2018中国ald会议

Angstrom Dep III等离子体增强原子层沉积系统(PEALD）

埃米, 原子层沉积是在一个加热反应的衬底上连续引入至少两种气相前驱体源，化学吸附至表面饱和时自动终止，适当的过程温度阻碍了分子在表面的物理吸附。一个基本的原子层沉积循环包括四个步骤：脉冲A，清洗A，脉冲B和清洗B。沉积循环不断重复直至获得所需的薄膜厚度，是制作纳米结构从而形成纳米器件极佳的工具。

等离子体增强型原子层沉积PEALD

Picosun, 等离子体增强型原子层沉积PEALD介绍： PICOFLOW™ 扩散增强器 PICOFLOW™扩散增强器用于提升深沟槽、高深宽比样品的薄膜质量。同样适用于多孔、通孔、柔性样品，粉末及其他复杂纳米结构的样品。该装置兼容所有Picosun™ ALD设备。

芬兰原子层沉积设备PICOSUN™ALD- P300系列

Picosun, 名称：原子层沉积系统 品牌：PICOSUN 产地：芬兰 型号：PICOSUN™ ALD- P300系列

美国ARRADIANCE台式原子层沉积系统

Arradiance, 台式三维原子层沉积系统ALD 原子层沉积（Atomic layer deposition, ALD）是通过将气相前驱体脉冲交替的通入反应器，化学吸附在沉积衬底上并反应形成沉积膜的一种方法，是一种可以将物质以单原子膜形式逐层的镀在衬底表面的方法。因此，它是一种真正的纳米技术，以精确控制方式实现纳米级的超薄薄膜沉积。由于ALD利用的是饱和化学吸附的特性，因此可以确保对大面积、多空、管状、粉末或其他复杂形状基体的高保形的均匀沉积。

牛津仪器OPAL原子层沉积系统（ALD）

牛津仪器, 紧凑型开放式样品载入原子层沉积（ALD）系统 OpAL提供了独一无二的热ALD设备，可以简单明了的升级使用等离子体，使得在同一紧凑设备中集成了等离子体和热ALD。 开放式样品载入热ALD，集成等离子体技术 现场升级到可使用等离子体 从小晶片到200mm大晶片 适用于学术、产业、研发的热和/或等离子体化学产品，可用于： 氧化物： HfO2, Al2O3, TiO2, SiO2, ZnO, Ta2O5 氮化物：TiN, Si3N4 金属： Ru, Pt

薄膜沉积制备系统 芬兰PICOSUN™ R200系列

Picosun, 名称：原子层沉积系统（薄膜沉积制备系统） 品牌：PICOSUN 产地：芬兰 型号：PICOSUN™ R200系列

芬兰原子层沉积技术PICOSUN™ALD-P300BV

Picosun, 芬兰原子层沉积技术PICOSUN™ALD-P300BV： PICOSUN™ P-300系统已经成为高产能ALD制造业的新标准。拥有zl的热壁、完全独立的前驱体管路和特殊的载气设计，确保我们可以生产出具有优异的成品率、低颗粒水平和卓越的电学和光学性能的高质量ALD薄膜。高效紧凑的设计使得维护更加方便、快捷，zei大限度的减少了系统的维护停工期和使用成本。拥有zl技术的Picoflow™使得在超高深宽比结构上沉积保形性薄膜更高效，并已在生产线上得到验证。 PICOSUN™ P-300BV系统代表了zei尖端的工业化ALD工艺水平。这个系统是为半自动化的批量生产而设计。设备本身针对快速批量生产进行了优化，并允许通过SECS/GEM整合到自动化生产线上。拥有加热选项的真空加载系统可以对敏感的基底进行洁净加工并沉积金属氮化物薄膜。

ALD原子层沉积设备-SVT

SVT Associates, 美国SVT公司ALD原子层沉积系统 自1990年来薄膜淀积设备顶级制造商。 拥有独立的室内实验室用于材料研究和工艺开发。 提供广泛的服务，包括淀积设备、淀积部件、集成传感器以及工艺控制 设备制造和工艺技术的高度结合，为客户提供可靠的技术服务 实验室7台应用淀积设备生长出世界级的材料 多条设备生产线几乎覆盖了整个薄膜淀积设备市场 在薄膜淀积领域拥有超过120台设备的顶级供应商。

薄膜沉积系统PICOSUN™R-200高级型

Picosun, 薄膜沉积系统PICOSUN™R-200高级型 介绍： PICOSUN™ R系列独特的扩展性使ALD工艺可以从研究环境直接过渡到生产环境的PICOSUN™ P系列ALD系统。由于研发型与生产型PICOSUN™反应腔室核心设计特点都是相同的,这消除了实验室与制造车间之间的鸿沟。对大学来说,突破创新的技术转化到生产中，就会吸引到企业投资。PICOSUN™ R系列设备提供高质量ALD薄膜的沉积技术，并在各种各样的衬底上都表现极佳的均匀性，包括zei具挑战性的通孔的、超高深宽比和颗粒等样品。我们为液体、气体和固体化学物提供的更高级的，易更换的前驱源系统，能够在晶圆、3D样品和各种纳米特性的样品上生长颗粒度zei小的薄膜层。

原子层沉积技术ALD-P1000

Picosun, 原子层沉积技术ALD-P1000专门对于3D结构物体进行批量涂层加工。例如：机械零件、玻璃或金属片、硬币、珠宝以及医疗植入物等。PICOSUN™ P-1000系统专门对于3D结构物体进行批量涂层加工，例如：机械零件、玻璃或金属片、硬币、珠宝以及医疗植入器械。主要的应用包括制备各种各样的钝化层和阻挡层，显著提高器件的性能和寿命。巧妙、创新的设计使得PICOSUN™ P-1000 ALD系统在具有制备高均一性的高质量ALD薄膜的同时能够有很高的产量，并且是市场上保养、维护时间zei低，购置成本zei小的ALD系统。这些都已经在实际生产中得到证实。可靠、快速且易于维护PICOSUN™ P-1000ALD系统代表了zei尖端的工业化ALD工艺水平！ Picosun的ALD技术应用在钟表部件、珠宝、硬币上进行防着色，防腐蚀的装饰涂层。在生物植入医疗部件上的生物兼容、生物活性涂层。致密、惰性、密封、弹性、透明的ALD薄膜技术挑战传统的膜生长方式。在PCB防腐蚀保护、防摩损等领域，ALD层大大提升了部件的质量、可靠性及寿命。