ASTM UOP972-01
使用 ICP-OES 分析乙酸中的铝、硅和银

Aluminum, Silicon and Silver in Acetic Acid by ICP-OES


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标准号
ASTM UOP972-01
发布
2002年
发布单位
美国材料与试验协会
当前最新
ASTM UOP972-01
 
 
该方法用于通过电感耦合等离子体发射光谱法 (ICP-OES) 测定乙酸中铝、硅和银的痕量(质量 ppm)浓度。铝、硅和银的检测下限分别为 0.1 质量 ppm、1 质量 ppm 和 0.01 质量 ppm。测定上限约为 100 质量 ppm。该方法也适用于其他金属的测定,但尚未得到验证。

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