T/GVS 002-2021
高精度磁控溅射镀膜设备通用技术要求
Generic specification for high precision magnetron sputtering coating plant
- 标准号
- T/GVS 002-2021
- 发布
- 2021年
- 发布单位
- 中国团体标准
- 当前最新
- T/GVS 002-2021
- 适用范围
- 规定了高精度磁控溅射镀膜设备的术语和定义、组成、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存。适用于极限压力在10-5 Pa～10-3 Pa范围的高精度磁控溅射镀膜设备（以下简称“设备”）。
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