoring / Control System)，适于精确的MBE分析，其他气体分析和科学实验使用。Windows™ 界面的MASsoft软件通过RS232、RS485 或以太网控制。

特点 

·离子源控制，用于软离子化和表观电势质谱
·灵敏度增强用于大质量数的传输，自动质量数范围列表

·一级过滤处增加射频，抗污染物能力增强
·内置UHV 兼容的水冷却罩

参数 

·灵敏度高，检测范围：  100% 至5ppb

·质量数范围：0~ 510amu
·长期稳定性：24h以上，峰高变化小于±0.5%)
·交叉离子源，束接收角同轴的横断面呈 ±35°
·2mm 束接受孔，也可为特殊使用者配置
·分子束研究中，检测极限低至30 ions/s
·监测生长速率：1Å / min，或更低

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途